CN219852673U - 一种同轴吹气机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种同轴吹气机构，包括气嘴、气路连接块、基座，基座内设置有匀气底座以及位于匀气底座上端的匀气件，气路连接块内水平设置有一号流道、位于一号流道下方的二号流道、三号流道以及若干四号流道，气嘴与一号流道的中部连通，基座上设置有用于对匀气件进行限位的限位部，匀气件、基座、匀气件底座形成环状型腔，基座上设置有连通环状型腔与四号流道的五号流道，四号流道、二号流道和五号流道水平且与环状型腔下端对应，匀气件上周向设置有斜向导气孔，斜向导气孔由下至上向匀气件的轴线方向偏移。优点：有更长的进气结构，压缩气体在进入内腔之前经过充分的扩散，得到较为平滑的流态；实现对匀气底座和内腔的降温。

Description

一种同轴吹气机构

技术领域

本实用新型涉及同轴吹气设备领域，具体为一种同轴吹气机构。

背景技术

激光切割的实现过程主要是将激光束通过准直镜和聚焦镜汇集成数百微米的高能光斑，利用高能光斑把金属或非金属原料加热至熔化或汽化，并依靠辅助气流的动力学作用将原材料吹出熔池孔或者形成拖拽力把熔杂从切口中吹出去，实现对金属或非金属板材进行非接触、高速度、高精度打孔或切割。由此可见，激光切割的气路在保证切割质量和成功率方面发挥了重要的作用。除此之外，气路还可以对冷却激光切割头的光阑、激光切割头主体腔体、高度传感器的金属主体、喷嘴组件等发挥积极作用。最后，掏空的气路结构还有益于减轻激光切割头的重量，对提升切割的动态性能有所裨益。

目前，激光切割头气路最常见的两种应用：其一是在高度传感器的金属主体结构中设计气路冷却结构。其二是同轴吹气。同轴吹气除了吹除切割面的熔杂外，还可以抑制切割或穿孔的溅射熔滴对下保护镜片的伤害，以及使下保护镜片保持在较低的工作温度，延长其使用寿命。现有的同轴吹气气路设计长度不够长，且由于气路设计不够平直，导致气流较为紊乱，且不便于对分流器进行降温。

例如公开号为CN215880413U的中国专利，公开了一种新型激光切割头同轴吹气气路，外部气体通过进气孔洞、进气口进入气流通道，气体在气体停留区沿分流柱均匀上升，上升气体由进入导流环下方的中空气流通道，气体由中空气流通道向下进入腔体中空部分，引导气体与射入激光同轴向下运动。

上述的新型激光切割头同轴吹气气路，气体是先通过进气空洞向下运动进入气流通道，然后沿分流柱上升，这种设置使得气流在拐角处会产生紊乱现象。

鉴于此，有必要提供一种同轴吹气机构。

发明内容

本实用新型提供的一种同轴吹气机构，有效的解决了现有同轴吹气气流紊乱以及对匀气件降温效果差的问题。

本实用新型所采用的技术方案是一种同轴吹气机构，包括气嘴、气路连接块、基座，所述基座内设置有匀气底座以及位于匀气底座上端的匀气件，所述气路连接块内水平设置有一号流道、位于一号流道下方的二号流道、连接一号流道和二号流道的两端的三号流道以及若干与二号流道导通的四号流道，所述气嘴与一号流道的中部连通，所述基座上设置有用于对匀气件进行限位的限位部，所述匀气件、基座、匀气件底座形成环状型腔，所述基座上设置有连通环状型腔与四号流道的五号流道，所述四号流道、二号流道和五号流道水平且与环状型腔下端对应，所述匀气件上周向设置有与若干与环状型腔导通的斜向导气孔，所述斜向导气孔由下至上向匀气件的轴线方向偏移。

进一步的是：所述匀气件下端设置有环形斜槽，所述环形斜槽由下至上向匀气件的轴线方向偏移，所述环形斜槽下端与型腔导通，环形斜槽的上端与斜向导气孔的下端导通。

进一步的是：所述匀气底座包括空心圆盘以及设置在空心圆盘上方的空心圆柱，所述空心圆盘的外径大于空心圆柱的外径，所述基座下端设置有与空心圆盘外径适配的一号槽，所述空心圆盘螺纹连接在一号槽内，所述空心圆盘上端设置有与基座相抵接的一号密封圈。

