CN220271181U - 一种明暗场和白光干涉的缺陷检测系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种明暗场和白光干涉的缺陷检测系统，包括明暗场缺陷检测模块、白光干涉缺陷检测模块、传输模块和上位机模块。明暗场缺陷检测模块包括明场成像和暗场成像，通过逐点扫描实现图案化蓝宝石衬底的全局缺陷检出；根据明暗场缺陷检测模块的缺陷检出以及传输模块的缺陷定位，白光干涉缺陷检测模块实现缺陷的高精度定量检测。上位机模块包括传输模块的控制、图像采集控制以及图像数据处理模块，其图像数据处理模块包括明场图像和暗场图像的缺陷位置提取和白光干涉模块的缺陷三维形貌恢复；传输模块包括明暗场缺陷检测模块的逐点扫描检测提供位移和缺陷的定位。它不仅解决图案化蓝宝石衬底大范围缺陷检测而且能实现缺陷的三维形貌高精度测量。

Description

一种明暗场和白光干涉的缺陷检测系统

技术领域

本实用新型涉及一种光学检测领域，尤其涉及一种明暗场和白光干涉检测图案化蓝宝石衬底缺陷的系统。

背景技术

目前资源匮乏，全球节能装备产业已形成一定的规模，且发展速度迅猛，LED照明作为一种绿色照明产品，是当前能源危机、温室效应和生态环境恶化大背景下重要的节能环保手段。

图案化蓝宝石衬底(PSS)技术作为一种无掩膜、无生长打断的侧向合并生长技术，不仅能有效降低与外延层的位错密度，还能提高LED的光提取效率，是提高LED照明亮度常用的技术手段。图案化蓝宝石衬底技术在单抛的蓝宝石衬底上光刻、蚀刻等技术在蓝宝石表面加工出周期的图案，图案化蓝宝石衬底质量检测成为LED产业链中的重要一环，提高图案化蓝宝石衬底的检测效率和检出准确率能够提高LED产业的产能。目前常用于检测图案化蓝宝石衬底的主要检测方式主要包括3D显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)，然而常规的3D显微镜检测单片扫描效率低，难以实现大批量生产的检测要求；SEM检测对象的尺寸有限，要求样品表面导电，且需要在真空环境下检测，难以实现即时、高效的检测；AFM检测会导致探针的损耗严重，需要及时更换探针，且检测效率较低；基于此，一种既能实现图案化蓝宝石衬底全局缺陷检出也能实现缺陷的三维高精度定量测量十分必要。

中国专利申请CN109459417A公开了一种用于检测图形衬底的方法和装置，通过光学检测仪获取图形化衬底表面的中心区域至边缘的多个独立的环形区域反射率或透光值，并通过一控制单元，依据获取的每个环形区域内多个反射率或透光值计算出多个反射率或多个透光率的平均值与偏差值并与预设的目标图案化衬底的反射率或透过率阈值进行比较，来判断待测晶片是否合格。然而该方法能够实现图案化衬底表面均匀性的判断，无法直观观察缺陷的形貌及计算缺陷的大小，获取图形化衬底缺陷信息十分有限。

中国专利申请CN217655026U公开了一种明暗场检测装置，在明场照明单元中设置明场光斑偏置单元，来增大明场光斑与暗场光斑之间的间距，以防止明场检测与暗场检测之间的串扰。该方法能够保证明暗场检测的精度，且有效提高缺陷检测的准确率，但对于半导体检测，仅通过二维成像方法难以分辨缺陷类别，且无法获取缺陷的表面形貌。

中国专利申请CN114264664A公开了一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统，该方法检测包括明暗场缺陷检测模块和结构光检测模块，在结构光检测模块中，光源投射装置将正弦条纹图案投射到待测镜片上，控制采集设备进行采集结构光图像，并对采集的图像进行相位分析，获取相位图中具有深度信息的缺陷位置，并将缺陷位置在镜片中标记，控制传输模块移动至明暗场缺陷检测模块中检测。然而结构光检测过程中易受外部光源影响，外部光源使得获取到的点云数据坐标值产生较大的误差，通常需要在暗室箱体中进行光学检测，对检测环境有着较高的要求，且难以满足生产线上在位检测。

