CN220193278U - 足下垂牵伸器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及踝足矫形器领域,尤其是一种足下垂牵伸器,包括:底座,沿前后方向延伸,底座可供患者以俯卧的姿态放置大腿;一对立杆,左右相对设置且沿着竖直方向延伸,一对立杆固定连接于底座上;活动板,位于底座的上侧且可绕一横向轴心线转动地支撑于一对立杆上,活动板具有朝向底座且适于向患者足部施压的施压表面;以及操作手柄,具有固定连接于活动板上的连杆与适于使用者握持的握持部,以供使用者借由施压表面向患者的足部施加朝向足部背侧的力。使用者在使用足下垂牵伸器时可通过逐步增大力量,直至以适宜的力度达到较好的足部牵伸效果,从而矫正患者的足部。
Description
技术领域
本实用新型涉及踝足矫形器领域,尤其是一种足下垂牵伸器。
背景技术
足下垂是骨外科体征之一。患者坐位,两下肢自然悬垂,如见足处于跖屈位且完全不能主动背屈与内、外翻,则为足下垂。足下垂患者是由于神经根(腓总神经、脚神经、坐骨神经腰骶神经根、大脑神经均可能)长期严重受压,神经根表面压力超过50mmHg持续2分钟即可引起神经功能障碍,而在100mmHg以上即可导致脚周围神经损伤、脊髓运动神经损伤、肌营养不良和关节屈曲畸形,进而增加了僵硬度和关节周围的肌肉结构发生活化而发生了生物力学变化,软组织缺损或瘢痕牵拉于某一位置。
目前治疗足下垂的康复治疗方法主要包括良肢位摆放、踝关节背屈运动、手法治疗、功能性电刺激、踝足矫形器。然而,良肢位摆放只具有预防作用而不具有矫正作用;足下垂患者通常无法自主进行背屈活动;手法治疗需要专业的治疗师配合治疗;功能性电刺激只能诱发踝关节背屈,但牵引力度较低;踝足矫形器只能预防足下垂进一步加重,无法矫正足下垂。
公开号为CN115177497A的中国发明申请文件公开了一种具备锻炼功能的预防患者足下垂支具,该足下垂支具可供患者穿戴于足部,以借由患者行走和站立时施加于足部的压力来牵引患者的足部。然而,借由患者自重施加于患者足部的压力力度难以把握,力度过小则起不到牵引足部的效果,而力度过大则会使得患者足部产生较大的不适。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种便于牵伸足下垂患者足部的足下垂牵伸器。
为了解决上述的技术问题,本实用新型提供以下技术方案:一种足下垂牵伸器,包括:底座,沿前后方向延伸,所述的底座可供患者以俯卧的姿态放置大腿;一对立杆,左右相对设置且沿着竖直方向延伸,所述的一对立杆固定连接于所述底座上;活动板,位于所述底座的上侧且可绕一横向轴心线转动地支撑于所述的一对立杆上,所述的活动板具有朝向所述底座且适于向患者足部施压的施压表面;以及操作手柄,具有固定连接于所述活动板上的连杆与适于使用者握持的握持部,以供使用者借由所述的施压表面向患者的足部施加朝向足部背侧的力。
在上述的技术方案中,优选地,所述的足下垂牵伸器还包括分别配置于一对所述立杆上的一对支承单元,各个所述的立杆均包括位于下部的固定部和毗邻所述固定部上侧的第一螺纹部,各个所述的支承单元均包括套设于所述第一螺纹部上的轴套以及分别从上侧与下侧锁定所述轴套的上锁定螺帽与下锁定螺帽,所述的上锁定螺帽与所述的下锁定螺帽均螺纹连接所述的第一螺纹部,所述的活动板可转动地支撑于所述的一对轴套上。
在上述的优选方案中,进一步优选地,所述的足下垂牵伸器还包括横杆,所述横杆的两侧端部分别开设有沿自身轴线方向向内凹陷的配位槽,各个所述的轴套上均配置有向外凸出且适配于所述配位槽的配位凸起,所述的横杆经由一对所述的配位凸起支撑于所述的一对立杆上,所述的活动板可转动地支撑于所述的横杆上。还可以进一步优选地,所述的活动板具有可转动地支撑于所述横杆上的转动部,所述转动部的内侧开设有向外表面凹陷的限位槽,所述的横杆设置有向外凸出且伸入所述限位槽的限位凸起,以限定所述活动板的转动角度。
