CN220347967U - 核电厂仪表支架密封面修复装置 - Google Patents

核电厂仪表支架密封面修复装置 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开一种核电厂仪表支架密封面修复装置,其包括基体部以及与基体部一体成形的研磨部,该研磨部具有与核电厂仪表支架密封面接触的锥形面,锥形面的横截面直径由基体部朝向研磨部的方向逐渐减小,该研磨部包括研磨本体、覆盖在研磨本体外周的铝材制成的研磨外层体以及设于最外层用于修复仪表支架密封面的研磨层,研磨本体硬度大于研磨外层体,研磨层与研磨外层体固定连接或可拆卸连接。该核电厂仪表支架密封面修复装置可配合利用研磨层修复受损的仪表支架密封面,使之满足设计标准,且采用铝材制成的研磨外层体能在研磨的过程中尽量保护仪表支架密封面。

Description

核电厂仪表支架密封面修复装置
技术领域
本实用新型涉及核电厂仪表设备维修领域,尤其涉及一种核电厂仪表支架密封面修复装置。
背景技术
在EPR核电机组的ECI更换工作工程中,在旧ECI电缆拆除工作时,因Lance轴内部存在卡涩导致旧ECI电缆无法抽出(ECI代表的是可更换仪表,Lance代表的是仪表支架)。经多次尝试后,通过旋转ECI电缆将其从Lance轴抽出。在后续对密封面及Lance轴内部进行检查时,发现Lance锥形密封面上有多道贯穿式划痕。Lance组件的价格非常昂贵,且制造周期长达40个月。
在更换ECI的过程中,ECI的铠装电缆必须从Lance底部剪断,然后从Lance轴中抽出,因铠装电缆在剪切口处存在毛刺,故在抽出ECI的铠装电缆过程中可能损坏Lance密封面。一旦损坏Lance密封面,因Lance密封面是核电厂一回路压力边界,将影响一回路冷却剂密封效果,可能导致一回路冷却剂泄漏。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于,提供一种核电厂仪表支架密封面修复装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种核电厂仪表支架密封面修复装置,其包括基体部以及与所述基体部一体成形的研磨部,所述研磨部具有与核电厂仪表支架密封面接触的锥形面,所述锥形面的横截面直径由所述基体部朝向所述研磨部的方向逐渐减小;
所述研磨部包括研磨本体、覆盖在所述研磨本体外周的铝材制成的研磨外层体以及设于最外层用于修复仪表支架密封面的研磨层,所述研磨本体硬度大于所述研磨外层体,所述研磨层与所述研磨外层体固定连接或可拆卸连接。
在一些实施例中,所述研磨层粘接在研磨外层体表面,二者之间贴附无间隙。
在一些实施例中,所述研磨层为砂纸,所述砂纸的厚度为60微米、30微米、15微米或者9微米。
在一些实施例中,所述基体部为圆柱形结构,所述基体部与所述研磨部二者的中轴线重合,所述研磨部具有朝向所述基体部的过渡端面,所述基体部的直径小于所述过渡端面的直径。
在一些实施例中,所述基体部的轴向长度为50mm至70mm,所述研磨部的轴向长度为25mm至35mm,所述基体部的直径为20mm至25mm,所述过渡端面的直径为26mm至30mm。
在一些实施例中,所述核电厂仪表支架密封面修复装置还包括导向件,所述基体部远离所述研磨部的一端上设有供所述导向件连接的定位孔。
在一些实施例中,所述定位孔位于所述基体部端面的中心位置,所述定位孔为螺纹孔,且所述定位孔的深度为20mm至30mm。
在一些实施例中,所述锥形面的横截面为斜面,所述斜面的角度为30°至40°。
在一些实施例中,所述核电厂仪表支架密封面修复装置还包括用于防止异物落入核电厂仪表支架的防异物堵头。
在一些实施例中,所述基体部上还连接有旋钮件,所述旋钮件与所述基体部可拆卸连接;或者所述旋钮件与所述基体部通过焊接连接。
实施本实用新型具有以下有益效果:该核电厂仪表支架密封面修复装置包括基体部以及与基体部一体成形的研磨部,该研磨部具有与核电厂仪表支架密封面接触的锥形面,锥形面的横截面直径由基体部朝向研磨部的方向逐渐减小,该研磨部包括研磨本体、覆盖在研磨本体外周的铝材制成的研磨外层体以及设于最外层用于修复仪表支架密封面的研磨层,研磨本体硬度大于研磨外层体,研磨层与研磨外层体固定连接或可拆卸连接。该核电厂仪表支架密封面修复装置可配合利用研磨层修复受损的仪表支架密封面,使之满足设计标准,且采用铝材制成的研磨外层体能在研磨的过程中尽量保护仪表支架密封面。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型的技术方案,下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,应当理解地,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可根据这些附图获得其他相关的附图。附图中:
图1是本实用新型一些实施例中的核电厂仪表支架密封面修复装置的整体结构示意图;
图2是本实用新型一些实施例中的核电厂仪表支架密封面修复装置的结构剖面示意图;
图3是本实用新型一些实施例中的核电厂仪表支架密封面修复装置的俯视示意图。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。以下描述中,需要理解的是,“前”、“后”、“上”、“下”、“左”、“右”、“纵”、“横”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“头”、“尾”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系、以特定的方位构造和操作,仅是为了便于描述本技术方案,而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位,因此不能理解为对本实用新型的限制。
还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“设置”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。当一个元件被称为在另一元件“上”或“下”时,该元件能够“直接地”或“间接地”位于另一元件之上,或者也可能存在一个或更多个居间元件。术语“第一”、“第二”、“第三”等仅是为了便于描述本技术方案,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量,由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