进一步的是：所述空心圆盘上端设置有一号环状凹槽，所述一号密封圈放置在一号环状凹槽上。

进一步的是：所述空心圆柱上端设置有二号环状凹槽，所述二号环状凹槽上设置有用于与匀气件下端相抵的二号密封圈。

进一步的是：所述匀气件上端设置有三号环状凹槽，若干所述斜向导气孔的上端均位于三号环状凹槽的环心内，所述三号环状凹槽内设置有用于与限位部下端面接触的三号密封圈。

进一步的是：所述基座侧部设置有用于安装气路连接块的侧向槽，所述侧向槽上设置有与五号流道同轴的四号环状凹槽，所述四号环状凹槽内设置有与气路连接块相抵的四号密封圈。

实用新型的有益效果：能够具有更长的进气结构，压缩气体在进入内腔之前经过充分的扩散，得到较为平滑的流态，同时，气体从环状型腔下端向上流动，能够对匀气底座进行外壁进行有效的吹拂，实现对匀气底座和内腔的降温。

附图说明

图1为本申请的实施例所提供的同轴吹气机构的整体示意图。

图2为本申请的实施例所提供的同轴吹气机构的气路连接块的侧视图。

图3为沿图2中B-B的剖视图。

图4为本申请的实施例所提供的同轴吹气机构的侧视图。

图5为沿图4中A-A的剖视图。

图6为沿图4中C-C的剖视图。

图7为本申请的实施例所提供的同轴吹气机构的基座的示意图。

图8为本申请的实施例所提供的同轴吹气机构的匀气底座和匀气件的示意图。

图9图8的侧视图。

图10为沿图9中F-F的剖视图。

图中标记为：1、气嘴；2、气路连接块；3、基座；4、匀气底座；5、匀气件；21、一号流道；22、二号流道；23、三号流道；24、四号流道；001、环状型腔；31、五号流道；51、斜向导气孔；52、环形斜槽；41、空心圆盘；42、空心圆柱；30、一号槽；410、一号环状凹槽；420、二号环状凹槽；50、三号环状凹槽；32、四号环状凹槽；002、内腔；

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。

如图1、图2、图3、图4、图5、图6、图7、图8和图9所示，本申请的实施例所提供的一种同轴吹气机构，包括气嘴11、气路连接块2、基座3，所述基座3内设置有匀气底座4以及位于匀气底座4上端的匀气件5，所述气路连接块2内水平设置有一号流道21、位于一号流道21下方的二号流道22、连接一号流道21和二号流道22的两端的三号流道23以及若干与二号流道22导通的四号流道24，所述气嘴11与一号流道21的中部连通，所述基座3上设置有用于对匀气件5进行限位的限位部，所述匀气件5、基座3、匀气件5底座形成环状型腔001，所述基座3上设置有连通环状型腔001与四号流道24的五号流道31，所述四号流道24、二号流道22和五号流道31水平且与环状型腔001下端对应，所述匀气件5上周向设置有与若干与环状型腔001导通的斜向导气孔51，所述斜向导气孔51由下至上向匀气件5的轴线方向偏移。

需说明的是，匀气件5同轴设置有内腔002。

实际使用时，压缩的切割气体经过气嘴11进入一号流道21内，随后沿一号流道21均匀分配流向三号流道23后进入二号流道22，然后经过四号流道24进入五号流道31中流向环状型腔001，随后沿环状型腔001向上流动进入斜向导气孔51内，随后经过激光切割器的下保护镜片(图中未指出)反射导入至内腔002内吹向喷嘴端(图示未指出)。

上述设计中，能够具有更长的进气结构，压缩气体在进入内腔002之前经过充分的扩散，得到较为平滑的流态，同时，气体从环状型腔001下端向上流动，能够对匀气底座4进行外壁进行有效的吹拂，实现对匀气底座4和内腔002的降温。

具体地：图9和图10所示，所述匀气件5下端设置有环形斜槽52，所述环形斜槽52由下至上向匀气件5的轴线方向偏移，所述环形斜槽52下端与型腔导通，环形斜槽52的上端与斜向导气孔51的下端导通。

实际使用时，气体沿环形斜槽52流向斜向导气孔51中。

上述设计中，环形斜槽52的结构设计能够使得气体在流向斜向导气孔51前预先被导流，使得压缩气体能够更加平缓的进入斜向导气孔51。

具体地：如图5、图7、图8、图9和图10所示，所述匀气底座4包括空心圆盘41以及设置在空心圆盘41上方的空心圆柱42，所述空心圆盘41的外径大于空心圆柱42的外径，所述基座3下端设置有与空心圆盘41外径适配的一号槽30，所述空心圆盘41螺纹连接在一号槽30内，所述空心圆盘41上端设置有与基座3相抵接的一号密封圈(图示未指出)。

