CN220335279U - 一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,适用于大气等离子喷涂设备,包括固定架、清积瘤舌头、舌头轨道及微型气缸,所述固定架表面固定在大气等离子喷涂设备的枪盘上,且所述固定架周围均布设有四个舌头轨道,四个清积瘤舌头分别对应设置在四个舌头轨道上,每个清积瘤舌头一端与微型气缸伸缩端连接在一起,能够带动清积瘤舌头沿舌头轨道移动来回伸缩。与现有技术相比,本实用新型通过在枪盘上装备此装置可以在喷涂过程中清除喷涂材料过度熔化或汽化引起的熔融粉末在喷嘴处聚集的情况,消除了粉末聚集在枪口被氮气吹至靶材上影响产品性能的风险,并且缩减了员工清除枪口积瘤的步骤,减少了清积瘤的时间,提高了喷涂效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子喷涂技术领域,具体是一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置。
背景技术
等离子喷涂是一种材料表面强化和表面改性的技术,可以使基体表面具有耐磨、耐蚀、耐高温氧化、电绝缘、隔热、防辐射、减磨和密封等性能。等离子涂技术是采用由直流电驱动的等离子电弧作为热源,将陶瓷、合金、金属等材料加热到熔融或半熔融状态,并以高速喷向经过预处理的工件表面而形成附着牢固的表面层的方法。等离子喷涂亦有用于医疗用途,在人造骨骼表面喷涂一层数十微米的涂层,作为强化人造骨骼及加强其亲和力的方法。
等粒子喷涂设备:等离子喷涂设备主要包括
①喷枪:实际上是一个非转移弧等离子发生器,是最关键的部件,其上集中了整个系统的电,气,粉,水等。
②电源:用以供给喷枪直流电。通常为全波硅整流装置。
③送粉器:用来贮存喷涂粉末并按工艺要求向喷枪输送粉末的装置。
④热交换器:主要用以使喷枪获得有效的冷却,达到使喷嘴延寿的目的。
⑤供气系統:包括工作气和送粉气的供给系统。
⑥控制框:用于对水,电、气、粉的调节和控制。
在等粒子喷涂过程中,影响涂层质量的工艺参数很多,其中气体流量大小直接影响等离子焰流的热焓和流速,从而影响喷涂效率,涂层气孔率和结合力等。流量过高,则气体会从等离子射流中带走有用的热,并使喷涂粒子的速度升高,减少了喷涂粒子在等离子火焰中的“滞留”时间,导致粒子达不到变形所必要的半熔化或塑性状态,结果是涂层粘接强度、密度和硬度都较差,沉积速率也会显著降低;相反,则会使电弧电压值不适当,并大大降低喷射粒子的速度。极端情况下,会引起喷涂材料过热,造成喷涂材料过度熔化或汽化,引起熔融的粉末粒子在喷嘴或粉末喷口聚集,然后以较大球状沉积到涂层中形成大的空穴。
在等离子喷涂过程中,熔融的粉末粒子在喷嘴或粉末喷口聚集,如果贸然用手持锉刀进行清理,造成安全事故的风险大大提高。如果停机进行清理,虽然可以清除干净,但是会中止喷涂过程,造成生产产品过程不连续,影响产品质量。
实用新型内容
为解决上述缺陷,本实用新型的目的是提供一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,通过在枪盘上装备此装置可以在喷涂过程中清除喷涂材料过度熔化或汽化引起的熔融粉末在喷嘴处聚集的情况,消除了粉末聚集在枪口被氮气吹至靶材上影响产品性能的风险,并且缩减了员工清除枪口积瘤的步骤,减少了清积瘤的时间,提高了喷涂效率。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,适用于大气等离子喷涂设备,包括固定架、清积瘤舌头、舌头轨道及微型气缸,所述固定架表面固定在大气等离子喷涂设备的枪盘上,且
所述固定架周围均布设有四个舌头轨道,四个清积瘤舌头分别对应设置在四个舌头轨道上,每个清积瘤舌头一端与微型气缸伸缩端连接在一起,能够带动清积瘤舌头沿舌头轨道移动来回伸缩。
进一步地,所述固定架通过紧固件与大气等离子喷涂设备的枪盘固定在一起。
各舌头轨道分别固定在固定架的0°、90°、180°及360°处,且所述舌头轨道表面开设有滑动槽。
每个清积瘤舌头均具有垂直设置的长端部和短端部,所述长端部置于舌头轨道表面开设的滑动槽中,且所述长端部末端为内凹圆弧状,通过微型气缸的带动使长端部末端的内凹圆弧形成一空心圆,该空心圆的内径大于大气等离子设备的喷枪外径。
所述长端部厚度与凹槽深度一致,确保清积瘤舌头伸出清除积瘤时处于同一平面。
所述清积瘤舌头的短端部开设有通孔,该通孔满足与微型气缸伸缩端的穿接,并通过紧固件予以固定。
本实用新型在使用时,通过微型气缸的工作,带动清积瘤舌头来回伸缩,将大气等离子喷涂设备运行期间对枪口周围产生的积瘤进行清除。