综上，现有技术的光学检测装置，包括明场检测装置、暗场检测装置、光反射率检测法等分别针对不同工艺、不同种类的缺陷检测，但这些检测设备获取的缺陷信息有限，检测效果难以适应当前工艺需求，需要一种对图案化蓝宝石衬底的全局、高精度三维缺陷检测的系统和方法，并且需要提高检测效率和检测准确率。

实用新型内容

本实用新型提供了一种明暗场和白光干涉的缺陷检测系统，其克服了背景技术中所存在的不足。

本实用新型解决其技术问题的所采用的技术方案是：一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，包括明暗场缺陷检测模块、白光干涉缺陷检测模块、图像数据处理模块、传输模块和上位机模块；

所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块包括镜筒、物镜转塔、明暗场显微物镜、干涉物镜、第一光源、第二光源和图像采集设备，图像采集设备设于镜筒正上方，镜筒内设分光镜和管状透镜，物镜转塔连接于镜筒正下方且设有两物镜接口，明暗场显微物镜和干涉物镜分别连接在物镜转塔的两物镜接口；所述明暗场缺陷检测模块实现明场成像和暗场成像；明场成像应用第一光源、分光镜、明暗场显微物镜、物镜转塔和图像采集设备，第一光源发出的光束发出的光经过分光镜和明暗场显微物镜到达样品图案化蓝宝石衬底表面，经图案化蓝宝石衬底表面反射后依序经明暗场显微物镜和分光镜后到达图像采集设备；暗场成像应用第二光源、分光镜、明暗场显微物镜、物镜转塔和图像采集设备，第二光源发出的光束照射在图像采集设备的正下方的样品上，经由图案化蓝宝石衬底表面反射后依序入射至明暗场显微物镜和分光镜后到达图像采集设备；所述白光干涉缺陷检测模块应用第一光源、分光镜、明暗场显微物镜、物镜转塔和图像采集设备，第一光源发出的光束依序入射至分光镜、干涉物镜到达图案化蓝宝石衬底表面，经由图案化蓝宝石衬底反射后依序到达干涉物镜和分光镜后到达图像采集设备；所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块通过物镜转塔转动实现明暗场检测模式和白光干涉检测模式的切换；

所述传输模块包括x轴位移台、设于x轴位移台的y轴位移台和设于y轴位移台的晶圆载物台，图案化蓝宝石衬底设置在晶圆载物台；该上位机模块在明暗场缺陷检测模块中通过图像数据处理模块识别图像采集设备采集的数据并获取缺陷位置，若待测图案化的衬底上存在多个缺陷，则先后逐一进行缺陷位置的标注，并计算标注的缺陷位置坐标，计算图像采集设备的位置坐标差值，并驱动传输装置对缺陷定位。

一实施例之中：所述第一光源为白光光源，第二光源为405nm激光点光源，图像采集设备为CCD相机，分光镜为45°半透半反分光镜。

一实施例之中：所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块还包括丝杆螺母机构，丝杆螺母机构设能上下活动的运动平台，通过运动平台上下活动控制镜筒活动以实现明暗场和白光干涉检测的对焦。

一实施例之中：所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块还包括压电陶瓷，镜筒设在压电陶瓷上，压电陶瓷设在运动平台上，其中压电陶瓷在白光干涉检测时通过控制压电陶瓷垂直扫描步长实现干涉条纹图像的采集。

一实施例之中：所述压电陶瓷移动端连接镜筒，镜筒连接图像采集设备和物镜转塔，压电陶瓷连接镜筒以控制镜筒、图像采集设备、物镜转塔、干涉物镜沿垂直衬底表面方向运动。

一实施例之中：所述第一光源发出的光束垂直照射图案化蓝宝石衬底表面，第二光源发出的光学与图案化蓝宝石衬底表面呈一定角度斜入射至图案化衬底表面。

一实施例之中：所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块还包括升降机构和角度调节器，第二光源设置在角度调节器上，该角度调节器设在升降机构上，通过升降机构和角度调节器调整第二光源的高度和光源入射角度。