在上述的优选方案中,进一步优选地,各个所述的轴套均具有向外凸出的支撑部,所述的活动板可转动地支撑于一对所述轴套的支撑部上。
在上述的技术方案中,优选地,所述的施压表面上设置有适于接触患者足弓的硅胶体。还可以进一步优选地,所述的活动板具有可转动地支撑于所述一对立杆上的转动部与固定连接于所述转动部的施力部,所述的施压表面形成于所述的施力部上;所述的施压表面形成有毗邻所述硅胶体且适于接触患者脚跟处的第一区域,所述第一区域的中部与所述的转动部沿所述活动板的厚度方向对齐。
在上述的技术方案中,优选地,所述的施压表面具有适于患者前脚掌放置的第二区域,所述第二区域的中心与所述的横向轴心线之间具有第一间距,所述的握持部与所述的横向轴心线之间具有第二间距,所述的第二间距不小于2倍的第一间距。还可以进一步优选地,所述的底座具有位于所述横向轴心线前部的第一部分与位于所述横向轴心线后部的第二部分,所述的第一部分具有在所述底座的长度方向上的第一长度,所述的第二部分具有在所述底座的长度方向上的第二长度,所述的第一长度不小于所述第二间距的二分之三,所述的第二长度不小于所述第二间距的三分之一。
在上述的技术方案中,优选地,各个所述的立杆均开设有沿竖直方向排列的多个定位槽,各个所述的定位槽均沿左右方向延伸;所述的足下垂牵伸器还包括一对定位螺栓与一对定位螺帽,所述的定位螺栓具有依次毗邻的螺栓头、光杆部与第二螺纹部,所述的活动板具有分别靠近一对所述立杆且适配于所述光杆部的配合部,所述螺栓头的半径大于所述定位槽的半径,所述光杆部的轴向长度不小于所述定位槽与所述配合部的轴向长度之和,所述的定位螺帽与所述的第二螺纹部相适配。
本实用新型所提供的足下垂牵伸器可供患者以俯卧的姿态将大腿放置于底座上,患者翘起小腿后足底接触活动板的施压表面。使用者可通过握持操作手柄的握持部并转动活动板并借由施压表面向患者的足底施加朝向足部背侧的力。使用者在使用足下垂牵伸器时可通过逐步增大力量,直至以适宜的力度达到较好的足部牵伸效果,从而矫正患者的足部。
附图说明
图1为本实用新型所提供的第一种实施方式的足下垂牵伸器的立体图;
图2为图1所示足下垂牵伸器的主视图;
图3为图1所示足下垂牵伸器的支承机构的局部示意图;其中,横杆以剖视图的形式示出;
图4为图1所示足下垂牵伸器的活动板的主视图;
图5为图1所示足下垂牵伸器的横杆与活动板的配合示意图;
图6为图1所示足下垂牵伸器使用原理示意图;
图7为本实用新型所提供的第二种实施方式的足下垂牵伸器的局部示意图。
图中标注:
100、足下垂牵伸器;
1、底座;
2、立杆;21、固定部;22、第一螺纹部;23、定位槽;
31、横杆;311、配位槽;32、轴套;321、配位凸起;33、上锁定螺帽;34、下锁定螺帽;
4、活动板;41、转动部;42、施压部;43、硅胶体;44、配合部;
5、操作手柄;51、连杆;52、握持部;
61、定位螺栓;611、螺栓头;612、光杆部;613、第二螺纹部;
62、定位螺帽;
Y、横向轴心线;A、第一区域;B、第二区域;C、第三区域。
具体实施方式
为详细说明实用新型的技术内容、构造特征、所达成目的及功效,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。在下面的描述中,出于解释的目的,阐述了许多具体细节以提供对实用新型的各种示例性实施例或实施模式的详细说明。然而,各种示例性实施例也可以在没有这些具体细节或者在一个或更多个等同布置的情况下实施。此外,各种示例性实施例可以不同,但不必是排他的。例如,在不脱离实用新型构思的情况下,可以在另一示例性实施例中使用或实现示例性实施例的具体形状、构造和特性。
