CN220413508U - 磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备。磁控溅射设备包括：镀膜腔，镀膜腔的内部的上方具有靶材；双轴驱动装置，与镀膜腔隔开并设置在镀膜腔的上方，双轴驱动装置具有：第一驱动部，沿第一方向驱动，第二驱动部，沿与第一方向正交的第二方向驱动，联接部，分别与第一驱动部以及第二驱动部连接，联接部具有第一调节单元以及第二调节单元，第一调节单元与第一驱动部连接并沿第二方向可自由调节，第二调节单元与第二驱动部连接并沿第一方向可自由调节；磁控元件，与镀膜腔隔开并位于靶材的上方，磁控元件安装到第一调节单元或者第二调节单元。本实用新型的磁控溅射设备能够实现使磁控元件在真空腔内沿平面方向被驱动。

Description

磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备

技术领域

本实用新型涉及但不限于真空设备技术领域，尤其涉及磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备。

背景技术

基于电机驱动的单轴或者多轴机械臂(驱动装置)被广泛地使用在自动化设备中。在作为多轴机械臂使用的情况下，通常以使单轴机械臂的驱动方向正交的方式进行叠加，从而形成例如两轴机械臂或者三轴机械臂。

此外，在真空设备当中，有时也需要对真空腔内的部件进行驱动。用于真空腔的基于电机驱动的装置通常是旋转装置，例如，电机固定在真空腔的外部，通过磁流体与真空腔内的部件联接，从而驱动真空腔内的部件工作。例如，通过这种方式，能够驱动真空腔内的基片台转动，或者驱动真空腔内旋转靶材转动等。

但是，有时也需要驱动真空腔内的部件呈平面状地移动。例如，在使用平面靶材的磁控溅射设备中，有时需要使磁控管容置在真空腔内，并使磁控管沿平面方向(例如：X轴以及Y轴)被驱动。但是，现有的实现部件的多方向被驱动的结构通常是通过以单轴机械臂进行叠加从而形成的多轴机械臂的结构。而在真空设备当中，由于散热等问题，难以将电机置于真空腔室内并进行机械臂的叠加，从而难以使磁控管沿平面方向被驱动。

实用新型内容

本实用新型针对上述技术问题，提出了一种磁控溅射设备，能够实现使磁控元件在真空腔内沿平面方向被驱动。此外，本实用新型还提出了一种双轴驱动装置以及具有该双轴驱动装置的真空设备。

根据第1实施方式的磁控溅射设备，包括：镀膜腔，所述镀膜腔的内部的上方具有呈板状的靶材；双轴驱动装置，与所述镀膜腔隔开并设置在所述镀膜腔的上方，所述双轴驱动装置具有：第一驱动部，沿第一方向进行驱动，其中，所述第一方向与所述靶材平行，第二驱动部，沿第二方向进行驱动，其中，所述第二方向与所述靶材平行且与所述第一方向正交，联接部，分别与所述第一驱动部以及所述第二驱动部连接，所述联接部具有第一调节单元以及第二调节单元，所述第一调节单元与所述第一驱动部连接并沿所述第二方向可自由调节，所述第二调节单元与所述第二驱动部连接并沿所述第一方向可自由调节；磁控元件，与所述镀膜腔隔开并位于所述靶材的上方，所述磁控元件安装到所述第一调节单元或者所述第二调节单元。

根据本实施方式的磁控溅射设备，能够实现使磁控元件在真空腔内沿平面方向被驱动。

在一些实施方式中，所述镀膜腔的上方具有可处于真空状态的控制腔，所述控制腔与所述镀膜腔隔开；所述磁控元件被设置在所述控制腔内。

在一些实施方式中，所述第一驱动部包括第一电机以及第一丝杆组件，所述第一电机设置在所述控制腔的外部，所述第一丝杆组件设置在所述控制腔的内部，所述第一电机和所述第一丝杆组件经由第一真空用联接器联接；所述第二驱动部包括第二电机以及第二丝杆组件，所述第二电机设置在所述控制腔的外部，所述第二丝杆组件设置在所述控制腔的内部，所述第二电机和所述第二丝杆组件经由第二真空用联接器联接。