本技术方案与背景技术相比，它具有如下优点：

采用的明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块共用一个光路和一个相机，通过物镜转塔实现两种模式的切换，整个检测系统结构紧凑、成本低，同时避免了缺陷复检过程中从明暗场缺陷检测模块到白光干涉缺陷检测模块由于光路位置差异而引起的缺陷重复定位误差。通过明场成像与暗场成像的结合，并进行明场图像和暗场图像融合，能够有效提高缺陷的检出率，且准确率较高。通过对明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块的集成，明暗场缺陷检测实现图案化蓝宝石衬底的全局缺陷检出，白光干涉缺陷检测模块实现对明暗场所检出的缺陷复检，得到高精度的三维形貌缺陷，在满足图案化全局检测的同时，又能保证缺陷检测的精度。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明。

图1是实施例明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统的结构示意图；

图2是实施例明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统的方框示意图；

图3是实施例明暗场和白光干涉检测的缺陷检测流程示意图；

图4是实施例明场成像模块光线示意图；

图5是实施例明场成像光线路径的流程图；

图6是实施例暗场成像模块光线示意图；

图7是实施例暗场成像模块光线路径的流程图；

图8是实施例明暗场缺陷检测模块扫描路径图；

图9是实施例白光干涉缺陷检测模块光线示意图；

图10是实施例白光干涉缺陷检测模块光线路径的流程图；

标号说明:11-Z向位移台；111-步进电机；112-Z向位移导轨；113-丝杆；114-运动平台；12-镜筒；13-图像采集装置；14-压电陶瓷；15-第一光源；16-物镜转塔；17-明暗场显微物镜；18-干涉物镜；19第二光源；20-角度调节器；21-Z向导轨台；22-传输装置；221-y轴位移台；222-x轴位移台；223-晶圆载物台；23-龙门座；24-减震平台；121-TubeLens；122-45°半透半反分光镜；25-图案化蓝宝石衬底；251-图案化蓝宝石衬底缺陷；252-正常周期图案。

具体实施方式

针对现有技术中难以实现大范围的图案化蓝宝石衬底检测的同时实现高精度的缺陷检测问题，本实用新型提供了一种图案化蓝宝石衬底明暗场和白光干涉检测图案化蓝宝石衬底缺陷的系统及方法。如图1和图2所示，该系统包括明暗场缺陷检测模块、白光干涉缺陷检测模块、图像数据处理模块、传输模块和上位机模块，其中明暗场缺陷检测模块主要用于图案化蓝宝石衬底的全局检测，并由图像数据处理模块进行明场图像与暗场图像的图像融合、图像增强、图像分割(缺陷分割)、缺陷边界提取、提取缺陷中心像素坐标。传输模块用于明暗场缺陷检测模块的逐点检测提供位移，直至将图案化蓝宝石衬底完成全局检测，其另一方面用于明暗场缺陷检测模块所检出的缺陷进行缺陷的定位。白光干涉缺陷检测模块用于采集缺陷点的一系列干涉条纹图像，并通过图像数据处理模块进行图像预处理和质心法三维形貌恢复完成对缺陷的高精度三维形貌检测。

请查阅图1，明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块包括镜筒12、物镜转塔16、明暗场显微物镜17、干涉物镜18、第一光源15、第二光源19和图像采集设备13，所述图像采集设备13优选为CCD相机，图像采集设备13设置于所述镜筒12的正上方。所述镜筒12内置45°半透半反分光棱镜、管状透镜(TubeLens)、同轴光源接口；所述物镜转塔16连接于镜筒12的正下方且设有两个物镜接口，所述明暗场显微物镜17连接物镜转塔16的其中一个物镜接口，所述干涉物镜18连接物镜转塔16的另一个物镜接口；所述镜筒12设置在压电陶瓷14上，所述压电陶瓷14设置在Z向位移台11的运动平台114上，其中压电陶瓷14可以在白光干涉检测时通过控制压电陶瓷14垂直扫描步长实现干涉条纹图像的采集。其中：运动平台114设在丝杆螺母机构上，丝杆螺母位移机构包括丝杆113、步进电机111、位移导轨112。

所述明暗场缺陷检测模块实现明场成像和暗场成像，所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块通过物镜转塔16实现两种模式的切换。所述Z向位移台11的运动平台114可以在丝杆113上位移，实现明暗场和白光干涉检测的对焦。