实际使用时，通过一号密封圈的形变阻塞空心圆盘41与基座3之间的安装缝隙。

上述设计中，能够有效的保证吹气时压缩气体不会从圆盘与基座3之间的缝隙流出。

具体地：如图5所示，所述空心圆盘41上端设置有一号环状凹槽410，所述一号密封圈(图示未指出)放置在一号环状凹槽410上。

实际使用时，将一号密封圈放置在一号环状凹槽410内，此时一号密封圈凸出空心圆盘41上端面。

上述设计中，一号环状凹槽410的设计能够有效的保证一号密封圈安装后的稳定。

具体地：如图5所示，所述空心圆柱42上端设置有二号环状凹槽420，所述二号环状凹槽420上设置有用于与匀气件5下端相抵的二号密封圈(图示未指出)。

实际使用时，通过将二号密封圈安装在二号环状凹槽420上，通过二号密封圈的挤压形变隔绝匀气件5与匀气底座4之间的间隙。

上述设计中，二号密封圈的结构设计能够有效的保证匀气件5与匀气底座4之间的良好气密性，同时二号环状凹槽420的设计能够保证二号密封圈能够被有效的固定。

具体地：如图5所示，所述匀气件5上端设置有三号环状凹槽50，若干所述斜向导气孔51的上端均位于三号环状凹槽50的环心内，所述三号环状凹槽50内设置有用于与限位部下端面接触的三号密封圈。

实际使用时，将三号密封圈安放在三号环状凹槽50上，通过三号密封圈的形变，能够有效的隔绝匀气件5与基座3之间的间隙。

上述设计中，三号密封圈能够有效的保证匀气件5与基座3之间的气密性，三号环状凹槽50的结构设计能够有效的三号密封圈的稳定。

具体地：如图6所示，所述基座3侧部设置有用于安装气路连接块2的侧向槽，所述侧向槽上设置有与五号流道31同轴的四号环状凹槽32，所述四号环状凹槽32内设置有与气路连接块2相抵的四号密封圈。

实际使用时，通过四号密封圈的形变来隔绝气路连接块2与基座3之间的间隙。

上述设计中，四号密封圈能够有效的保证基座3与气路连接块2的气密性，四号环状凹槽32能够有效的保证四号密封圈的安装稳定。

进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种同轴吹气机构，包括气嘴(11)、气路连接块(2)、基座(3)、其特征在于：所述基座(3)内设置有匀气底座(4)以及位于匀气底座(4)上端的匀气件(5)，所述气路连接块(2)内水平设置有一号流道(21)、位于一号流道(21)下方的二号流道(22)、连接一号流道(21)和二号流道(22)的两端的三号流道(23)以及若干与二号流道(22)导通的四号流道(24)，所述气嘴(11)与一号流道(21)的中部连通，所述基座(3)上设置有用于对匀气件(5)进行限位的限位部，所述匀气件(5)、基座(3)、匀气件(5)底座形成环状型腔(001)，所述基座(3)上设置有连通环状型腔(001)与四号流道(24)的五号流道(31)，所述四号流道(24)、二号流道(22)和五号流道(31)水平且与环状型腔(001)下端对应，所述匀气件(5)上周向设置有与若干与环状型腔(001)导通的斜向导气孔(51)，所述斜向导气孔(51)由下至上向匀气件(5)的轴线方向偏移。

2.根据权利要求1所述的同轴吹气机构，其特征在于：所述匀气件(5)下端设置有环形斜槽(52)，所述环形斜槽(52)由下至上向匀气件(5)的轴线方向偏移，所述环形斜槽(52)下端与型腔导通，环形斜槽(52)的上端与斜向导气孔(51)的下端导通。

3.根据权利要求1所述的同轴吹气机构，其特征在于：所述匀气底座(4)包括空心圆盘(41)以及设置在空心圆盘(41)上方的空心圆柱(42)，所述空心圆盘(41)的外径大于空心圆柱(42)的外径，所述基座(3)下端设置有与空心圆盘(41)外径适配的一号槽(30)，所述空心圆盘(41)螺纹连接在一号槽(30)内，所述空心圆盘(41)上端设置有与基座(3)相抵接的一号密封圈。

4.根据权利要求3所述的同轴吹气机构，其特征在于：所述空心圆盘(41)上端设置有一号环状凹槽(410)，所述一号密封圈放置在一号环状凹槽(410)上。

5.根据权利要求4所述的同轴吹气机构，其特征在于：所述空心圆柱(42)上端设置有二号环状凹槽(420)，所述二号环状凹槽(420)上设置有用于与匀气件(5)下端相抵的二号密封圈。

6.根据权利要求1所述的同轴吹气机构，其特征在于：所述匀气件(5)上端设置有三号环状凹槽(50)，若干所述斜向导气孔(51)的上端均位于三号环状凹槽(50)的环心内，所述三号环状凹槽(50)内设置有用于与限位部下端面接触的三号密封圈。

7.根据权利要求1所述的同轴吹气机构，其特征在于：所述基座(3)侧部设置有用于安装气路连接块(2)的侧向槽，所述侧向槽上设置有与五号流道(31)同轴的四号环状凹槽(32)，所述四号环状凹槽(32)内设置有与气路连接块(2)相抵的四号密封圈。