此外,本申请中,诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”、“侧”(例如,如在“侧壁”中)等的空间相对术语,由此来描述如附图中示出的一个元件与另一(其它)元件的关系。空间相对术语意图包括设备在使用、操作和/或制造中除了附图中描绘的方位之外的不同方位。例如,如果附图中的设备被翻转,则被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”所述其它元件或特征“上方”。因此,示例性术语“在……下方”可以包括上方和下方两种方位。此外,设备可以被另外定位(例如,旋转90度或者在其它方位处),如此,相应地解释在此使用的空间相对描述语。
图1示出了本实用新型所提供的足下垂牵伸器100,其可对足下垂患者的病变足部施加向足背侧转动的作用力,以牵伸该足部。如图所示,该足下垂牵伸器100包括供患者以俯卧的姿态放置大腿的底座1、左右相对地固定连接于底座1上的一对立杆2、可绕一横向轴心线Y转动的活动板4以及固定连接于活动板4上的操作手柄5。
结合图2,底座1沿着前后方向延伸。一对立杆2竖直延伸,各个立杆2均包括毗邻底座1上侧的固定部21与毗邻该固定部21上侧的第一螺纹部22,各个第一螺纹部22的外周表面均通过车削加工工艺形成上下延伸的螺纹线。立杆2可通过焊接、螺纹连接、紧固件连接等方式固定部21于底座1上。
结合图3,足下垂牵伸器100还配置有支承机构。支承机构包括分别配置于一对立杆2上的一对支承单元与位于一对支承单元之间的横杆31。各个支承单元均包括套设于相应立杆2的第一螺纹部22上的轴套32以及分别位于轴套32上下两侧的上锁定螺帽33与下锁定螺帽34,上锁定螺帽33与下锁定螺帽34均螺纹配合相应立杆2的第一螺纹部22。
可以理解地,轴套32借由上锁定螺帽33与下锁定螺帽34被锁定于相应的立杆2上,通过调整上锁定螺帽33与下锁定螺帽34的位置,即可调整相应轴套32与横杆31的上下位置。
横杆31的左右两侧端部分别支撑于一对支承机构的轴套32上,横向轴心线Y由横杆31所限定。横杆31的左右端部分别开设有横向向内延伸的一对配位槽311,各个轴套32上设置有横向向外凸出且适配于相应侧配位槽311的配位凸起321。该结构设计可使得横杆31在足下垂牵伸器100使用时被一对配位凸起321左右限位地固定于一对立杆2上,以作为活动板4转动时的支撑体(详见下文);同时,该结构设计也便于使用者将横杆31从足下垂牵伸器100拆下,以拆装活动板4。
在其它实施例中,也可取消横杆的结构设计并在轴套上配置向外凸出的支撑部,活动板直接可转动地支撑于一对轴套的支撑部上。在该实施方式下,横向轴心线由一对支撑部所限定。相对于具有横杆的结构,该类结构在实际使用时,一对支撑部可能存在竖直位置与对齐角度的偏差,不利于活动板的转动。
在使用该足下垂牵伸器100时,需要患者以俯卧的姿态将大腿部支撑于底座1上并置于一对立杆2之间。因而,一对立杆2之间的横向间距应不小于患者大腿部的宽度,上述横向距离可选取30-40cm中的任一数值,本实施例采用35cm这一横向宽度。
结合图4,活动板4可转动地支承于横杆31上。具体地,该活动板4包括可套设于横杆31上的转动部41与被构造成适于向患者足部施压的施压部42。转动部41呈横向延伸的柱体,该柱体内开设有横向贯通且适配于横杆31的圆槽(图中未标示出),借由圆槽与横杆31的配合,活动板4可绕横向轴心线Y转动地支撑于横杆31上。
活动板4具有朝向底座1的施压表面(即向患者足部施压的一侧表面)与背离底座1的背侧表面,转动部41配置于背侧表面一侧。活动板4的施压表面上配置有适于接触患者足弓的硅胶体43,该施压表面形成有靠近转动部41且适于接触患者脚跟的第一区域A、由硅胶体43所限定且适于接触患者足弓的第二区域B以及远离转动部41且适于接触患者前脚掌的第三区域C。其中,第一区域A与第三区域C分别在活动板4的长度方向上毗硅胶体43的两侧,第一区域A的中部与转动部41沿活动板4的厚度方向对齐。该结构设计可有效地增大活动板4的施压表面与患者足部的接触面积,减小患者在牵伸足部时足部所受到的压强和不适感。
