CN220235038U - 等离子体发生装置和净化设备 - Google Patents
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 16
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 115
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 5
- 239000003570 air Substances 0.000 description 4
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- -1 skin Substances 0.000 description 3
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 3
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
本申请提出一种等离子体发生装置和净化设备,该等离子体发生装置包括第一电极、介质层以及第二电极,介质层设于第一电极的至少部分表面;第二电极贴设于介质层背离第一电极的至少部分表面以在介质层表面形成净化区域,第二电极的至少部分区域设有镂空结构。本申请的技术方案,可以增大等离子体发生装置产生的等离子体覆盖面积,提高净化效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及分离和净化技术领域,特别涉及一种等离子体发生装置和净化设备。
背景技术
相关技术中,等离子体发生装置中用于制备等离子体的电极多为平板电极,这种等离子体发生装置,产生的等离子体覆盖面积很小,往往在微米量级,无法对空气、水或其他物件进行有效净化。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提供一种等离子体发生装置和净化设备,旨在增大等离子体发生装置产生的等离子体覆盖面积,提高净化效果。
为实现上述目的,本实用新型提出的一种等离子体发生装置包括:
第一电极;
介质层,所述介质层设于所述第一电极的至少部分表面;以及
第二电极,所述第二电极贴设于所述介质层背离所述第一电极的至少部分表面以在所述介质层表面形成净化区域,所述第二电极的至少部分区域设有镂空结构。
在本申请的一实施例中,所述第二电极的部分镂空处中任一点与镂空边缘的最小距离为d,满足d≤2.5mm;
和/或,所述镂空结构遍布所述第二电极。
在本申请的一实施例中,所述第一电极和所述第二电极之间的放电电压U满足,U≤3kV。
在本申请的一实施例中,所述第一电极为条形结构,所述介质层绕设于至少部分所述第一电极,所述第二电极绕设于至少部分所述介质层。
在本申请的一实施例中,所述第一电极的一端凸出所述介质层设置并作为导电端。
在本申请的一实施例中,所述第二电极包括至少一螺旋电极。
在本申请的一实施例中,所述第二电极包括两所述螺旋电极,两所述螺旋电极旋向相反且相互交叉;
和/或,所述螺旋电极为螺旋延伸的金属丝或金属扁条。
在本申请的一实施例中,所述第二电极包括并排设置的至少两个条形电极。
在本申请的一实施例中,所述第二电极还包括连接电极,所述连接电极与所述条形电极呈夹角设置,并与各个所述条形电极连接;
和/或,所述条形电极为金属丝或金属扁条。
在本申请的一实施例中,所述第二电极为板状电极,所述板状电极开设有若干镂空孔;
或,所述第二电极为网状电极。
在本申请的一实施例中,所述第二电极包括呈点阵排列的多个点状电极;
和/或,所述第二电极包括呈点阵排列的多个块状电极。
本申请还提出一种净化设备,所述净化设备包括前述等离子体发生装置。
