CN219886175U - 一种镀膜设备用加热盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种镀膜设备用加热盘，包括盘体和支撑柱，所述支撑柱固定连接于所述盘体的底部，所述盘体设置通孔槽，所述通孔槽呈圆弧状对称分布，所述通孔槽的内部为加热区，所述加热区的顶面上连接陶瓷支柱，所述通孔槽的外部顶面上连接陶瓷限位柱，所述盘体的下方设置与所述支撑柱相配合的转动盘，所述转动盘的顶部向上延伸出滑动臂，所述滑动臂顶部连接接触层，所述滑动臂穿过所述通孔槽，且所述滑动臂的外侧壁与所述通孔槽的内侧壁相配合。本实用新型为便于放置和取出被镀膜物体的镀膜设备用加热盘。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体镀膜设备技术领域，特别涉及一种镀膜设备用加热盘。
背景技术
半导体镀膜设备在工艺过程中需要采用加热来对晶圆或其他形式的薄膜基底进行加热。
在现有技术中，镀膜加工过程中，被镀膜物体放置在加热盘上即支撑架上，而往往被镀膜物体与加热盘之间的距离小，不易将被镀膜物体放置于加热盘，且不方便完成镀膜后取出镀膜物体。
实用新型内容
有鉴于现有技术的缺点，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种镀膜设备用加热盘，旨在设计便于放置和取出被镀膜物体的镀膜设备用加热盘。
为实现上述目的，本实用新型提供一种镀膜设备用加热盘，包括盘体和支撑柱，所述支撑柱固定连接于所述盘体的底部，所述盘体设置通孔槽，所述通孔槽呈圆弧状对称分布，所述通孔槽的内部为加热区，所述加热区的顶面上连接陶瓷支柱，所述通孔槽的外部顶面上连接陶瓷限位柱，所述盘体的下方设置与所述支撑柱相配合的转动盘，所述转动盘的顶部向上延伸出滑动臂，所述滑动臂顶部连接接触层，所述滑动臂穿过所述通孔槽，且所述滑动臂的外侧壁与所述通孔槽的内侧壁相配合，所述滑动臂的弧长小于所述通孔槽的弧长，所述转动盘转动所述滑动臂于所述通孔槽内转动，所述支撑柱上固定连接底盘、支撑凸起，所述底盘设置于所述转动盘的下方，所述转动盘上设置可容所述支撑凸起通过的通过孔。
可选的，所述陶瓷限位柱均匀分布在所述盘体的边缘处。
可选的，所述盘体与所述支撑柱为一体化结构，所述盘体呈圆盘状。
可选的，所述加热区的内部与加热设备相连用于加热被镀膜物件，所述加热区的表面形成加热面。
可选的，所述滑动臂与所述转动盘的连接处固定连接移动杆，所述移动杆与水平面平行。
可选的，所述陶瓷支柱的高度低于所述陶瓷限位柱。
本实用新型的有益效果：本实用新型的盘体上设置通孔槽与转动盘连接的滑动臂配合，滑动臂在通孔槽内实现上下移动并可转动调节转动盘而固定滑动臂的位置，使放置在滑动臂上方的被镀膜物体向上抬升以及可将被镀膜物体放置在陶瓷支撑柱上，可由灵活的手动操作实现被镀膜物体与加热盘之间的距离增大，加热盘使用方便、结构简单，便于操作人员将被镀膜物体放置和拿取。
附图说明
图1是本实用新型的一种镀膜设备用加热盘的第一状态结构示意图；
图2是本实用新型的一种镀膜设备用加热盘的第一状态正视图；
图3是本实用新型的一种镀膜设备用加热盘的第二状态结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本专利的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利，而不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
经申请人的研究发现：镀膜加工过程中，被镀膜物体放置在加热盘上即支撑架上，而往往被镀膜物体与加热盘之间的距离小，不易将被镀膜物体放置于加热盘，且不方便完成镀膜后取出镀膜物体。