在一些实施方式中，所述第一驱动部还包括：第一引导单元以及第一安装单元，所述第一引导单元以及所述第一安装单元分别被设置在所述控制腔内，所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导，所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并与所述第一丝杆组件连接；所述第二驱动部还包括：第二引导单元以及第二安装单元，所述第二引导单元以及所述第二安装单元分别被设置在所述控制腔内，所述第二引导单元沿所述第二方向进行引导，所述第二安装单元搭载在所述第二引导单元并与所述第二丝杆组件连接；所述第一调节单元安装到所述第一安装单元；所述第二调节单元安装到所述第二安装单元；所述磁控元件安装到所述第一调节单元，并沿所述第二方向延伸。

在一些实施方式中，所述镀膜腔的上方具有用于安装靶材的背板，所述背板将所述控制腔和所述镀膜腔隔开。

在一些实施方式中，所述控制腔内的压力可被设置为10kPa以下。

根据第2实施方式的双轴驱动装置，包括：第一驱动部，具有：第一执行单元、第一引导单元以及第一安装单元，所述第一执行单元沿第一方向直线地驱动，所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导，所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并沿所述第一方向被所述第一执行单元驱动；第二驱动部，具有：第二执行单元、第二引导单元以及第二安装单元，所述第二执行单元沿与所述第一方向正交地第二方向直线地驱动，所述第二引导单元沿所述第二方向进行引导，所述第二安装单元搭载在所述第二引导单元并沿所述第二方向被所述第二执行单元驱动；联接部，分别与所述第一驱动部以及所述第二驱动部连接，所述联接部具有第一调节单元以及第二调节单元，所述第一调节单元安装到所述第一安装单元并沿所述第二方向可自由调节，所述第二调节单元安装到所述第二安装单元并沿所述第一方向可自由调节；所述第二调节单元上可安装作业单元。

根据本实施方式的双轴驱动装置，能够实现作业单元沿平面方向被驱动。

在一些实施方式中，所述第一执行单元包括电机或者气缸作为执行元件；第二执行单元包括电机或者气缸作为执行元件。

根据第3实施方式的真空设备，具有真空腔，包括：上述任一项的双轴驱动装置，其中，所述第一执行单元以及所述第二执行单元分别位于所述真空腔的外部；所述第一引导单元以及所述第一安装单元、所述第二引导单元以及所述第二安装单元，和所述联接部分别位于所述真空腔的内部。

根据本实施方式的真空设备，能够实现作业单元在真空腔内沿平面方向被驱动。

在一些实施方式中，所述作业单元包括磁控管、靶材、基片或者托盘。

附图说明

图1是一种实施方式的磁控溅射设备的俯视方向的立体图。

图2是沿图1中的A-A处的剖视图。

图3是图1中的双轴驱动装置的立体图。

图4是图3中的第一调节单元的示意图。

图5是本实施方式的磁控溅射设备的简要示意图。

图6是已知技术当中的磁控溅射设备的一种实施方式的示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实施方式的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实施方式，而不能理解为对本实施方式的限制。

在本实施方式的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实施方式和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实施方式的限制。

在本实施方式的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

本实施方式的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实施方式中的具体含义。

参照图1至图6，并主要参照图1至图3，根据第1实施方式的磁控溅射设备100，包括：镀膜腔101、双轴驱动装置102以及磁控元件103。镀膜腔101的内部的上方具有呈板状的靶材104。双轴驱动装置102与镀膜腔101隔开并设置在镀膜腔101的上方。双轴驱动装置102具有：第一驱动部105、第二驱动部106以及联接部107。第一驱动部105沿第一方向进行驱动，其中，第一方向与靶材104平行。第二驱动部106沿第二方向进行驱动，其中，第二方向与靶材104平行且与第一方向正交。联接部107分别与第一驱动部105以及第二驱动部106连接。联接部107具有第一调节单元108以及第二调节单元109。第一调节单元108与第一驱动部105连接并沿第二方向可自由调节。第二调节单元109与第二驱动部106连接并沿第一方向可自由调节。磁控元件103与镀膜腔101隔开并位于靶材104的上方。磁控元件103安装到第一调节单元108或者第二调节单元109。