本申请的技术方案,在等离子体发生装置中设置具有镂空结构的第二电极,并使该第二电极暴露在待净化环境中;将暴露在待净化环境的第二电极的部分区域镂空设置,一方面在采用等量材料的前提下,等效增大了电极的外延长度,另一方面,在镂空结构位置上,围合形成镂空处的部分电极所产生的等离子体覆盖区域相互衔接而减少了相互重叠的等离子体覆盖区域,从而使得等离子体发生装置在施加相同放电电压下可以获得更大的等离子体覆盖面积,确保产生的等离子体与外部空气或水等物质充分接触,以对空气、水、织物、皮肤、材料表面等进行有效净化消毒,提高净化效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本申请等离子体发生装置第一实施例的结构图;
图2为本申请等离子体发生装置第二实施例的结构图;
图3为本申请第二电极为条形网状结构一实施例的结构图;
图4为本申请等离子体发生装置第三实施例的结构图;
图5为本申请第二电极为板状开孔结构一实施例的结构图;
图6为本申请等离子体发生装置第四实施例的结构图;
图7为本申请等离子体发生装置第五实施例的结构图;
图8为本申请第二电极为网状结构一实施例的结构图;
图9为本申请等离子体发生装置第六实施例的结构图;
图10为本申请第二电极为网状结构另一实施例的结构图;
图11为本申请等离子体发生装置第七实施例的结构图;
图12为本申请第二电极部分镂空结构一实施例的结构图;
图13为本申请等离子体发生装置第八实施例的结构图;
图14为本申请等离子体发生装置第九实施例的结构图;
图15为本申请等离子体发生装置第十实施例的结构图;
图16为本申请等离子体发生装置第十一实施例的结构图;
图17为本申请等离子体发生装置第十二实施例的结构图。
附图标号说明:
标号 | 名称 | 标号 | 名称 |
100 | 等离子体发生装置 | 13 | 连接电极 |
10 | 第二电极 | 30 | 第一电极 |
11 | 条形电极 | 50 | 介质层 |
本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
需要说明,本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
另外,在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
本实用新型提出一种等离子体发生装置100,应理解的是,等离子体发生装置100通常设置有第一电极30、介质层50以及第二电极10,其工作原理是在第一电极30和第二电极10两个电极之间形成正电压或负电压,两电极之间的介质层50可形成介质阻挡放电,当在两电极间施加足够强度的电压以后,可以将两电极间的空气会被电离产生等离子,产生的等离子体会从电极出发,沿着介质表面传播一段距离,覆盖在电极的周侧,对与之接触的空气、水、织物、皮肤、材料表面等起到净化作用,以去除物质中的有毒有害物质。可将等离子体发生装置100应用在净化设备中,例如用于空调、空气净化器以及洗地机等,减少空调和空气净化器吹出的风中所包含的有毒有害物质,对洗地机中用于清洁的水进行净化、杀菌以及消毒,当然也可以是其他净化设备,例如用于对织物、皮肤或材料表面等的净化消毒处理,在此不做限定。
请参照图1至图13,在本申请的一些实施例中,等离子体发生装置100的介质层50设于第一电极30的至少部分表面;第二电极10贴设于介质层50背离第一电极10的至少部分表面以在介质层50表面形成净化区域,且第二电极10的至少部分区域设置为镂空结构。
本实施例中,介质层50可以仅覆盖在第一电极30的部分区域,也可以覆盖或包覆第一电极30,而第二电极10作为等离子体发生装置100用于与待净化物接触的外置电极贴设在介质层50的背离第一电极30的一侧表面,使得等离子体发生装置100运行时产生的等离子体附着在第二电极10上,并可自第二电极10出发而附着在介质层50表面;另外,将第二电极10的至少部分区域设置镂空结构,第二电极10可以是刚性材质,形成具有镂空孔的板状电极,或者包括多个间隔设置的点块状电极,第二电极10也可以是采用可弯曲便于塑形的金属材料,例如采用金属丝、金属条或金属线等编织形成网状电极或绕制形成螺旋结构或任意形状结构等;而镂空结构可以单个或至少两个间隔设置的镂空孔,镂空孔可以是圆孔、方孔或其他规则或不规则的形状,也可以是网状电极上的网孔、螺旋电极的层间间隙,还可以是当第二电极10包括多个间隔设置的点块状电极时相邻点块状电极之间的间隔区域;另外,可以仅在第二电极10的部分区域设置镂空结构,另一部分区域则为完整连续的电极面,即是该第二电极10具有限定尺寸区域的完整电极面;可以理解的,此时,在同等材料用量下,设置镂空结构可以使第二电极10的成型面积或长度增大,反之,在相同净化环境中,设置镂空结构可以减少第二电极10的材料用量。