请参阅图1至图3,是本实用新型一些实施例中的核电厂仪表支架密封面修复装置,其可有效修复损坏的仪表支架密封面,使得仪表支架密封面满足设计标准,该核电厂仪表支架密封面修复装置包括基体部1以及与基体部1一体成形的研磨部2,该基体部1与该研磨部2一体成型,可以有效地降低成本的同时,满足简化组装的要求,也使得整体结构更加牢固可靠。进一步地,该基体部1与该研磨部2的一体件可作为通用标准件,可以有效减少各种相关器件种类,提高通用性。在其他一些实施例中,该基体部1与该研磨部2也可通过紧固件如螺丝螺栓连接在一起,可方便拆卸和维护,可根据实际需求进行连接方式的调整。
其中,该研磨部2具有与核电厂仪表支架密封面接触的锥形面21,锥形面21的横截面直径由基体部1朝向研磨部2的方向逐渐减小,该研磨部2采用渐变式的锥形面21的设计,适配于仪表支架密封面的形状,便于该核电厂仪表支架密封面修复装置对仪表支架密封面进行研磨。
该研磨部2包括研磨本体、覆盖在研磨本体外周的铝材制成的研磨外层体以及设于最外层用于修复仪表支架密封面的研磨层,研磨本体硬度大于研磨外层体,研磨层与研磨外层体固定连接或可拆卸连接。
可以理解地,为了在研磨的过程中尽量保护仪表支架密封面,该研磨外层体首先选择了铝制材料,但是由于铝制工具密度太小,对于研磨实施造成了难度,所以研磨本体采取了硬度大于铝制材料的材料进行制作,该研磨本体优选采用不锈钢材料制成,在其他一些实施例中,该研磨本体还可采用碳钢或者其他硬度大于铝的材料制成,这里不做具体限定。
在本实施例中,为了结合不锈钢材料密度大,还有铝制材料较软的两个优点,最终使用铝制外壳和不锈钢实心制作研磨工具。且该不锈钢材料还具有良好的强度和刚性,且其耐腐蚀、耐高温氧化、维护简单,能适应恶劣的工作环境,该铝制材料还质轻且柔软、抗拉强度、耐蚀性能好。
其中,研磨层粘接在研磨外层体表面,二者之间贴附无间隙,该核电厂仪表支架密封面修复装置可配合利用研磨层修复受损的仪表支架密封面,使之满足设计标准。优选地,该研磨层为砂纸,可以理解地,在对仪表支架密封面的修复过程中,可将砂纸均匀粘贴到研磨部2的锥形面21上,确保砂纸紧密贴合在锥形面21上,然后再对仪表支架密封面进行研磨。根据对该仪表支架密封面的研磨情况,可使用不同厚度的砂纸粘贴在研磨部2上,直至满足研磨效果需求,该砂纸的厚度可为60微米、30微米、15微米或者9微米,该砂纸的厚度还可根据现场实际操作情况进行调整。
进一步地,该基体部1为圆柱形结构,在其他一些实施例中,该基体部1也可为三角形、矩形或者其他形状,这里不做具体限定。在本实施例中,该基体部1与研磨部2二者的中轴线重合,研磨部2具有朝向基体部1的过渡端面22,该过渡端面22为圆形状,该基体部1的直径小于过渡端面22的直径。
具体地,该基体部1的轴向长度为50mm至70mm,研磨部2的轴向长度为25mm至35mm,基体部1的直径为20mm至25mm,过渡端面22的直径为26mm至30mm,该锥形面21的横截面为斜面,斜面的角度为30°至40°。在本实施例中,该仪表支架密封面的底部直径为27.2mm,斜面角度为36.5°。根据该仪表支架密封面的尺寸,该基体部1的轴向长度优选为58mm,该研磨部2的轴向长度优选为29.3mm,该基体部1直径优选为21.6mm。该过渡端面22的直径优选为26mm,该斜面的角度优选为36°52′±20′。在其他一些实施例中,可根据实际的仪表支架密封面的尺寸进行调整,这里不做具体限定。
其中,该核电厂仪表支架密封面修复装置还包括导向件3,基体部1远离研磨部2的一端上设有供导向件3连接的定位孔11。该导向件3可为导向螺母,其安装于该定位孔11中,可以防止研磨部2在工作时倾斜导致锥形面21研磨效果不平衡。在其他一些实施例中,该导向件3与该基体部1可焊接连接。
进一步地,该定位孔11位于基体部1端面的中心位置,定位孔11为螺纹孔,该导向件3设有与该螺纹孔匹配的螺纹部,且定位孔11的深度为20mm至30mm。在本实施例中,该定位孔11的深度优选为25mm。
该核电厂仪表支架密封面修复装置还包括防异物堵头,该防异物堵头可插入仪表支架密封面的内孔中,其用于防止异物落入核电厂仪表支架,该防异物堵头采用塑料材质制成。该塑料材质可为橡胶,该橡胶柔软、弹性大、且耐磨。在其他一些实施例中,该塑料材质可为EVA、PVC或者其他塑料材质,这里不做具体限定。
其中,该基体部1上还可连接有旋钮件5,该旋钮件5用于旋转该基体部1从而使得该研磨部2旋转对仪表支架密封面进行修复和抛光,该旋钮件5与基体部1可拆卸连接,或者旋钮件5与基体部1通过焊接连接,还可通过人工直接旋转该基体部1进行修复和抛光。
该核电厂仪表支架密封面修复装置的工作步骤为:
1.将防异物堵头插入仪表支架密封面的内孔中,防止修复仪表支架密封面时有异物落入;
2.将砂纸均匀粘贴到研磨部2的锥形面21上,确保砂纸紧密贴合在锥形面21上,然后将研磨部2插入仪表支架密封面内,在后续步骤中,先使用60微米的砂纸进行研磨,如果仪表支架密封面上的划痕已经比较明显,则依次使用30微米,15微米,9微米的砂纸,直到肉眼看不到划痕;
3.将研磨部2插入仪表支架密封面内后,安装导向件3,防止研磨部2在工作时倾斜导致锥形面21研磨效果不平衡;
4.旋转基体部1使得研磨部2对仪表支架密封面进行修复及抛光;
5.仪表支架密封面修复完成后通过蓝油试验及抽真空试验进行验证,真空试验的标准为:初始压力10mbar,试验持续5分钟。最大压降计算公式如下:
上式中:V=被测容积+软管容积+真空仪器容积;T=300s。通过计算,得出标准为5分钟压力变化不大于15mbar。
可以理解地,因为仪表支架设备是EPR核电机组专用设备,无现有的仪表支架密封面修复技术。本核电厂仪表支架密封面修复装置可修复受损的仪表支架密封面,并通过蓝油试验和真空试验,验证修复后是否满足设计要求。
可以理解地,以上实施例仅表达了本实用新型的优选实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制;应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,可以对上述技术特点进行自由组合,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围;因此,凡跟本实用新型权利要求范围所做的等同变换与修饰,均应属于本实用新型权利要求的涵盖范围。