根据本实施方式的磁控溅射设备100，能够实现使磁控元件103在真空腔(例如后述的控制腔111)内沿平面方向被驱动。作为磁控溅射的基本结构，具体来说，磁控溅射设备100包括镀膜腔101，基片110在镀膜腔101内被镀膜，基片110的上方即镀膜腔101的上方设置有靶材104，靶材104的上方(背面)设置有磁控元件103(磁控管)以及驱动磁控元件103的驱动装置。磁控元件103在驱动装置的驱动下扫描靶材104的表面，以利用磁控元件103所产生的磁场延长电子的运动轨迹，增加金属的离化率。由于磁控元件103的磁场强度可能存在差异，这可能会导致靶材104的蚀刻速度不同，进而导致靶材104的利用率不同。

在本实施方式中，通过将磁控元件103安装在沿由第一方向以及第二方向构成的平面方向进行驱动的双轴驱动装置102，能够改变磁控元件103扫描靶材104的表面的位置，进而使作用于靶材104的同一位置的磁强的强度发生变化，从而使作用于靶材104的同一位置的磁场的强度整体更加均匀，提高靶材104的利用率。

另外，在本实施方式中，由于双轴驱动装置102具有联接部107，该联接部107通过第一调节单元108连接第一驱动部105并通过第二调节单元109连接第二驱动部106，在第一驱动部105沿第一方向驱动磁控元件103时，由于第二调节单元109能够沿第一方向可自由调节，因此，第一驱动部105的动作不会受到第二驱动部106的安装状态的影响，而能够自由地驱动磁控元件103。同样地，在第二驱动部106沿第二方向驱动磁控元件103时，由于第一调节单元108沿第二方向可自由调节，因此第二驱动部106的动作不会受到第一驱动部105的安装状态的影响，而能够自由地驱动磁控元件103。由此，能够根据实际的情况而配置双轴驱动装置102的第一驱动部105以及第二驱动部106的执行元件(例如电机)，例如可以将第一驱动部105以及第二驱动部106的电机独立地安装在真空腔的外部而无需考虑电机的散热等的问题，并使磁控元件103在真空腔内沿由第一方向以及第二方向构成的平面方向被驱动。

继续参照图5，如上所述，本实施方式的磁控元件103在真空腔内沿平面方向被驱动。具体地，镀膜腔101的上方具有可处于真空状态的控制腔111，控制腔111与镀膜腔101隔开。磁控元件103被设置在控制腔111内。在平面式的磁控溅射设备100当中，镀膜腔101的上方具有背板112，靶材104安装在背板112上。背板112以使靶材104和镀膜腔101相对的方式，从上方对镀膜腔101进行密封。此外，背板112将镀膜腔101和设置在镀膜腔101的上方的控制腔111隔开。

继续参照图5，并辅助参照图6，在设备尺寸较小的情况下，背板112整体的强度承受由于外部的压力与镀膜腔101内部的压力之间的压差。但是，在设备尺寸增大的情况下，由于外部的压力与镀膜腔101内部的压力之间的压差变大，进而导致背板112可能会发生形变，在背板112发生形变的情况下，安装在背板112上的靶材104也一起形变，这会导致靶材104消耗的不均匀等。在本实施方式中，通过在镀膜腔101的上方设置可处于真空状态的控制腔111，并使控制腔111与镀膜腔101隔开，能够抑制由于背板112的两侧的压差所造成的背板112的形变。例如，可以通过对控制腔111进行抽真空从而使控制腔111的内部的压力降低到不会对背板112的形变造成影响的程度，从而能够抑制靶材104的形变。控制腔111的压力只要降低到不会对背板112的形变造成影响的程度即可，例如，可以设置为10kPa以下。

由于磁控元件103通过上述的双轴驱动装置102而能够在真空腔(例如控制腔111)内沿平面方向被驱动，因此，即使控制腔111处在真空状态，双轴驱动装置102也能够在控制腔111内对磁控元件103进行控制。

另外，上面虽然说明了双轴驱动装置102用于在真空腔内驱动磁控元件103的例子，但是并不限于此。双轴驱动装置102也能够在例如大气环境下驱动磁控元件103而并没有任何的障碍。