而对于第二电极10所形成的等离子体覆盖区域,在等离子体发生装置100产生等离子体之后,等离子体会从第二电极10出发,沿着介质表面传播一段距离,覆盖在第二电极10的周侧,可以理解的,对于面状无镂空结构的电极,相当于将多个条形电极或点块状电极无间隙排布,此时,每个条形电极或点块状电极周侧所形成的等离子体覆盖区域便会与相邻的电极所形成的等离子体覆盖区域重叠;而对于本实施例中提出的第二电极10,在镂空结构位置,相邻的线状或点块状电极之间通过镂空位置间隔设置,等离子体会沿介质表面扩散到镂空区域上,减少了相邻的等离子体覆盖区域的重叠区域,相邻的电极所形成的等离子体覆盖区域便可以相互衔接,从而使得等离子体发生装置100在施加相同放电电压下可以获得更大的等离子体覆盖面积,充分利用了各个电极周侧所形成的等离子体覆盖区域内的等离子体;确保产生的等离子体与外部空气或水等物质充分接触,以对空气、水、织物等物质进行有效净化消毒,提高净化效果。
需要说明的是,本实施例中,第二电极10中可以如图12和图13所示仅在部分区域设置镂空结构,也可以是使得镂空结构遍布整个第二电极10,当镂空结构遍布整个第二电极10时,可以使得第二电极10的各个位置的等离子覆盖区域被充分利用,更好地提高等离子体的利用效率;但在一些实施例中,基于第二电极10与外部电源的连接便捷程度,或者第二电极10的安装便捷程度以及安装强度和稳定性等因素的考虑,也可以将第二电极10的部分区域设置为完整的面状电极区域,从而在获得更大的等离子体覆盖面积、提高对等离子体的利用效率的同时,满足其他使用或安装需求。
因此,可以理解的,本申请的技术方案,在等离子体发生装置100中设置具有镂空结构的第二电极10,并使该第二电极10暴露在待净化环境中;将暴露在待净化环境的第二电极10的部分区域镂空设置,一方面在采用等量材料的前提下,等效增大了电极的外延长度,另一方面,在镂空结构位置上,围合形成镂空处的部分电极所产生的等离子体覆盖区域相互衔接而减少了相互重叠的等离子体覆盖区域,从而使得等离子体发生装置100在施加相同放电电压下可以获得更大的等离子体覆盖面积,确保产生的等离子体与外部空气或水等物质充分接触,以对空气、水、织物、皮肤、材料表面等进行有效净化消毒,提高净化效果。
在本申请的一实施例中,第二电极10的部分镂空处中任一点与镂空边缘的最小距离为d,满足d≤2.5mm。
本申请在第二电极10上设置镂空结构,旨在减少电极间的等离子体覆盖区域的重叠部分,从而获得更大的等离子体覆盖面积。可以理解的,对于镂空结构中的各个镂空位置,均有电极所形成的镂空边缘,镂空位置中的等离子体也是自镂空边缘的电极向内扩散而形成的;本实施例中,限定在镂空结构的部分镂空位置中的任一点与其最近的镂空边缘的电极之间的距离d≤2.5mm,在保证用电安全范围内,施加电压最大值时产生的等离子体自电极向外扩散的最大长度在2.5mm左右,因此,若镂空位置中存在某一位置距离最近的镂空边缘的距离超出等离子体的扩散长度,便容易导致产生的等离子体覆盖面积不能完全覆盖镂空的介质层50表面,也即在相同外电极体积或总覆盖面积相同的情况下,镂空位置中就有一部分空隙没有被等离子体覆盖;当镂空位置中的任一点与其最近的镂空边缘的电极之间的距离d不大于2.5mm时,这时满足施加电压最大值不超过安全用电条件时,产生的等离子体区域可以覆盖该镂空位置,从而在该镂空位置范围内均具有较好的净化效果,其中,可以根据所施加的电压值对d取值,例如可以取值0.1mm、0.5mm、1mm、1.5mm、2mm或者2.5mm以及2.5mm以内任意取值。当然,需要说明的是,随着技术的发展,例如第二电极10的材料、介质层50的材料、等离子体产生环境、可施加的电压值范围的变化等,本领域技术人员可以依据不同的条件调整d的取值,在不同条件下采用与2.5mm有类似效果的其他尺寸,且可以大于2.5mm。