此外,上述结构设计还有利于定位患者的足部和优化施压表面对患者足部的施力效果。具体地,活动板4在绕横向轴心线Y转动时,第一区域A产生的位置变化较小。该结构设计可使得活动板4在牵伸患者足部时尽量小地移动,即大幅减小治疗时患者足部与活动板4相对位置的变换,使得患者的脚前掌始终贴合施压表面的第三区域C,保持较好的施力效果。
继续参阅图1与图4,操作手柄5具有固定于活动板4背侧表面的连杆51与适于使用者握持的握持部52。连杆51沿着活动板4的长度方向延伸并相对活动板4向外凸出,握持部52固定连接于连杆51远离活动板4的一侧端部上。其中,操作手柄5可通过焊接、螺纹连接、一体铸成、紧固件连接等方式固定于活动板4上,握持部52供使用者带动活动板4绕着横向轴心线Y转动。
通过前文所述可知,活动板4的施压表面主要通过第三区域C对患者足部的前脚掌施力,以背屈患者的足部。在使用者手持操作手柄5向患者足部施压时,为节省使用者的力,应尽量增大握持部52与横向轴心线Y的距离。本实施例所提供的,第三区域C的中点距离横向轴心线Y为第一间距,操作手柄5的握持部52距离横向轴心线Y为第二间距,该第二间距不小于两倍的第一间距。
底座1具有位于横向轴心线Y前部的第一部分与位于横向轴心线Y后部的第二部分。由于活动板4的主体部分位于第一部分的上侧,为使得足下垂牵伸器100空置时保持稳定,应使得底座1第一部分的在前后方向上至少越过足下垂牵伸器100的重心位置。本实用新型的第一部分具有沿着底座1长度方向(即前后方向)的第一长度,该第一长度不小于二分之三上述的第一间距。
继续参阅图1和图6,在使用该足下垂牵伸器100时,患者以俯卧的姿态将大腿放置于底座1上并翘起小腿,以使得足底贴合活动板4的施压表面。使用者握持操作手柄5的握持部52并逐渐增大力度,直至以适宜的力度牵伸患者足部,从而达到较好的矫正效果。
在使用该足下垂牵伸器100时,活动板4向患者足部施加朝向足部背侧的第一作用力。可以理解地,活动板4对横杆31施加背离第一作用力的第二作用力。该第二作用力使得足下垂牵伸器100产生一个绕第一部分远离立杆2的末端转动的趋势。该趋势由患者大腿对底座1施加的向下作用力抵消。患者大腿与底座1的主要在底座1的第二部分接触,为提供患者治疗时大腿处的舒适度,应增大第二部分的长度,即增大底座1与患者大腿的接触面积。本实施例所提供的底座1的第二部分具有在底座1的长度方向上的第二长度,该第二长度不小于三分之一上述的第一间距。
进一步地,参阅图5,为限定活动板4的转动角度,以避免使用者施力过大造成患者足部过度背屈而产生较大不适感,该足下垂牵伸器100提供以下结构:转动部41的圆槽内表面沿径向方向转动部41的外表面凹陷形成限位腔(图中未示出),横杆31上具有径向向外凸出并伸入上述限定腔的限位凸起,从而限定活动板4的转动角度。本实施例所提供的活动板4的转动角度被限定于与前后方向呈±15°的角度内。再进一步地,为避免横杆31随活动板4转动,横杆31的配位槽311与轴套32的配位凸起321均被构成多棱柱状。
参阅图7,提供第二实施方式的足下垂牵伸器100’。为避免赘述,以下仅说明第二实施方式与第一实施方式的不同之处。
第二试试方式的立杆2’未设置第一螺纹部,而是开设有沿竖直方向依次排列的多个定位槽23。足下垂牵伸器100’还具有分别配置于一对立杆2’上的一对支承单元,各个支承单元均包括定位螺栓61与定位螺帽62,定位螺栓61具有沿自身轴线方向依次设置的螺栓头611、光杆部612以及第二螺纹部613。压板4’上设置有与定位螺栓61的光杆部612相适配的配合部44。