主要参照图3，并辅助参照图1、图2，在一些实施方式中，第一驱动部105包括第一电机113以及第一丝杆组件114，第一电机113设置在控制腔111的外部，第一丝杆组件114设置在控制腔111的内部，第一电机113和第一丝杆组件114经由第一真空用联接器115联接。第二驱动部106包括第二电机116以及第二丝杆组件117，第二电机116设置在控制腔111的外部，第二丝杆组件117设置在控制腔111的内部，第二电机116和第二丝杆组件117经由第二真空用联接器118联接。通过使第一电机113以及第二电机116分别经由第一真空用联接器115以及第二真空用联接器118而处在控制腔111的外部，能够忽略对电机进行散热等的要求，从而容易地配置第一电机113以及第二电机116。

控制腔111例如由呈矩形的环状的周向壁部127限定出矩形状。周向壁部127的底部形成有底板129，底板129和周向壁部127一体成型。底板129的中部开设有矩形槽131，矩形槽131的长度以及宽度的尺寸分别大于靶材104的长度和宽度的尺寸。

如上所述，第一电机113和第一丝杆组件114经由第一真空用联接器115联接。第一真空用联接器115例如选用磁流体等的公知的用于连接真空腔的部件与真空腔的外部的部件的联轴器。第一真空用联接器115安装在周向壁部127的第一方向的一侧。第一电机113例如通过减速机(未标记附图标记)等而在周向壁部127的外侧与第一真空用联接器115连接。第一丝杆组件114可以直接安装在底板129上，也可以通过例如中转板(未标记附图标记)而安装到底板129上。第一丝杆组件114的丝杆(未标记附图标记)沿第一方向延伸，并横跨矩形槽131的沿第一方向的长度。由此，能够确保例如沿第二方向延伸的磁控元件103(例如磁控管)沿第一方向被驱动的行程能够整体涵盖靶材104。

此外，第一驱动部105还包括：第一引导单元130以及第一安装单元132，第一引导单元130以及第一安装单元132分别被设置在控制腔111内，第一引导单元130沿第一方向进行引导，第一安装单元132搭载在第一引导单元130并与第一丝杆组件114连接。第一引导单元130例如可以包括公知的线性导轨或者线性导向轴等。在一些实施例中，第一引导单元130选择线性滑轨(未标记附图标记)，第一引导单元130可以包括两组相互平行的线性滑轨，第一引导单元130以线性滑轨的滑块(未标记附图标记)朝下的方向被安装在控制腔111内。第一引导单元130的安装位置并不特别限定，例如可以直接安装到底板129上，也可以通过例如中转板而安装到底板129上。第一安装单元132例如包括沿第二方向延伸的第一安装板133以及安装在第一安装板133上的第一螺母安装座119，第一安装板133的第二方向的两端分别安装到第一引导单元130的两组线性滑轨的滑块上，第一丝杆组件114的丝杆螺母则安装到第一螺母安装座119上。由此，在第一驱动部105的第一电机113工作的时候，第一安装单元132的第一安装板133经由第一丝杆组件114的传动，而沿第一方向被驱动。

如上所述，第二电机116和第二丝杆组件117经由第二真空用联接器118联接。第二真空用联接器118例如选用磁流体等的公知的用于连接真空腔的部件与真空腔的外部的部件的联轴器。第二真空用联接器118安装在周向壁部127的第二方向的一侧。第二电机116例如通过减速机(未标记附图标记)等而在周向壁部127的外侧与第二真空用联接器118连接。第二丝杆组件117可以直接安装在底板129上，也可以通过例如中转板而安装到底板129上。第二丝杆组件117的丝杆沿第二方向延伸，第二丝杆组件117的丝杆(未标记附图标记)沿第二方向延伸的长度并不特别限定，只要能够确保例如沿第二方向延伸的磁控元件103(例如磁控管)沿第二方向能够整体涵盖靶材104即可。