当向等离子体发生装置100的两电极施加电压产生等离子体时,电压越高,等离子体的覆盖面积越大,而若电压过大,不仅使能耗增加,也大大增加了操作过程中的技术危险性,而且通过增大电压的方式所提升的等离子体覆盖面积有限;而向等离子体发生装置100施加在3kV以内包括3kV的低电压时,技术危险性低,且功率也相对较低;通过对放电过程中等离子体产生装置100的表面进行观察,可以判断等离子体是否完全覆盖介质层50表面,当介质层50表面整体的电子密度大于1.0*1018,此时等离子体发生装置100表面能观察到均匀的紫光,且紫光能完全覆盖等离子体发生装置100表面,即可判断介质层50均有等离子体覆盖;当介质层50表面整体的电子密度小于1.0*1018时,紫光无法均匀地覆盖等离子体发生装置100表面,能观察到明显的随外电极延伸的暗色条纹;使得镂空处任意一点距离外电极最小距离不超过2.5mm,此时取临界值2.5mm,在3kV电压的驱动下,等离子体能够对实现对介质层50的全覆盖,而当超过2.5mm时,等离子体反应器难以在3kV以下的电压实现全覆盖;可以理解的,当进一步提高电压,必然存在一个较高的电压使该等离子体发生装置100的介质层50被等离子体全覆盖,但过高的电压使能耗增加,也大大增加了技术危险性,对于制造和实际应用有严重的负面效果。但随着技术的发展,可安全操作的电压范围可能逐渐增大,此时,便可以适当增大镂空处d的取值,使d在超过2.5mm时也能取得完全覆盖的效果。也即,本实施例中,将镂空处中任一点与镂空边缘之间的间距d所限定的最大值为2.5mm,可以在目前3kV内包括3kV的安全电压下,在低电压低能耗的应用环境中,使得产生的等离子体完全覆盖等离子体发生装置100的表面,获得最大的等离子体覆盖面积。
另外,需要说明的是,当第二电极10的镂空结构中各个镂空位置的每一点均满足上述尺寸限定时,第二电极10的镂空结构便可以完全被等离子体覆盖,从而起到更为优异的净化效果;但仅使得镂空结构中的部分镂空位置满足上述尺寸限定时,同样可以在一定程度上提升等离子体发生装置100的净化效果。还需要说明的是,第二电极10上的镂空结构为镂空孔或者镂空间隙时,可以使得各个镂空孔或各个镂空间隙保持形状和尺寸一致,也可以设置不同尺寸和不同形状的镂空结构。
请参照图5,在本申请的一实施例中,所述镂空结构遍布所述第二电极10。
本实施例中,使得镂空结构遍布整个第二电极10,例如采用均匀开孔的板状电极或筒状电极、采用网状电极、螺旋电极或设置多个阵列排布的点块状电极;即是将第二电极10根据预设尺寸划分为多个区域,每一区域均具有镂空结构,如此设置,便可以使得第二电极10的各个位置的等离子覆盖区域被充分利用,在相同电压材料使用下,第二电极10具有更长的外延长度,可以获得更大的等离子体覆盖面积,更好地提高等离子体的利用效率。其中,等离子体发生装置10上设置的镂空结构可以是如附图图3-11所示均匀分布,也可以是如附图图14至图17所示不均匀分布,在此不做限定。
在本申请的一实施例中,所述第一电极30和所述第二电极10之间的放电电压U满足,U≤3kV。
本实施例中,在等离子体发生装置100中,对第一电极和第二电极之间施加的电压U不超过短时工频耐受电压3kV,以满足用电安全范围,此时,在第二电极10即第二电极上的镂空结构满足镂空处任意一点与镂空边缘的最小距离d不超过2.5mm时,在施加电压为3kV时,产生的等离子体已经完全覆盖介质层表面;当然,当镂空处任意一点与镂空边缘的最小距离越小时,可以适当减小施加电压,以减少输出功率;需要说明的是,随着技术的发展,例如第二电极10的材料、介质层50的材料、等离子体产生环境、可施加的安全电压值范围的变化等,本领域技术人员可以依据不同的条件采用与3kV有类似效果的其他电压值,包括且不限于大于3kV。
请参照图1和图2,在本申请的一实施例中,所述第一电极30为条形结构,所述介质层50绕设于至少部分所述第一电极30,所述第二电极10绕设于至少部分所述介质层50。