本实用新型的有益效果是:结构简单,设计合理,消除了粉末聚集在枪口被氮气吹至靶材上影响产品性能的风险,并且缩减了员工清除枪口积瘤的步骤,减少了停机清积瘤的时间,提高了喷涂效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为图1的后视图。
图3为本实用新型中所述固定架的结构示意图。
图4为本实用新型中所述清积瘤舌头的结构示意图。
图5为本实用新型中所述舌头轨道的结构示意图。
附图1-5中,1.固定架,2.清积瘤舌头,3.舌头轨道,4.微型气缸,5.与枪盘连接处,6.内凹圆弧,7.长端部,8.短端部,9.通孔,10.滑动槽。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型做进一步描述,但本实用新型的保护范围不局限于以下叙述。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
参看附图1-5是本实用新型的一种实施例,公开了一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,其主体结构包括固定架1、清积瘤舌头2、舌头轨道3、微型气缸4,通过螺母将固定架1牢牢固定在大气等离子喷涂设备的枪盘之上,四个舌头轨道3均布设置固定在固定架1的周围,将清积瘤舌头的短端部8通过螺母连接微型气缸4的伸缩端,并将清积瘤舌头的长端部7固定在舌头轨道3的滑动槽10处,通过气压控制微型气缸4来回伸缩,带动清积瘤舌头2在大气等离子喷涂设备运行期间对喷枪周围产生的积瘤进行搓除。
所述清积瘤舌头的长端部7末端设计为内凹圆弧状6,圆弧具体尺寸可根据不同设备的枪口大小改变,分别将4根舌头轨道3固定在固定板的0°、90°、180°及360°处,可以确保在清积瘤舌头2伸出时,末端的内凹圆弧组成空心圆,空心圆的内径大于等离子喷涂设备喷枪的外径,以确保在清除积瘤过程不会阻挡喷涂火焰,并且在清积瘤过程中可以将喷枪口径以外处的积瘤全部清除。
舌头轨道3在固定清积瘤舌头2的一面设置有滑动槽10,滑动槽10深度应与清积瘤舌头长端部7厚度一致,确保清积瘤舌头可以较好的贴合在舌头轨道10上,确保4个清积瘤舌头2清除积瘤时处于同一水平面。
微型气缸4的伸缩端与清积瘤舌头短端部8的通孔9穿接在一起,通过螺母将其固定,微型气缸固定在固定架上以防清积瘤过程中微型气缸脱落。
通过本实用新型的实施例,消除了粉末聚集在枪口被氮气吹至靶材上影响产品性能的风险,并且缩减了员工清除枪口积瘤的步骤,减少了停机清积瘤的时间,提高了喷涂效率。
Claims (6)
1.一种用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,适用于大气等离子喷涂设备,其特征在于:包括固定架、清积瘤舌头、舌头轨道及微型气缸,所述固定架表面固定在大气等离子喷涂设备的枪盘上,且所述固定架周围均布设有四个舌头轨道,四个清积瘤舌头分别对应设置在四个舌头轨道上,每个清积瘤舌头一端与微型气缸伸缩端连接在一起,能够带动清积瘤舌头沿舌头轨道移动来回伸缩。
2.根据权利要求1所述的用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,其特征在于:所述固定架通过紧固件与大气等离子喷涂设备的枪盘固定在一起。
3.根据权利要求1所述的用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,其特征在于:各舌头轨道分别固定在固定架的0°、90°、180°及360°处,且所述舌头轨道表面开设有滑动槽。
4.根据权利要求1所述的用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,其特征在于:每个清积瘤舌头均具有垂直设置的长端部和短端部,所述长端部置于舌头轨道表面开设的滑动槽中,且所述长端部末端为内凹圆弧状,通过微型气缸的带动使长端部末端的内凹圆弧形成一空心圆,该空心圆的内径大于大气等离子设备的喷枪外径。
5.根据权利要求4所述的用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,其特征在于:所述长端部厚度与凹槽深度一致,确保清积瘤舌头伸出清除积瘤时处于同一平面。
6.根据权利要求4所述的用于大气等离子喷涂的清积瘤装置,其特征在于:所述清积瘤舌头的短端部开设有通孔,该通孔满足与微型气缸伸缩端的穿接,并通过紧固件予以固定。
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