此外，第二驱动部106还包括：第二引导单元128以及第二安装单元120，第二引导单元128以及第二安装单元120分别被设置在控制腔111内，第二引导单元128沿第二方向进行引导，第二安装单元120搭载在第二引导单元128并与第二丝杆组件117连接。第二引导单元128例如可以包括公知的线性导轨或者线性导向轴等。在一些实施例中，第二引导单元128选择线性导向轴(未标记附图标记)，第一引导单元130可以包括两组相互平行的线性导向轴。第二引导单元128的安装位置并不特别限定，例如可以直接安装到底板129上，也可以通过例如中转板(未标记附图标记)而安装到底板129上。第二安装单元120例如包括沿第一方向延伸的第二安装板121以及安装在第二安装板121上的第二螺母安装座122，第二安装板121的第一方向的两端分别安装到第二引导单元128的两组线性导向轴的滑动轴承(未标记附图标记)上，第二丝杆组件117的丝杆螺母(未标记附图标记)则安装到第二螺母安装座122上。由此，在第二驱动部106的第二电机116工作的时候，第二安装单元120的第二安装板121经由第二丝杆组件117的传动，而沿第二方向被驱动。

主要参照图3、图4，并辅助参照图2、图1，如上所述，联接部107的第一调节单元108与第一驱动部105连接并沿第二方向可自由调节。联接部107的第二调节单元109与第二驱动部106连接并沿第一方向可自由调节。具体来说，联接部107的第一调节单元108安装到第一安装单元132。联接部107的第二调节单元109安装到第二安装单元120。磁控元件103安装到第一调节单元108，并沿第二方向延伸。第一调节单元108包括沿第二方向可自由调节的第一调节导轨123，作为第一调节导轨123的类型并不特别限定，例如可以是线性滑轨或者线性导向轴。第一调节导轨123安装到第一安装单元132的第一安装板133。第二调节单元109包括沿第一方向可自由调节的第二调节导轨124，作为第二调节导轨124的类型并不特别限定，例如可以是线性滑轨或者线性导向轴。第二调节导轨124安装到第二安装单元120的第二安装板121。此外，联接部107还包括第三安装板125以及连接板126，其中，第三安装板125沿第二方向延伸，并安装到第一调节单元108的第一调节导轨123，连接板126呈L字状，一端连接第三安装板125，另一端连接第二调节导轨124的滑块。磁控元件103例如可以是公知的磁控管，磁控元件103沿第二方向延伸，并安装到第三安装板125。

另外，上面虽然说明磁控元件103安装到第一调节单元108的例子，但是并不限于此。磁控元件103也可以根据需要按照到第二调节单元109。

当第一驱动部105的第一电机113工作时，随着第一丝杆组件114被第一电机113驱动，第一安装单元132通过沿第一方向进行引导的第一引导单元130，而沿第一方向被直线地驱动。由于联接部107的安装到第二安装单元120的第二调节单元109包括沿第一方向可自由调节的第二调节导轨124，在第一安装单元132沿第一方向被直线驱动时，通过连接板126与第二调节单元109连接的、安装到第一安装单元132的第一安装板133的第一调节单元108，也随着第一安装单元132而一起沿第一方向被直线驱动。即，安装到第三安装板125的磁控元件103也沿第一方向被直线驱动。并且，由于第二调节单元109的第二调节导轨124沿第一方向可自由调节，因此，第二驱动部106的动作不会影响到磁控元件103沿第一方向被直线驱动。

当第二驱动部106的第二电机116工作时，随着第二丝杆组件117被第二电机116驱动，第二安装单元120通过沿第二方向进行引导的第二引导单元128，而沿第二方向被直线地驱动。由于联接部107的安装到第一安装单元132的第一调节单元108包括沿第二方向可自由调节的第一调节导轨123，在第二安装单元120沿第二方向被直线驱动时，通过连接板126与第二调节单元109连接的、安装到第一安装单元132的第一安装板133的第一调节单元108，也随着第二安装单元120而沿第二方向被直线驱动。即，安装到第三安装板125的磁控元件103也沿第二方向被直线驱动。并且，由于第一调节单元108的第一调节导轨123沿第二方向可自由调节，因此，第一驱动部105的动作不会影响到磁控元件103沿第二方向被直线驱动。

