CN220179015U - 一种颂钵抛光设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种颂钵抛光设备，其包括中空的工作台，工作台顶端的一侧固定有抛光机，工作台顶端的中部可转动的设有转盘，转盘的顶端固定有与颂钵内径相匹配的垫块，工作台的顶端固定有支撑板，支撑板的一侧可升降的设有移动板，移动板的底端转动连接有转杆；该颂钵抛光设备，将颂钵倒扣在转盘上，使垫块位于颂钵的下方内部，然后在电动伸缩杆的运动下带动滑块向下运动，滑块带动移动板向下运动，移动板即带动转杆和压板向下运动，使压板对颂钵压紧，即可在压板和垫块的配合下，对颂钵固定，然后在驱动电机的运动下带动转盘转动，带动颂钵的转动，即可在抛光机对颂钵抛光时，便于对颂钵进行快速打磨抛光，提高颂钵的打磨抛光效率。

Description

一种颂钵抛光设备

技术领域

本申请涉及颂钵的技术领域，尤其是涉及一种颂钵抛光设备。

背景技术

颂钵，又称喜马拉雅钵。由金、银、铜、铁、锡、铅、汞七种金属组成的颂钵，是以喜马拉雅山的陨石烧熔提炼再由手工打造而成。由颂钵发出的泛音声响，能帮助身体放松，同时能平衡、调和人体的七个脉轮，在颂钵生产中，需要对颂钵的表面打磨抛光，以方便颂钵的使用。

但是，在颂钵外壁抛光时，现有技术抛光时多是人员手持抛光机，然后对颂钵进行抛光打磨，而由于颂钵为碗状，抛光时需要不断调整抛光机的位置，这样导致颂钵的抛光效率较低，不便于颂钵的快速抛光。因此，本领域技术人员提供了一种颂钵抛光设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

实用新型内容

为了解决上述背景技术中提出的问题，本申请提供一种颂钵抛光设备。

本申请提供的一种颂钵抛光设备采用如下的技术方案：

一种颂钵抛光设备，包括中空的工作台，所述工作台顶端的一侧固定有抛光机，所述工作台顶端的中部可转动的设有转盘，所述转盘的顶端固定有与颂钵内径相匹配的垫块，所述工作台的顶端固定有支撑板，所述支撑板的一侧可升降的设有移动板，所述移动板的底端转动连接有转杆，所述转杆的底端固定有对颂钵压紧的压板，所述支撑板的一侧设有带动移动板运动的升降组件。

通过采用上述技术方案，通过转盘、垫块和压板的配合，对颂钵压紧固定，然后在转盘带动颂钵的转动下，即可对颂钵的外壁进行快速抛光，提高了颂钵的抛光效率。

优选的，所述升降组件包括固定设置在移动板一侧的滑块，所述支撑板的一侧开设有供滑块滑动的滑槽，所述滑槽通过电动伸缩杆与滑块固定连接。

通过采用上述技术方案，通过升降组件的使用，带动压板的运动，方便对颂钵压紧固定。

优选的，所述工作台的内部固定有与转盘相固定的驱动电机。

通过采用上述技术方案，通过驱动电机带动转盘的转动，即可带动颂钵的转动，便于对颂钵的外壁打磨。

优选的，所述垫块的顶端设有顶起组件，所述顶起组件包括开设在垫块顶端的容纳槽，所述容纳槽内壁的底端开设有圆槽，所述圆槽内固定有第一弹簧，所述第一弹簧的顶端固定有与圆槽相穿插的竖杆，所述竖杆的顶端固定有与容纳槽相适应的顶板。