螺栓头611的径向长度大于定位槽23的径向长度,光杆部612的轴向长度不小于定位槽23与配合部44的轴向长度之和,定位螺帽62可与第二螺纹部613螺纹配合。可以理解地,活动板4可通过一对配合部44可转动地支撑于一对定位螺栓61上,定位螺帽62可锁定于相应的定位螺栓61上以避免活动板4脱离一对定位螺栓61,使用者可通过选择不同高度的定位槽23来调整横向轴心线Y’的高度。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书、说明书及其等效物界定。
Claims (10)
1.一种足下垂牵伸器,其特征在于,包括:
底座,沿前后方向延伸,所述的底座可供患者以俯卧的姿态放置大腿;
一对立杆,左右相对设置且沿着竖直方向延伸,所述的一对立杆固定连接于所述底座上;
活动板,位于所述底座的上侧且可绕一横向轴心线转动地支撑于所述的一对立杆上,所述的活动板具有朝向所述底座且适于向患者足部施压的施压表面;以及
操作手柄,具有固定连接于所述活动板上的连杆与适于使用者握持的握持部,以供使用者借由所述的施压表面向患者的足部施加朝向足部背侧的力。
2.根据权利要求1所述的足下垂牵伸器,其特征在于,还包括分别配置于一对所述立杆上的一对支承单元,各个所述的立杆均包括位于下部的固定部和毗邻所述固定部上侧的第一螺纹部,各个所述的支承单元均包括套设于所述第一螺纹部上的轴套以及分别从上侧与下侧锁定所述轴套的上锁定螺帽与下锁定螺帽,所述的上锁定螺帽与所述的下锁定螺帽均螺纹连接所述的第一螺纹部,所述的活动板可转动地支撑于所述的一对轴套上。
3.根据权利要求2所述的足下垂牵伸器,其特征在于,还包括横杆,所述横杆的两侧端部分别开设有沿自身轴线方向向内凹陷的配位槽,各个所述的轴套上均配置有向外凸出且适配于所述配位槽的配位凸起,所述的横杆经由一对所述的配位凸起支撑于所述的一对立杆上,所述的活动板可转动地支撑于所述的横杆上。
4.根据权利要求3所述的足下垂牵伸器,其特征在于,所述的活动板具有可转动地支撑于所述横杆上的转动部,所述转动部的内侧开设有向外表面凹陷的限位槽,所述的横杆设置有向外凸出且伸入所述限位槽的限位凸起,以限定所述活动板的转动角度。
5.根据权利要求2所述的足下垂牵伸器,其特征在于,各个所述的轴套均具有向外凸出的支撑部,所述的活动板可转动地支撑于一对所述轴套的支撑部上。
6.根据权利要求1所述的足下垂牵伸器,其特征在于,所述的施压表面上设置有适于接触患者足弓的硅胶体。
7.根据权利要求6所述的足下垂牵伸器,其特征在于,所述的活动板具有可转动地支撑于所述一对立杆上的转动部与固定连接于所述转动部的施力部,所述的施压表面形成于所述的施力部上;所述的施压表面形成有毗邻所述硅胶体且适于接触患者脚跟处的第一区域,所述第一区域的中部与所述的转动部沿所述活动板的厚度方向对齐。
8.根据权利要求1或7所述的足下垂牵伸器,其特征在于,所述的施压表面具有适于患者前脚掌放置的第二区域,所述第二区域的中心与所述的横向轴心线之间具有第一间距,所述的握持部与所述的横向轴心线之间具有第二间距,所述的第二间距不小于2倍的第一间距。
9.根据权利要求8所述的足下垂牵伸器,其特征在于,所述的底座具有位于所述横向轴心线前部的第一部分与位于所述横向轴心线后部的第二部分,所述的第一部分具有在所述底座的长度方向上的第一长度,所述的第二部分具有在所述底座的长度方向上的第二长度,所述的第一长度不小于所述第二间距的二分之三,所述的第二长度不小于所述第二间距的三分之一。
10.根据权利要求1所述的足下垂牵伸器,其特征在于,各个所述的立杆均开设有沿竖直方向排列的多个定位槽,各个所述的定位槽均沿左右方向延伸;所述的足下垂牵伸器还包括一对定位螺栓与一对定位螺帽,所述的定位螺栓具有依次毗邻的螺栓头、光杆部与第二螺纹部,所述的活动板具有分别靠近一对所述立杆且适配于所述光杆部的配合部,所述螺栓头的半径大于所述定位槽的半径,所述光杆部的轴向长度不小于所述定位槽与所述配合部的轴向长度之和,所述的定位螺帽与所述的第二螺纹部相适配。
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