由此，由于磁控元件103通过联接部107与第一驱动部105以及第二驱动部106连接，而联接部107具有沿第二方向可自由调节的第一调节单元108以及沿第一方向可自由调节的第二调节单元109，因此，能够实现第一驱动部105以及第二驱动部106分别独立地驱动磁控元件103。即，通过第二调节单元109，第一驱动部105能够独立地沿第一方向直线地驱动磁控元件103，而不会受到第二驱动部106的动作或者安装状态的影响；通过第一调节单元108，第二驱动部106能够独立地沿第二方向直线地驱动磁控元件103，而不会受到第一驱动部105的动作或者安装状态的影响。并且，由于第一调节单元108以及第二调节单元109通过连接板126连接，因此，在第一驱动部105和第二驱动部106同时动作时，能够实现分别沿第一方向以及第二方向独立地驱动磁控元件103，即能够实现磁控元件103在作为真空腔的控制腔111内沿平面方向被驱动。

另外，在上面的实施方式中，说明了双轴驱动装置102用于在控制腔111内使磁控元件103沿平面方向被驱动的例子，但是并不限于此。例如，双轴驱动装置102可以作为一种独立的机械臂结构而使用。

继续参照图3，具体地，根据第2实施方式的双轴驱动装置102，包括：第一驱动部105、第二驱动部106以及上述的联接部107。第一驱动部105具有：第一执行单元(未标记附图标记)、上述的第一引导单元130以及上述的第一安装单元132。第一执行单元沿第一方向直线地驱动。第一引导单元130沿第一方向进行引导。第一安装单元132搭载在第一引导单元130并沿第一方向被第一执行单元驱动。第二驱动部106具有：第二执行单元(未标记附图标记)、上述的第二引导单元128以及上述的第二安装单元120。第二执行单元沿与第一方向正交地第二方向直线地驱动。第二引导单元128沿第二方向进行引导。第二安装单元120搭载在第二引导单元128并沿第二方向被第二执行单元驱动。联接部107分别与第一驱动部105以及第二驱动部106连接。联接部107具有上述的第一调节单元108以及上述的第二调节单元109，第一调节单元108安装到第一安装单元132并沿第二方向可自由调节，第二调节单元109安装到第二安装单元120并沿第一方向可自由调节。此外，第二调节单元109上可安装作业单元。

根据本实施方式的双轴驱动装置102，能够实现作业单元沿平面方向被驱动。具体来说，本实施方式的双轴驱动装置102能够实现现有的通过机械臂的叠加而形成的双轴机械臂所能够实现的沿平面方向驱动的功能。本实施方式的双轴驱动装置102的使用场景并不特别限定，例如，既可以使用在大气环境中，也可以使用在真空环境中。在使用大气环境中的情况下，例如可以使用在一些设备空间受到限制而仅能使作业单元小范围地移动的场景下等。

作为作业单元并不特别限定。在大气环境下，作为作业单元可列举例如用于夹持工件的夹具、用于保持或者定位工件的治具、用于检测工件的某项参数或者特性的传感器、用于搬运工件的气缸等。在真空环境下，作为作业单元可列举例如上述的磁控元件103(磁控管)、在磁控溅射设备100或者激光脉冲镀膜设备等中作为镀膜源的靶材104、作为镀膜工作对象物的基片110或者作为用于承载或者搬运工作对象物的托盘等。

在一些实施方式中，第一执行单元包括电机或者气缸作为执行元件；第二执行单元包括电机或者气缸作为执行元件。例如，在大气环境中，第一执行单元可以选择上述的第一电机113作为执行元件，第二执行单元可以选择上述的第二电机116作为执行元件。此外，选择电机作为执行元件的情况下，第一电机113通过例如公知的联轴器和第一丝杆传动组件联接，第二电机116同样通过公知的联轴器和第二丝杆传动组件联接。此外，第一执行单元以及第二执行单元也可以根据需要选择例如气缸作为执行元件。

另外，上述的双轴驱动装置102也可以使用在除了磁控溅射设备100之外的其他设备当中。例如，根据第3实施方式的真空设备(未标记附图标记)，具有真空腔(未标记附图标记)，此外，还包括：上述任一项的双轴驱动装置102，其中，第一执行单元以及第二执行单元分别位于真空腔的外部。第一引导单元130以及第一安装单元132、第二引导单元128以及第二安装单元120，和联接部107分别位于真空腔的内部。

根据本实施方式的真空设备，能够实现作业单元在真空腔内沿平面方向被驱动。作为真空设备，除了上述的磁控溅射设备100等的真空镀膜设备之外，还可以列举例如真空贴膜设备等。