通过采用上述技术方案，通过顶起组件的使用，方便将颂钵顶起，使颂钵与转盘分离，便于颂钵的拿取下料。

优选的，所述工作台顶端的一侧固定有侧板，所述侧板的一侧设有与颂钵外壁相适应的清洁刷，所述清洁刷通过弹性组件与侧板连接，所述弹性组件上设有对碎渣吸附的吸附组件。

通过采用上述技术方案，通过清洁刷的使用，便于对颂钵表面的碎渣刮拭清理，同时在吸附组件的使用下，便于将刮拭下来的碎渣吸附收集，保持颂钵表面的清洁性。

优选的，所述弹性组件包括固定设置在侧板一侧的第一推板，所述第一推板的一侧穿插连接有与清洁刷相固定的第二推板，所述第一推板的一侧开设有供第二推板穿插的穿槽，所述穿槽通过第二弹簧与第二推板固定连接。

通过采用上述技术方案，通过弹性组件的使用，便于清洁刷与颂钵表面的充分接触，便于清洁刷对颂钵表面的清理。

优选的，所述吸附组件包括固定设置在第二推板一侧的收集箱，所述收集箱内固定有对碎渣吸附的磁铁。

通过采用上述技术方案，通过吸附组件的使用，便于对碎渣的吸附收集。

综上所述，本申请包括以下有益技术效果：

1、该颂钵抛光设备，将颂钵倒扣在转盘上，使垫块位于颂钵的下方内部，然后在电动伸缩杆的运动下带动滑块向下运动，滑块带动移动板向下运动，移动板即带动转杆和压板向下运动，使压板对颂钵压紧，即可在压板和垫块的配合下，对颂钵固定，然后在驱动电机的运动下带动转盘转动，带动颂钵的转动，即可在抛光机对颂钵抛光时，便于对颂钵进行快速打磨抛光，提高颂钵的打磨抛光效率。

2、该颂钵抛光设备，在颂钵转动抛光时，通过第二弹簧的作用力带动第二推板的运动，第二推板带动清洁刷运动，使清洁刷与颂钵的表面接触，即可在颂钵与清洁刷的相对运动下，通过清洁刷对颂钵的表面刮拭清理，再通过磁铁将刮拭的碎渣吸附到收集箱内，从而减少颂钵表面碎渣的残留，保持颂钵表面的清洁性。

附图说明

图1是本申请实施例中一种颂钵抛光设备的结构示意图；

图2是本申请实施例中一种颂钵抛光设备的顶起组件结构示意图；

图3是本申请实施例中一种颂钵抛光设备的弹性组件平面结构示意图。

附图标记说明：1、工作台；2、抛光机；3、转盘；4、垫块；5、支撑板；6、移动板；7、转杆；8、压板；9、升降组件；91、滑块；92、滑槽；93、电动伸缩杆；10、驱动电机；11、顶起组件；111、容纳槽；112、圆槽；113、第一弹簧；114、竖杆；115、顶板；12、侧板；13、清洁刷；14、弹性组件；141、第一推板；142、第二推板；143、穿槽；144、第二弹簧；15、吸附组件；151、收集箱；152、磁铁。

具体实施方式

以下结合附图1-3对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种颂钵抛光设备。参照图1-3，一种颂钵抛光设备，包括中空的工作台1，工作台1顶端的一侧固定有抛光机2，工作台1顶端的中部可转动的设有转盘3，转盘3的顶端固定有与颂钵内径相匹配的垫块4，工作台1的顶端固定有支撑板5，支撑板5的一侧可升降的设有移动板6，移动板6的底端转动连接有转杆7，转杆7的底端固定有对颂钵压紧的压板8，支撑板5的一侧设有带动移动板6运动的升降组件9。

本实施例中，在对颂钵的外壁抛光时，将颂钵倒扣在转盘3上，同时垫块4位于颂钵的下方内部，然后在升降组件9的运动下，带动移动板6向下运动，移动板6带动转杆7和压板8向下运动，对颂钵压紧，即可在垫块4和压板8的配合下，对颂钵进行固定，然后在抛光机2的运动下，即可对颂钵的外壁打磨抛光，打磨抛光过程中，在转盘3的转动下，由于转杆7与移动板6转动连接，因此即可在垫块4和压板8对颂钵压紧的情况下，带动颂钵的转动，从而方便对颂钵进行快速打磨抛光，提高颂钵的打磨抛光效率。

