CN220258948U - 一种大通量样本培养器循环利用装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种大通量样本培养器循环利用装置，其包括超声清洗仪以及内置于超声清洗仪的腔室内的盖玻片承载架，盖玻片承载架的上表面开设有至少两个凹槽，每一个凹槽的深度不小于一块盖玻片的厚度，体积不小于一块盖玻片的体积，凹槽的底部设置有通孔，贯穿盖玻片承载架。

Description

一种大通量样本培养器循环利用装置

技术领域

本实用新型涉及显微镜成像器皿技术领域，特别是关于一种大通量样本培养器循环利用装置。

背景技术

随着科学技术的发展进步，显微镜由低分辨率显微成像发展到超分辨显微成像，随着显微镜成像技术的发展，对成像器皿的要求也越来越高，盖玻片、玻底器皿已经成为实验室日常大量使用的耗材之一。大多数从厂家购买的盖玻片无法直接用于生物实验，需要经过清洗烘干之后才能使用。

目前实验室内常用的清洗方法主要为人工清洗和超声清洗为主，人工清洗主要是使用毛刷清洁并加以其他的清洁剂浸泡为主，超声清洗主要是利用超声清洗仪产生的超声波在液体中传导作用从而破坏污物结构以达到清洗的效果，最终经过高温消毒再加使用烘箱烘干才可以使用。这种清洗方式一是耗费大量人力，玻璃碎片已造成人身伤害，二是清洁不彻底，有污物残留，影响下次实验结果。三是超声清洗时，多片盖玻片易堆叠，清洗过程中相互碰撞，导致盖玻片破裂。

有一专利文献公开了多规格盖玻片快速清洗器，其需要将不同规格的盖玻片放在不同规格的固定架上之后放入另一个外盒进行浸泡清洗，以浸泡为主，清洁不彻底，另外固定架取出不方便，也不方便保存。

还有一专利文献公开了生物实验用盖玻片快速清洗和晾干的装置，其需要将盖玻片放在小室里进行浸泡清洗，以浸泡为主，清洁不彻底，另外清洗后将盖玻片架悬于清洗液上进行晾干，易残留污渍，影响后续实验。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种大通量样本培养器循环利用装置来克服或至少减轻现有技术的上述缺陷中的至少一个。

为实现上述目的，本实用新型提供一种大通量样本培养器循环利用装置，其包括超声清洗仪以及内置于超声清洗仪的腔室内的盖玻片承载架，盖玻片承载架的上表面开设有至少两个凹槽，每一个凹槽的深度不小于一块盖玻片的厚度，体积不小于一块盖玻片的体积，凹槽的底部设置有通孔，贯穿盖玻片承载架。

进一步地，盖玻片承载架具有盖玻片承载板，通孔的中心线与盖玻片承载板的厚度方向相同。

进一步地，盖玻片承载架具有盖玻片承载板，各凹槽之间沿盖玻片承载板的横向和纵向隔开布置，横向和纵向共同所在的平面与盖玻片承载板的厚度方向垂直。

进一步地，凹槽的形状与盖玻片相适配。

进一步地，盖玻片承载板的下表面的外边缘沿盖玻片承载板的厚度方向向下凸出，至少两层盖玻片承载架沿盖玻片承载板的厚度方向叠放，能够形成多层盖玻片承载架。

进一步地，所述大通量样本培养器循环利用装置还包括底座，其内置于超声清洗仪的腔室内，用于为盖玻片承载架提供向上支撑力，同时使盖玻片承载板与超声清洗仪的内表面保持距离。

进一步地，所述大通量样本培养器循环利用装置还包括提手，两个提手沿盖玻片承载板的横向分别布置在盖玻片承载板或底座的侧面。

进一步地，盖玻片承载板的长度、宽度和高度分别为10cm、10cm、10cm，凹槽的长度、宽度、深度分别为28mm、2mm、10mm，凹槽的数量设置为不大于99个。

进一步地，通孔为直径1mm的圆孔。

进一步地，超声清洗仪的底部和/或侧壁开设有自动排水设备。

本实用新型由于采取以上技术方案，其具有以下优点：

1.本实用新型与已有的超声清洗仪结合，无需再搭建新的超声清洗设备，不造成实验室资源浪费。

2.本实用新型与超声清洗仪结合，但是每张盖玻片都有独立的孔位，可以避免盖玻片堆叠，使清洁更彻底。

3.本实用新型中的独立孔位设计可以避免在超声清洗过程中导致盖玻片因相互碰撞而损坏。

4.使用过的细胞爬片也可以使用本实用新型进行回收清洗，可以使盖玻片循环使用，避免实验资源浪费和减少实验废弃物的产生。

5.本实用新型的底部有自动排水系统，可以快速排水。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的大通量样本培养器循环利用装置的外部结构示意图。

图2为图1中的盒体的内部结构示意图。

图3为图1中的盖玻片承载架的一实施例中的结构示意图。

图4为图1中的盒体上的自动排水设备示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的描述。

如图1-图4所示，本实用新型实施例提供的大通量样本培养器循环利用装置包括超声清洗仪1，超声清洗仪1为现有设备，其具有一个容积较大的腔室11，腔室11内可以存放清洁液。与已有的超声清洗仪结合，无需再搭建新的超声清洗设备，不造成实验室资源浪费。超声清洗仪1还具有一个开盖2，采用磁吸式结构，一是尽量避免手接触，另一方面是便于操作。

超声清洗仪1的腔室11内内置有盖玻片承载架3，盖玻片承载架3的尺寸可以根据腔室11的尺寸预先设置。盖玻片承载架3的上表面开设有至少两个凹槽33，每一个凹槽33的深度不小于一块盖玻片的厚度，体积不小于一块盖玻片的体积，凹槽33的底部设置有通孔34，贯穿盖玻片承载架3。大通量可以理解为单次至少可以清洗297个玻片。