明场图像采集光源由第一光源15提供，光源提供平行光束照射衬底，且几乎不被衬底及图案材质吸收透光率高的光源，优选为白光光源，其与镜筒12的同轴光源接口连接；暗场图像采集光源由第二光源15提供，光源提供平行光束照射衬底，且几乎不被衬底及图案材质吸收透光率高的光源，所述第二光源可选择激光点光源、发光二极管光源或卤素灯，所述第二光源19优选为405nm激光光源。其中，所述第二光源19连接角度调节器20，所述角度调节器20能够在Z向导轨21上直线运动，可调整暗场光源19的入射角度和入射高度，其光源入射角度为侧向呈一定角度入射。

传输模块22包括x轴位移台222、设于x轴位移台222上的y轴位移台221和设于y轴位移台221上的晶圆载物台223，待测图案化衬底放置在晶圆载物台上。上位机模块在明暗场缺陷检测模块中识别并获取缺陷位置后，若待测图案化衬底上存在多个缺陷，则先后逐一进行缺陷位置的标注，对整个系统建立x，y坐标系，再由图像采集设备13对位置坐标进行标定，若待测图案化衬底上存在多个缺陷，则先后逐一进行缺陷位置的标注可计算出缺陷位置与图像采集设备之间x、y坐标的差值，并由上位机控制传输装置对明暗场检测出的图案化衬底缺陷位置定位。

还包括减震平台24和龙门座23，上述传输模块22的x轴位移台222和龙门座23都设置在减震平台24上，所述减震平台24能够减少在白光干涉采集条纹的过程中因整个系统的振动而带来的图像噪音，提高检测的准确性。

一种明暗场和白光干涉检测缺陷检测方法，包括如下步骤：

S0,所述待测图案化蓝宝石衬底表面上蚀刻有微小图案，目前尺寸一般为2寸(直径约50mm)、4寸(直径约100mm)或6寸(直径约150mm)的蓝宝石衬底。所述的蓝宝石衬底的表面图案通过干法或湿法蚀刻获得，图案为锥形、梯形等；

所述的图案的尺寸为100纳米-10微米之间；

S10,如附图3所示，传输装置22接收到控制器预设检测起点目标位置的命令信号后，控制所述传输装置22上的图案化蓝宝石衬底移动至检测点下方。

S20，使用Z向位移台11，通过转动Z向位移台的丝杠113带动运动平台114实现上下移动，其中运动平台114带动光路上下移动进行对焦，确定明暗场缺陷检测模块的聚焦高度，保证明暗场成像的图像处于最清晰的焦点。

S30，明场成像检测中，物镜转塔16将明暗场显微物镜17转动至光轴中，开启第一光源15，关闭第二光源19，控制上位机采集明场图像；

进一步的，明场成像检测中的光路和光线路径参见附图4和图5，第一光源发出的光束发出的光经过45°半透半反分光镜122和明暗场显微物镜17到达样品表面，所述样品为图案化蓝宝石衬底，光束照射图案化衬底表面时，存在反射光和不同方向的散射光，图案化衬底25有缺陷251处的散射光和反射光与正常周期图案252的散射光线和反射光线在明场成像中有显著的对比度，经图案化蓝宝石衬底25表面反射和散射光线后依序经明暗场显微物镜17、45°半透半反分光镜122和TubeLens121到达图像采集装置13的图像采集平面上进行明场图像的采集。

更优的，暗场检测作为另一种实施方式，通过明暗场结合的方法进行缺陷检测能够降低图案化衬底缺陷检测的漏检率，提高缺陷检测的准确率，本实用新型提供的图案化衬底暗场缺陷检测，还包括如下步骤：

S40，暗场成像检测中，开启第二光源15，关闭第一光源19，控制上位机采集暗场图像；

进一步的，暗场成像检测中的光路和光线路径参见附图6和图7，第二光源可通过Z向导轨台21和角度调节器20控制暗场光源的入射角度和入射高度，发出的光束发出的光束到达样品表面，所述样品为图案化蓝宝石衬底，光束照射图案化衬底表面时，存在反射光和不同方向的散射光，通过调节上述第二光源的入射角度，使得照射在图案化衬底25上的正常周期图案252的大部分散射光线和反射光线不进入光线成像系统中，而照射在图案化衬底25上的缺陷区域251的大部分散射光线和反射光线进入依序经明暗场显微物镜17、45°半透半反分光镜122和TubeLens121到达图像采集装置13的图像采集平面上进行暗场图像的采集。