Claims (10)

1.一种核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,包括基体部(1)以及与所述基体部(1)一体成形的研磨部(2),所述研磨部(2)具有与核电厂仪表支架密封面接触的锥形面(21),所述锥形面(21)的横截面直径由所述基体部(1)朝向所述研磨部(2)的方向逐渐减小;
所述研磨部(2)包括研磨本体、覆盖在所述研磨本体外周的铝材制成的研磨外层体以及设于最外层用于修复仪表支架密封面的研磨层,所述研磨本体硬度大于所述研磨外层体,所述研磨层与所述研磨外层体固定连接或可拆卸连接。
2.根据权利要求1所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述研磨层粘接在研磨外层体表面,二者之间贴附无间隙。
3.根据权利要求2所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述研磨层为砂纸,所述砂纸的厚度为60微米、30微米、15微米或者9微米。
4.根据权利要求1所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述基体部(1)为圆柱形结构,所述基体部(1)与所述研磨部(2)二者的中轴线重合,所述研磨部(2)具有朝向所述基体部(1)的过渡端面(22),所述基体部(1)的直径小于所述过渡端面(22)的直径。
5.根据权利要求4所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述基体部(1)的轴向长度为50mm至70mm,所述研磨部(2)的轴向长度为25mm至35mm,所述基体部(1)的直径为20mm至25mm,所述过渡端面(22)的直径为26mm至30mm。
6.根据权利要求1所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述核电厂仪表支架密封面修复装置还包括导向件(3),所述基体部(1)远离所述研磨部(2)的一端上设有供所述导向件(3)连接的定位孔(11)。
7.根据权利要求6所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述定位孔(11)位于所述基体部(1)端面的中心位置,所述定位孔(11)为螺纹孔,且所述定位孔(11)的深度为20mm至30mm。
8.根据权利要求1所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述锥形面(21)的横截面为斜面,所述斜面的角度为30°至40°。
9.根据权利要求1所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述核电厂仪表支架密封面修复装置还包括用于防止异物落入核电厂仪表支架的防异物堵头。
10.根据权利要求1所述的核电厂仪表支架密封面修复装置,其特征在于,所述基体部(1)上还连接有旋钮件(5),所述旋钮件(5)与所述基体部(1)可拆卸连接;或者所述旋钮件(5)与所述基体部(1)通过焊接连接。
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