本实施例中,第一电极30为条形结构,可以是金属丝,也可以是金属扁条,还可以是横截面为任意形状的条形结构,使得介质层50绕制在第一电极30外侧,第二电极绕制在介质层50的外侧,即是使得作为第二电极的第二电极10为表面镂空的环绕介质层50设置的筒状结构,其横截面可以是圆形、椭圆、矩形、三角形或其他多边形等任意外形;表面镂空的筒状结构可以是金属线绕制形成的螺旋电极,或者环绕设置的网状电极、筒状开孔的电极结构或者多个点块状电极结构环绕布置,在此不做限定。如此设置,即是使得等离子体发生装置100形成同轴包绕结构,具有空间结构形态,可以在第一电极30的体积尺寸一定的情况下,充分利用第一电极30的表面区域,使得第一电极30和第二电极之间的放电区域相对更大。或者,在等离子体发生装置100的放电区域面积一定的情况下,由于充分利用第一电极30的表面区域,可使得第一电极30的体积相对更小,进而使得介质层50和第二电极的体积也相对更小,最终可使得本申请的等离子发生装置具有较好的净化性能的情况下,体积尺寸也更紧凑。
需要说明的是,当采用本实施例的第二电极10,且为螺旋电极、网状电极以及点块状电极时,介质层50可以作为第二电极10的附着基础,可以是刚性或柔性便于塑形的材质,以使第二电极10依靠介质层50塑形成所需的结构形态。
请参照图1和图2,在本申请的一实施例中,第一电极30的一端凸出介质层50设置并作为导电端。
可以理解的,在等离子体发生装置100中,需要在第一电极30和第二电极10施加电压使得两个电极之间形成正电压或负电压,而两电极之间的介质层50可形成介质阻挡放电,当在两电极间施加足够强度的电压以后,可以将两电极间的空气会被电离产生等离子。而当采用介质层50和第二电极10包覆在第一电极30外侧时,便会导致第一电极30被遮蔽;本实施例中,使得第一电极30的一端凸出介质层50,以作为导电端用于外接电源,以便于在第一电极30施加电压,提高第一电极30的接线便捷性。
请参照图1,在本申请的一实施例中,所述第二电极10包括绕设于介质层50外侧的至少一螺旋电极。
本实施例为第二电极10的其中一种实施形态,可以采用单根金属线或金属扁条在介质层50外侧绕制形成单一的螺旋电极,也可以是在介质层50外侧绕设至少两个螺旋电极,两螺旋电极之间旋向可以相同也可以如下实施例中旋向相反使得两螺旋电极交叉。螺旋电极的相邻层间便形成了镂空间隙,在一些实施例中,对第二电极10的部分镂空处中任一点与镂空边缘的最小距离为d尺寸限定,此时,对于单个螺旋电极,即是使得相邻层间的螺旋间距不超过2d,从而确保相邻层间任一点与螺旋电极的最小距离满足上述尺寸限定,从而确保产生的等离子体可以覆盖整个层间间隙,提高净化效果。
请参照图2,在本申请的一实施例中,所述第二电极10包括两所述螺旋电极,两所述螺旋电极沿第一电极的长度方向错位设置。
本实施例为第二电极10的其中一种实施形态,第二电极10为双螺旋结构,且两螺旋电极错位设置,此时两螺旋电极相互交叉,同样的,未被螺旋电极覆盖的位置即为镂空区域,镂空区域内显露出位于内侧的介质层50,当产生等离子体时,等离子体便会自螺旋电极沿介质层50的表面扩散至镂空区域内,以覆盖镂空区域,增大等离子体与外部空气或水等物质的接触面积,起到较好的净化作用。
在本申请的一实施例中,螺旋电极为螺旋延伸的金属丝或金属扁条。其中,采用金属丝形成的螺旋电极材料使用更少,可以在充分减少材料使用,且在相同放电电压的条件下具有较好的等离子覆盖效果。而采用金属扁条绕制形成螺旋电极,第二电极10与介质层50的接触面积更大,可以提高第二电极10绕制于介质层50时的结构强度和稳定性,避免第二电极10滑动,保证等离子发生装置的性能稳定。
请参照图3和图4,在本申请的一实施例中,所述第二电极10包括并排设置于所述介质层50表面的至少两个条形电极11。
本实施例为第二电极10的另一种实施形态,包括并排设置的至少两个条形电极11,相邻两个条形电极11之间的间隙即为镂空间隙,至少两个条形电极11可以依据实际需求并排设置在平面或曲面上,具有较高的塑形灵活性,可以适用于不用净化环境的结构布置需求。其中,当向第二电极10施加电压时,可以是分别向各个条形电极11施加电压,也可以是如下实施例中通过连接电极13施加电压,在此不做限定。