S50，所述明暗场缺陷检测模块单点检测视场小于图案化蓝宝石衬底的尺寸大小，因此完成图案化蓝宝石衬底的全局检测需要逐点扫描检测，直至明暗场缺陷检测模块完成所以点检测。

S60，当明场检测模块未完成图案化蓝宝石衬底缺陷时，位移传输模块22使之定位至图案化蓝宝石衬底的下一个检测点，所述从上一检测点到下一检测点的运动扫描路线参见附图8，运动位移为明暗场缺陷检测模块单个成像视场大小的宽度距离。完成对下一点的明暗场缺陷检测的定位后，继续完成步骤S30-S50，直至完成图案化蓝宝石衬底的全局检测。

S70，对采集的明场图像和暗场图像经过图像数据处理模块300进行图像数据处理，具体包括明场图像和暗场图像进行图像融合、图像增强、图像分割、缺陷边界提取、提取缺陷中心像素坐标，不同点的缺陷位置应当考虑成像光轴中心与位移传输模块22在x，y坐标上的差值，对所获取的缺陷分别进行标注为X₁(x₁,y₁)，X₂(x₂,y₂)…X_i(x_i,y_i)。

S80，根据明暗场缺陷检测模块所检出的缺陷点X₁(x₁,y₁)，X₂(x₂,y2)…X_i(x_i,y_i)，通过移动传输模块22，依序将缺陷位置X₁(x₁,y₁)，X₂(x₂,y₂)…X_i(x_i,y_i)其一缺陷点定位至光路正下方。

S90，物镜转塔切换至干涉物镜，使用Z向位移台11，通过转动Z向位移台的丝杠113带动运动平台114实现上下移动，其中运动平台114带动光路上下移动进行对焦，寻找白光干涉缺陷检测模块的出现清晰干涉条纹的聚焦高度，其后将此聚焦高度继续沿着压电陶瓷垂直扫描移动的相反方向移动1mm左右，确保白光干涉条纹采集的图像在压电陶瓷扫描中采样到干涉条纹出现前图像、干涉条纹图像和干涉之后的图像。

S100，驱动压电陶瓷14，带动白光干涉缺陷检测模块实现垂直扫描，采集一系列干涉条纹图像。

进一步的，白光干涉缺陷检测模块中的光路和光线路径参见附图9和图10，白光干涉光学检测模块中的干涉物镜18采用现有的Mirau干涉型显微物镜，其光学的分光系统位于显微镜内部，整体集成为模块化，仪器系统结构更加紧凑。所采用的Mirau型显微干涉系统中，由第一光源15发出的白光经过45°半透半反分光棱镜122进入干涉物镜18后，被干涉物镜18的内部分光系统分为两束光，一束光照射到其内部的参考镜发生反射，通过分光棱镜，经过TubeLens后到达图像采集设备11；另一束光照射到图案化衬底表面后发生反射，以同样的光迹到达图像采集设备11，两束光在图像采集设备11处发生干涉，图像采集设备11采集具有干涉信号的条纹图像。

S110，对采集的一系列干涉条纹图像经过图像数据处理模块300进行图像数据处理，其中具体步骤包括图像预处理、质心法形貌恢复，获取缺陷的三维形貌图，将获取到的缺陷检测结果显示在软件界面上，以便于复检人员快速地进行缺陷类型的判断。

S120，白光干涉缺陷检测模块对所以缺陷点需要依序完成白光干涉检测，在完成一处缺陷检测后，判断明暗场缺陷检测模块是否完成步骤S80中所有缺陷点X1(x1,y1)，X2(x2,y2)…Xi(xi,yi)的检测。

S130，当白光干涉缺陷检测模块未完成图案化蓝宝石衬底缺陷时，位移传输模块22使之定位至图案化蓝宝石衬底的下一个缺陷点，完成对下一点的定位后，继续完成步骤S90-S120，直至完成图案化蓝宝石衬底的所以缺陷点的检测。