在进一步的实施例中，如图1-2所示，升降组件9包括固定设置在移动板6一侧的滑块91，支撑板5的一侧开设有供滑块91滑动的滑槽92，滑槽92通过电动伸缩杆93与滑块91固定连接，工作台1的内部固定有与转盘3相固定的驱动电机10。

当颂钵倒扣在转盘3上后，在电动伸缩杆93的运动下，带动滑块91的运动，滑块91带动移动板6向下运动，移动板6带动转杆7和压板8向下运动，即可对颂钵压紧固定，方便颂钵的打磨抛光，然后通过抛光机2对颂钵进行打磨抛光，在抛光过程中，通过驱动电机10的运动，即可带动转盘3的转动，转盘3带动颂钵的转动，从而外壁对颂钵的外壁进行充分抛光，提高了颂钵的抛光效率。

在进一步的实施例中，如图2所示，垫块4的顶端设有顶起组件11，顶起组件11包括开设在垫块4顶端的容纳槽111，容纳槽111内壁的底端开设有圆槽112，圆槽112内固定有第一弹簧113，第一弹簧113的顶端固定有与圆槽112相穿插的竖杆114，竖杆114的顶端固定有与容纳槽111相适应的顶板115。

在颂钵倒扣在转盘3上后，通过压板8向下对颂钵压紧时，压板8带动颂钵向下对顶板115挤压，将顶板115挤压至容纳槽111内，同时顶板115挤压中带动竖杆114对第一弹簧113挤压，使第一弹簧113处于压缩状态，当颂钵抛光完成后，压板8从颂钵顶部取下时，由于颂钵的顶部缺少限制作用，此时在第一弹簧113的作用下，带动竖杆114向上运动，竖杆114带动顶板115向上运动，即可将颂钵顶起，使颂钵与转盘3分离，避免颂钵倒扣在转盘3上而不便拿取下料，提高了颂钵的下料效率。

在本实用新型进一步较佳的实施例中，如图3所示，工作台1顶端的一侧固定有侧板12，侧板12的一侧设有与颂钵外壁相适应的清洁刷13，清洁刷13通过弹性组件14与侧板12连接，弹性组件14上设有对碎渣吸附的吸附组件15。

当颂钵固定后，驱动电机10带动颂钵转动，同时抛光机2对颂钵抛光打磨时，在弹性组件14的作用下，带动清洁刷13与颂钵的表面接触，即可通过清洁刷13对颂钵的表面刮拭清理，同时在吸附组件15的作用下，将刮拭下来的碎渣吸附处理，减少碎渣的残留，方便颂钵抛光时的清理，提高了颂钵的清理效率，保持颂钵表面的清洁性。

在进一步的实施例中，如图3所示，弹性组件14包括固定设置在侧板12一侧的第一推板141，第一推板141的一侧穿插连接有与清洁刷13相固定的第二推板142，第一推板141的一侧开设有供第二推板142穿插的穿槽143，穿槽143通过第二弹簧144与第二推板142固定连接，吸附组件15包括固定设置在第二推板142一侧的收集箱151，收集箱151内固定有对碎渣吸附的磁铁152。

颂钵固定后，在第二弹簧144的作用下，带动第二推板142运动，第二推板142带动清洁刷13向颂钵靠近，与颂钵的表面抵触，然后在颂钵转动中，即可在清洁刷13与颂钵的相对运动下，对颂钵的表面刮拭清理，同时在磁铁152的作用下，将刮拭下来的碎渣吸附到收集箱151内，从而方便对颂钵表面的碎渣进行处理，减少颂钵表面碎渣的残留，保持颂钵表面的清洁性。