请参照图3和图4,在本申请的一实施例中,所述第二电极10还包括连接电极13,所述连接电极13与所述条形电极11呈夹角设置,并与各个所述条形电极11连接。
本实施例中,第二电极10还包括连接电极13,连接电机与各个条形电极11呈夹角设置且连接,如此设置,既可以通过连接电极13连接各个条形电极11使得第二电极10的结构连续一体化,避免电极散落遗失;另外可以通过将连接电极13接通外界电源向连接电极13和各个条形电极11施加外部电压,提高第二电极10的连接便捷程度,且使得各个条形电极11大致为并联结构,各个条形电极11的电压一致,所产生的等离子体的量和延伸范围大致相同,提高了等离子体发生装置100各个位置净化效果的一致性。
在本申请的一实施例中,所述条形电极11为金属丝或金属扁条。其中,采用金属丝形成的条形电极11材料使用更少,可以在充分减少材料使用,且在相同放电电压的条件下具有较好的等离子覆盖效果。而采用金属扁条形成条形电极11,第二电极10与介质层50的接触面积更大,可以提高第二电极10设置在介质层50时的结构强度和稳定性,避免第二电极10滑动,保证等离子发生装置的性能稳定。
请参照图5、图6以及图12和图13,在本申请的一实施例中,所述第二电极10为板状电极,所述板状电极开设有若干镂空孔。
本实施例为第二电极10的另一种实施形态,即是在板状电极上加工形成镂空孔形成镂空结构,镂空孔的形状可以是圆孔、方孔或其他规则或不规则的形状,板状电极可以是平板或曲面板,还可以是环绕形成筒状结构,在此不做限定,利用板状电极加工出镂空孔形成第二电极10,第二电极10的结构强度较高,不易变形不易损毁,也可以对其罩设的介质层50和第一电极30起保护作用,从而可以有效地保证第二电极10和等离子体发生装置100的性能稳定。
请参照图8至图11,在本申请的一实施例中,所述第二电极10为网状电极。
本实施例为第二电极10的另一种实施形态,将第二电极10设置为网状结构,网孔位置即为镂空位置,网状结构可以是链条网或编织网以及其他网状形态,在此不做限定。而将第二电极10设置为网状结构,一方面,第二电极10便于塑形,可以弯曲包覆贴合介质层50;另一方面,相较于螺旋电极,网状电极的结构强度更高,各网孔的交叉位置均相互连接,结构不易散乱、稳定性较高。
请参照图7,在本申请的一实施例中,所述第二电极10包括呈点阵排列于所述介质层50表面的多个点状电极;
和/或,所述第二电极10包括呈点阵排列于所述介质层50表面的多个块状电极。
本实施例中,采用多个点状电极或块状电极贴敷在介质层50的表面以作为第二电极,相邻两个电极之间的间隙即为镂空位置,采用分体式的点状电极和块状电极的组合电极结构,可以使第二电极10具有更高的场景适用能力,根据净化环境、介质层50或第一电极30的结构形态,自由组合设置各个点状电极和块状电极的位置和间隙,更好地提高了第二电极10的适用性。
本申请还提出一种净化设备,所述净化设备包括前述等离子体发生装置100。本申请提出的净化装置,可以是但不限于空调、空气净化器以及洗地机等,净化装置中设置的等离子体发生装置100,在运行时产生的等离子体可以减少空调和空气净化器吹出的风中所包含的有毒有害物质,对洗地机中用于清洁的水进行净化、杀菌以及消毒,当然也可以是其他净化设备,在此不做限定。由于本申请提出的净化设备应用了前述第二电极10和等离子体发生装置100的所有实施例的全部技术方案,因此至少具有前述所有技术方案带来的全部有益效果,在此不一一赘述。
以上所述仅为本申请的优选实施例,并非因此限制本申请的专利范围,凡是在本申请的发明构思下,利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (12)
1.一种等离子体发生装置,其特征在于,包括:
第一电极;
介质层,所述介质层设于所述第一电极的至少部分表面;以及
第二电极,所述第二电极贴设于所述介质层背离所述第一电极的至少部分表面以在所述介质层表面形成净化区域,所述第二电极的至少部分区域设有镂空结构。