在使用前，先将盖玻片放置于放置在凹槽33里，再将盖玻片承载架3放进腔室11中，然后将清洗液装进腔室11里，浸没盖玻片，合上开盖2，启动超声清洗仪1的清洗按钮，开始清洗。

在一个实施例中，盖玻片承载架3具有盖玻片承载板31，通孔34的中心线可以与盖玻片承载板31的厚度方向Z相同，也可以大致相同。这样可以既可以保证清洗液进入到凹槽33内，浸没盖玻片，也可以保证在排放清洗液的时候，凹槽33中的清洗液借由通孔34排出。

在一个实施例中，盖玻片承载架3具有盖玻片承载板31，各凹槽33之间沿盖玻片承载板31的横向x和纵向y隔开布置，横向x和纵向y共同所在的平面与盖玻片承载板31的厚度方向Z垂直。这样可以保证使得各个盖玻片相互独立，隔开，避免盖玻片堆叠，使盖玻片在超声清洗过程中更彻底，同时也避免盖玻片相互碰撞而损坏。

在一个实施例中，凹槽33的形状与盖玻片相适配。相适配可以理解为稍大点，便于取放盖玻片，但不宜尺寸过大，以保证一个盖玻片承载板31能够容纳尽可能多数量的凹槽33。

在一个实施例中，盖玻片承载板31的下表面的外边缘沿盖玻片承载板31的厚度方向Z向下凸出，至少两层盖玻片承载架3沿盖玻片承载板31的厚度方向Z叠放，能够形成多层盖玻片承载架3。因此，可以保证一次性可以清洗更多数量的盖玻片，绿色环保，省时省力。

在一个实施例中，大通量样本培养器循环利用装置还包括底座4，其内置于超声清洗仪1的腔室11内，用于为盖玻片承载架3提供向上支撑力，同时使盖玻片承载板31与超声清洗仪1的内表面保持距离。这样也可以在一定程度上避免盖玻片与超声清洗仪1的内表面接触而受到污染。

在一个实施例中，所述大通量样本培养器循环利用装置还包括提手32，两个提手32沿盖玻片承载板31的横向x分别布置在盖玻片承载板31或底座4的侧面。清洗前，待盖玻片都放置好后，清洗人员可以通过提手32，方便地将所述大通量样本培养器循环利用装置放入到腔室11内，也可以在清洗完毕后，便捷地将所述大通量样本培养器循环利用装置从腔室11取出，放入烤箱中进行烘干。

在一个实施例中，盖玻片承载板31的长度、宽度和高度分别为10cm、10cm、10cm，凹槽33的长度、宽度、深度分别为28mm、2mm、10mm，凹槽33的数量设置为不大于99个。

在一个实施例中，通孔34为直径1mm的圆孔。

在一个实施例中，超声清洗仪1的底部和/或侧壁开设有自动排水设备5。在清洗完毕后，开启自动排水设备5，可以将腔室11内的清洗液快速排除干净，使盖玻片清洗更彻底。

上述实施例中的大通量样本培养器循环利用装置在结构上明显有别于已有的清洗装置，结构紧凑、操作简单、方便轻巧且效率高，为盖玻片的循环使用提供便利性。

最后需要指出的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制。本领域的普通技术人员应当理解：可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，包括超声清洗仪(1)以及内置于超声清洗仪(1)的腔室(11)内的盖玻片承载架(3)，盖玻片承载架(3)的上表面开设有至少两个凹槽(33)，每一个凹槽(33)的深度不小于一块盖玻片的厚度，体积不小于一块盖玻片的体积，凹槽(33)的底部设置有通孔(34)，贯穿盖玻片承载架(3)。

2.如权利要求1所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，盖玻片承载架(3)具有盖玻片承载板(31)，通孔(34)的中心线与盖玻片承载板(31)的厚度方向(Z)相同。

3.如权利要求1所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，盖玻片承载架(3)具有盖玻片承载板(31)，各凹槽(33)之间沿盖玻片承载板(31)的横向(x)和纵向(y)隔开布置，横向(x)和纵向(y)共同所在的平面与盖玻片承载板(31)的厚度方向(Z)垂直。

4.如权利要求3所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，凹槽(33)的形状与盖玻片相适配。

5.如权利要求1-4中任一项所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，盖玻片承载板(31)的下表面的外边缘沿盖玻片承载板(31)的厚度方向(Z)向下凸出，至少两层盖玻片承载架(3)沿盖玻片承载板(31)的厚度方向(Z)叠放，能够形成多层盖玻片承载架(3)。

6.如权利要求5所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，还包括底座(4)，其内置于超声清洗仪(1)的腔室(11)内，用于为盖玻片承载架(3)提供向上支撑力，同时使盖玻片承载板(31)与超声清洗仪(1)的内表面保持距离。

7.如权利要求6所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，还包括提手(32)，两个提手(32)沿盖玻片承载板(31)的横向(x)分别布置在盖玻片承载板(31)或底座(4)的侧面。

8.如权利要求7所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，盖玻片承载板(31)的长度、宽度和高度分别为10cm、10cm、10cm，凹槽(33)的长度、宽度、深度分别为28mm、2mm、10mm，凹槽(33)的数量设置为不大于99个。

9.如权利要求8所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，通孔(34)为直径1mm的圆孔。

10.如权利要求9所述的大通量样本培养器循环利用装置，其特征在于，超声清洗仪的底部和/或侧壁开设有自动排水设备(5)。