尽管已经示出和描述了本实施方式的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实施方式的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实施方式的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.磁控溅射设备，其特征在于，包括：

镀膜腔，所述镀膜腔的内部的上方具有呈板状的靶材；

双轴驱动装置，与所述镀膜腔隔开并设置在所述镀膜腔的上方，所述双轴驱动装置具有：

第一驱动部，沿第一方向进行驱动，其中，所述第一方向与所述靶材平行，

第二驱动部，沿第二方向进行驱动，其中，所述第二方向与所述靶材平行且与所述第一方向正交，

联接部，分别与所述第一驱动部以及所述第二驱动部连接，所述联接部具有第一调节单元以及第二调节单元，所述第一调节单元与所述第一驱动部连接并沿所述第二方向可自由调节，所述第二调节单元与所述第二驱动部连接并沿所述第一方向可自由调节；

磁控元件，与所述镀膜腔隔开并位于所述靶材的上方，所述磁控元件安装到所述第一调节单元或者所述第二调节单元。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述镀膜腔的上方具有可处于真空状态的控制腔，所述控制腔与所述镀膜腔隔开；

所述磁控元件被设置在所述控制腔内。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述第一驱动部包括第一电机以及第一丝杆组件，所述第一电机设置在所述控制腔的外部，所述第一丝杆组件设置在所述控制腔的内部，所述第一电机和所述第一丝杆组件经由第一真空用联接器联接；

所述第二驱动部包括第二电机以及第二丝杆组件，所述第二电机设置在所述控制腔的外部，所述第二丝杆组件设置在所述控制腔的内部，所述第二电机和所述第二丝杆组件经由第二真空用联接器联接。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述第一驱动部还包括：第一引导单元以及第一安装单元，所述第一引导单元以及所述第一安装单元分别被设置在所述控制腔内，所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导，所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并与所述第一丝杆组件连接；

所述第二驱动部还包括：第二引导单元以及第二安装单元，所述第二引导单元以及所述第二安装单元分别被设置在所述控制腔内，所述第二引导单元沿所述第二方向进行引导，所述第二安装单元搭载在所述第二引导单元并与所述第二丝杆组件连接；

所述第一调节单元安装到所述第一安装单元；

所述第二调节单元安装到所述第二安装单元；

所述磁控元件安装到所述第一调节单元，并沿所述第二方向延伸。

5.根据权利要求3或4所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述镀膜腔的上方具有用于安装靶材的背板，所述背板将所述控制腔和所述镀膜腔隔开。

6.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述控制腔内的压力可被设置为10kPa以下。

7.双轴驱动装置，其特征在于，包括：

第一驱动部，具有：第一执行单元、第一引导单元以及第一安装单元，所述第一执行单元沿第一方向直线地驱动，所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导，所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并沿所述第一方向被所述第一执行单元驱动；

第二驱动部，具有：第二执行单元、第二引导单元以及第二安装单元，所述第二执行单元沿与所述第一方向正交地第二方向直线地驱动，所述第二引导单元沿所述第二方向进行引导，所述第二安装单元搭载在所述第二引导单元并沿所述第二方向被所述第二执行单元驱动；

联接部，分别与所述第一驱动部以及所述第二驱动部连接，所述联接部具有第一调节单元以及第二调节单元，所述第一调节单元安装到所述第一安装单元并沿所述第二方向可自由调节，所述第二调节单元安装到所述第二安装单元并沿所述第一方向可自由调节；

所述第二调节单元上可安装作业单元。

8.根据权利要求7所述的双轴驱动装置，其特征在于，所述第一执行单元包括电机或者气缸作为执行元件；

第二执行单元包括电机或者气缸作为执行元件。

9.真空设备，具有真空腔，其特征在于，包括：

权利要求7至8中任一项所述的双轴驱动装置，其中，所述第一执行单元以及所述第二执行单元分别位于所述真空腔的外部；

所述第一引导单元以及所述第一安装单元、所述第二引导单元以及所述第二安装单元，和所述联接部分别位于所述真空腔的内部。

10.根据权利要求9所述的真空设备，其特征在于，所述作业单元包括磁控管、靶材、基片或者托盘。