2.如权利要求1所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极的部分镂空处中任一点与镂空边缘的最小距离为d,满足d≤2.5mm;
和/或,所述镂空结构遍布所述第二电极。
3.如权利要求1所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第一电极和所述第二电极之间的放电电压U满足,U≤3kV。
4.如权利要求1所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第一电极为条形结构,所述介质层绕设于至少部分所述第一电极,所述第二电极绕设于至少部分所述介质层。
5.如权利要求4所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第一电极的一端凸出所述介质层设置并作为导电端。
6.如权利要求4所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极包括绕设于所述介质层外侧的至少一螺旋电极。
7.如权利要求6所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极包括两所述螺旋电极,两所述螺旋电极沿所述第一电极的长度方向错位设置;
和/或,所述螺旋电极为螺旋延伸的金属丝或金属扁条。
8.如权利要求1至5任一项中所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极包括并排设置于所述介质层表面的至少两个条形电极。
9.如权利要求8所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极还包括连接电极,所述连接电极与所述条形电极呈夹角设置,并与各个所述条形电极连接;
和/或,所述条形电极为金属丝或金属扁条。
10.如权利要求1至5任一项中所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极为板状电极,所述板状电极开设有若干镂空孔;
或,所述第二电极为网状电极。
11.如权利要求1至5任一项中所述的等离子体发生装置,其特征在于,所述第二电极包括呈点阵排列于所述介质层表面的多个点状电极;
和/或,所述第二电极包括呈点阵排列于所述介质层表面的多个块状电极。
12.一种净化设备,其特征在于,所述设备包括如权利要求1至11任一项中所述的等离子体发生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202321850156.XU CN220235038U (zh) | 2023-07-13 | 2023-07-13 | 等离子体发生装置和净化设备 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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CN220235038U true CN220235038U (zh) | 2023-12-22 |
Family
ID=89186497
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Country Status (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN118382191A (zh) * | 2024-06-24 | 2024-07-23 | 安徽立诺威智能科技有限公司 | 一种放电增强的等离子体发生及消毒装置 |
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2023
- 2023-07-13 CN CN202321850156.XU patent/CN220235038U/zh active Active
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