本实用新型提供了明暗场和白光干涉检测图案化衬底缺陷的方法，该方法能够解决现有技术中图案化蓝宝石衬底缺陷检测的过程中难以实现大范围的检测的同时实现高精度的缺陷检测问题，本实用新型通过明暗场缺陷检测模块逐点扫描进行图案化蓝宝石衬底的缺陷检出，并通过白光干涉检出模块对缺陷进行高精度定量的三维形貌测量，为后续的大范围高精度无损光学检测提供新的思路。

以上所述，仅为本实用新型较佳实施例而已，故不能依此限定本实用新型实施的范围，即依本实用新型专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本实用新型涵盖的范围内。

Claims (7)

1.一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：包括明暗场缺陷检测模块、白光干涉缺陷检测模块、图像数据处理模块、传输模块和上位机模块；

所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块包括镜筒、物镜转塔、明暗场显微物镜、干涉物镜、第一光源、第二光源和图像采集设备，图像采集设备设于镜筒正上方，镜筒内设分光镜和管状透镜，物镜转塔连接于镜筒正下方且设有两物镜接口，明暗场显微物镜和干涉物镜分别连接在物镜转塔的两物镜接口；所述明暗场缺陷检测模块实现明场成像和暗场成像；明场成像应用第一光源、分光镜、明暗场显微物镜、物镜转塔和图像采集设备，第一光源发出的光束发出的光经过分光镜和明暗场显微物镜到达样品图案化蓝宝石衬底表面，经图案化蓝宝石衬底表面反射后依序经明暗场显微物镜和分光镜后到达图像采集设备；暗场成像应用第二光源、分光镜、明暗场显微物镜、物镜转塔和图像采集设备，第二光源发出的光束照射在图像采集设备的正下方的样品上，经由图案化蓝宝石衬底表面反射后依序入射至明暗场显微物镜和分光镜后到达图像采集设备；所述白光干涉缺陷检测模块应用第一光源、分光镜、明暗场显微物镜、物镜转塔和图像采集设备，第一光源发出的光束依序入射至分光镜、干涉物镜到达图案化蓝宝石衬底表面，经由图案化蓝宝石衬底反射后依序到达干涉物镜和分光镜后到达图像采集设备；所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块通过物镜转塔转动实现明暗场检测模式和白光干涉检测模式的切换；

所述传输模块包括x轴位移台、设于x轴位移台的y轴位移台和设于y轴位移台的晶圆载物台，图案化蓝宝石衬底设置在晶圆载物台；该上位机模块在明暗场缺陷检测模块中通过图像数据处理模块识别图像采集设备采集的数据并获取缺陷位置，若待测图案化的衬底上存在多个缺陷，则先后逐一进行缺陷位置的标注，并计算标注的缺陷位置坐标，计算图像采集设备的位置坐标差值，并驱动传输装置对缺陷定位。

2.根据权利要求1所述的一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：所述第一光源为白光光源，第二光源为405nm激光点光源，图像采集设备为CCD相机，分光镜为45°半透半反分光镜。

3.根据权利要求1所述的一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块还包括丝杆螺母机构，丝杆螺母机构设能上下活动的运动平台，通过运动平台上下活动控制镜筒活动以实现明暗场和白光干涉检测的对焦。

4.根据权利要求3所述的一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块还包括压电陶瓷，镜筒设在压电陶瓷上，压电陶瓷设在运动平台上，其中压电陶瓷在白光干涉检测时通过控制压电陶瓷垂直扫描步长实现干涉条纹图像的采集。

5.根据权利要求4所述的一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：所述压电陶瓷移动端连接镜筒，镜筒连接图像采集设备和物镜转塔，压电陶瓷连接镜筒以控制镜筒、图像采集设备、物镜转塔、干涉物镜沿垂直衬底表面方向运动。

6.根据权利要求1所述的一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：所述第一光源发出的光束垂直照射图案化蓝宝石衬底表面，第二光源发出的光学与图案化蓝宝石衬底表面呈一定角度斜入射至图案化衬底表面。

7.根据权利要求1所述的一种明暗场和白光干涉检测的缺陷检测系统，其特征在于：所述明暗场缺陷检测模块和白光干涉缺陷检测模块还包括升降机构

和角度调节器，第二光源设置在角度调节器上，该角度调节器设在升降机构上，

通过升降机构和角度调节器调整第二光源的高度和光源入射角度。