因此，本实用新型实施例提供了一种镀膜设备用加热盘，可以如图1-图3所示，包括盘体1和支撑柱2，支撑柱2固定连接于盘体1的底部，盘体1设置通孔槽3，通孔槽3呈圆弧状对称分布，通孔槽3的内部为加热区4，加热区4的顶面上连接陶瓷支柱5，通孔槽3的外部顶面上连接陶瓷限位柱6，盘体1的下方设置与支撑柱2相配合的转动盘7，转动盘7的顶部向上延伸出滑动臂8，滑动臂8顶部连接接触层9，滑动臂8穿过通孔槽3，且滑动臂8的外侧壁与通孔槽3的内侧壁相配合，滑动臂8的弧长小于通孔槽3的弧长，转动盘7转动滑动臂8于通孔槽3内转动，支撑柱2上固定连接底盘10、支撑凸起11，底盘10设置于转动盘7的下方，转动盘7上设置可容支撑凸起11通过的通过孔12。
当转动盘7向上移动通过孔12穿过支撑凸起11，再转动盘7转动支撑凸起11支撑转动盘7时，滑动臂8向上抬升滑动臂8的高度高于陶瓷支柱5为第一状态；
当转动盘7的底部与底盘10抵靠时，滑动臂8的高度不高于通孔槽3的高度为第二状态。
可选的，陶瓷限位柱6均匀分布在盘体1的边缘处。
可选的，盘体1与支撑柱2为一体化结构，盘体1呈圆盘状。
可选的，加热区4的内部与加热设备相连用于加热被镀膜物件，加热区4的表面形成加热面。
可选的，滑动臂8与转动盘7的连接处固定连接移动杆13，移动杆13与水平面平行。
可选的，陶瓷支柱5的高度低于陶瓷限位柱6。
使用时，当取出被镀膜物体时，手动控制移动杆13向上移动同时通过孔12通过支撑凸起11，转动盘7移动至支撑凸起11上方，且向通孔槽3与滑动臂8配合对应的方向转动转动盘7，支撑凸起11支撑转动盘7稳定后取下在接触层9上的被镀膜物体；当放置被镀膜物体时，通过运载托盘将被镀膜物体放置在接触层9上，再通过相反的控制向下移动将被镀膜物体放置在陶瓷支柱5上，且被镀膜物体限位于陶瓷限位柱6内。
本实用新型实施例的盘体1上设置通孔槽3与转动盘7连接的滑动臂8配合，滑动臂8在通孔槽3内实现上下移动并可转动调节转动盘7而固定滑动臂8的位置，使放置在滑动臂8上方的被镀膜物体向上抬升以及可将被镀膜物体放置在陶瓷支撑柱2上，可由灵活的手动操作实现被镀膜物体与加热盘之间的距离增大，加热盘使用方便、结构简单，便于操作人员将被镀膜物体放置和拿取。
以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
Claims (6)
1.一种镀膜设备用加热盘，其特征在于，包括盘体和支撑柱，所述支撑柱固定连接于所述盘体的底部，所述盘体设置通孔槽，所述通孔槽呈圆弧状对称分布，所述通孔槽的内部为加热区，所述加热区的顶面上连接陶瓷支柱，所述通孔槽的外部顶面上连接陶瓷限位柱，所述盘体的下方设置与所述支撑柱相配合的转动盘，所述转动盘的顶部向上延伸出滑动臂，所述滑动臂顶部连接接触层，所述滑动臂穿过所述通孔槽，且所述滑动臂的外侧壁与所述通孔槽的内侧壁相配合，所述滑动臂的弧长小于所述通孔槽的弧长，所述转动盘转动所述滑动臂于所述通孔槽内转动，所述支撑柱上固定连接底盘、支撑凸起，所述底盘设置于所述转动盘的下方，所述转动盘上设置可容所述支撑凸起通过的通过孔。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备用加热盘，其特征在于，所述陶瓷限位柱均匀分布在所述盘体的边缘处。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备用加热盘，其特征在于，所述盘体与所述支撑柱为一体化结构，所述盘体呈圆盘状。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备用加热盘，其特征在于，所述加热区的内部与加热设备相连用于加热被镀膜物件，所述加热区的表面形成加热面。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备用加热盘，其特征在于，所述滑动臂与所述转动盘的连接处固定连接移动杆，所述移动杆与水平面平行。
6.根据权利要求1所述的镀膜设备用加热盘，其特征在于，所述陶瓷支柱的高度低于所述陶瓷限位柱。
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