本申请实施例一种颂钵抛光设备的实施原理为：在对颂钵抛光时，首先将颂钵倒扣放置在转盘3上，同时使垫块4位于颂钵的下方内部，通过垫块4对颂钵辅助限位，然后在电动伸缩杆93的运动下，带动滑块91向下运动，滑块91带动移动板6向下运动，移动板6带动转杆7和压板8向下运动，使压板8对颂钵压紧，即可在垫块4和压板8的配合下，对颂钵固定，然后在抛光机2的运动下，即可对颂钵抛光打磨，同时在驱动电机10的运动下，带动转盘3的转动，转盘3即带动颂钵的转动，方便对颂钵的外壁进行快速充分打磨抛光，提高了颂钵的抛光效率，颂钵转动抛光过程中，在第二弹簧144的作用下，带动第二推板142的运动，第二推板142带动清洁刷13与颂钵的表面贴合接触，在颂钵与清洁刷13的相对运动下，即可通过清洁刷13对颂钵的表面刮拭清理，将残留的碎渣刮拭下来，然后在磁铁152的吸附作用下，即可将碎渣吸附至收集箱151内，从而减少颂钵表面碎渣的残留，保持颂钵表面的清洁性。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种颂钵抛光设备，包括中空的工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)顶端的一侧固定有抛光机(2)，所述工作台(1)顶端的中部可转动的设有转盘(3)，所述转盘(3)的顶端固定有与颂钵内径相匹配的垫块(4)，所述工作台(1)的顶端固定有支撑板(5)，所述支撑板(5)的一侧可升降的设有移动板(6)，所述移动板(6)的底端转动连接有转杆(7)，所述转杆(7)的底端固定有对颂钵压紧的压板(8)，所述支撑板(5)的一侧设有带动移动板(6)运动的升降组件(9)。

2.根据权利要求1所述的一种颂钵抛光设备，其特征在于：所述升降组件(9)包括固定设置在移动板(6)一侧的滑块(91)，所述支撑板(5)的一侧开设有供滑块(91)滑动的滑槽(92)，所述滑槽(92)通过电动伸缩杆(93)与滑块(91)固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种颂钵抛光设备，其特征在于：所述工作台(1)的内部固定有与转盘(3)相固定的驱动电机(10)。

4.根据权利要求3所述的一种颂钵抛光设备，其特征在于：所述垫块(4)的顶端设有顶起组件(11)，所述顶起组件(11)包括开设在垫块(4)顶端的容纳槽(111)，所述容纳槽(111)内壁的底端开设有圆槽(112)，所述圆槽(112)内固定有第一弹簧(113)，所述第一弹簧(113)的顶端固定有与圆槽(112)相穿插的竖杆(114)，所述竖杆(114)的顶端固定有与容纳槽(111)相适应的顶板(115)。

5.根据权利要求4所述的一种颂钵抛光设备，其特征在于：所述工作台(1)顶端的一侧固定有侧板(12)，所述侧板(12)的一侧设有与颂钵外壁相适应的清洁刷(13)，所述清洁刷(13)通过弹性组件(14)与侧板(12)连接，所述弹性组件(14)上设有对碎渣吸附的吸附组件(15)。

6.根据权利要求5所述的一种颂钵抛光设备，其特征在于：所述弹性组件(14)包括固定设置在侧板(12)一侧的第一推板(141)，所述第一推板(141)的一侧穿插连接有与清洁刷(13)相固定的第二推板(142)，所述第一推板(141)的一侧开设有供第二推板(142)穿插的穿槽(143)，所述穿槽(143)通过第二弹簧(144)与第二推板(142)固定连接。

7.根据权利要求6所述的一种颂钵抛光设备，其特征在于：所述吸附组件(15)包括固定设置在第二推板(142)一侧的收集箱(151)，所述收集箱(151)内固定有对碎渣吸附的磁铁(152)。