CN219837690U - 一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出了一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，涉及镜座吸附治具技术领域，包括中转台，所述中转台的上方设置有和机台真空连通的吸附治具模组，所述吸附治具模组包括吸附座和真空导气架，所述吸附座位于中转台的上方，所述吸附座的顶端固定安装有真空导气架，所述吸附座底端的中部开设有吸附凹槽，所述吸附座的四角处均开设有若干个吸附孔。本实用新型的优点在于：在吸附模组的吸附端开设大尺寸的凹槽和多个气孔，增大对镜座吸附的作用面积，模组吸附后不易切斜，漏真空风险小，可减少因吸附起翘偏移，导致的溢胶及镜座偏移等不良现象的发生。从收集的数据看出原有每周偏移不良平均在0.5％，使用多孔镜座吸附治具后不良已降至平均0.1％。
Description
技术领域
本实用新型涉及镜座吸附治具技术领域，特别涉及一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具。
背景技术
目前模组行业常规摄像头模组镜座贴附工艺原理为：基板传输至点胶站位，点胶器进行基板点胶，镜座(镜座组件)从料盒通过吸附治具吸取，将镜座(镜座组件)放置在中转台，设备自动旋转至基板一侧，贴附端的吸附治具吸取镜座，执行底部摄像识别后，执行镜座贴附基板。
镜座放置tray盘及中转平台治具槽内时，机台开启真空，通过吸附治具(吸嘴组件)达到真空吸附镜座效果。通过物料贴附的倾斜和偏移是否达到标准，确认模组是否OK，吸嘴是否有效果；其中最大的问题点就是组件真空吸附必须平稳，且无明显的吸取倾斜。假设吸附治具吸取的镜座物料存在倾斜，或者漏真空的情况，会导致镜座贴附倾斜起翘和偏移，造成成品模组的暗角和解析不良。部分异形的产品，尺寸不规则且尺寸偏大，现有的单孔吸附不稳定，调试困难，易吸取倾斜。
为解决单孔真空吸附存在的缺陷，故设计一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，结构在原有的真空吸附结构上，内部掏空(内凹设计))，四角开多孔结构，通过吸嘴凹槽及多孔结构包裹整个镜座产生吸附，达到比单孔吸附真空效果更好，吸附更稳点的吸附治具结构。
实用新型内容
本实用新型的目的旨在至少解决所述技术缺陷之一。
为此，本实用新型的一个目的在于提出一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，以解决背景技术中所提到的问题，克服现有技术中存在的不足。
为了实现上述目的，本实用新型一方面的实施例提供一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，包括对镜座进行支撑的中转台，所述中转台的上方设置有和机台真空连通的吸附治具模组，所述吸附治具模组包括吸附座和真空导气架，所述吸附座位于中转台的上方，所述吸附座的顶端固定安装有真空导气架，所述吸附座底端的中部开设有吸附凹槽，所述吸附座的四角处均开设有若干个吸附孔。
由上述任一方案优选的是，所述中转台的顶端设置有支撑台，所述支撑台的内部开设有槽孔。
采用上述技术方案：可将镜座移动到中转台的顶端便于吸附组件对镜座进行吸附，且可在中转台的内部设置相应的中转结构保证中转的稳定。
由上述任一方案优选的是，所述吸附座的底端设置为方形台且顶端设置为圆形台，所述方形台的尺寸小于圆形台的尺寸，所述圆形台的内部开设有和真空导气架相适配的阶梯槽。
采用上述技术方案：使圆形台对方形台进行覆盖，利用方形台的结构特征便于对吸附孔进行分布，同时利用圆形台结构特征保证四周吸附孔内部吸气的同步和稳定。
由上述任一方案优选的是，所述吸附凹槽位于吸附座方形台的中部，所述吸附孔贯穿吸附座方形台和圆形台的阶梯槽相连通，所述吸附孔等数量分布于方形台的四角内且沿吸附凹槽的圆周分布。
采用上述技术方案：吸附凹槽和镜座的接触区域形成一定的负压实现吸附作用，同时四周的吸附孔内部形成真空负压对镜座进行吸附。
由上述任一方案优选的是，所述真空导气架的底端设置为圆盘结构，所述真空导气架底部的圆盘固定安装于阶梯槽的内部，所述真空导气架底部圆盘的底面和阶梯槽的底面之间的间距距离为阶梯槽高度的一半。
采用上述技术方案：在真空导气架和吸附座之间设置空腔，使真空导气架同步在吸附座内阶梯槽形成真空，利用阶梯槽的圆形结构使各个吸附孔和圆心的间距相同，则各个吸附孔的吸附作用相同。
由上述任一方案优选的是，所述真空导气架的顶端设置有连接锥台，所述连接锥台的两端设置连接卡扣，所述连接锥台的中部开设有导气槽。
采用上述技术方案：利用连接卡扣便于将真空导气架和执行真空吸附的设备进行连接，且通过导气槽便于将吸气集中在中心位置。
与现有技术相比，本实用新型所具有的优点和有益效果为：
1、在吸附模组的吸附端开设大尺寸的凹槽和多个气孔，增大对镜座吸附的作用面积，模组吸附后不易切斜，漏真空风险小，可减少因吸附起翘偏移，导致的溢胶及镜座偏移等不良现象的发生。从收集的数据看出原有每周偏移不良平均在0.5％左右，使用多孔镜座吸附治具后不良已降至平均0.1％左右。
2、通用性强；对比原吸附治具用于异型大尺寸模组吸附漏真空，无法很好吸取模组，大尺寸镜座多孔吸附结构可通用后期各类异型各种尺寸模组镜座贴附使用。
本实用新型附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1为根据本实用新型实施例的结构示意图；
图2为根据本实用新型实施例的局部结构示意图；
图3为根据本实用新型实施例吸附座的结构示意图；
图4为根据本实用新型实施例吸附治具模组的剖面结构示意图；
其中：1-中转台、2-吸附治具模组、21-吸附座、22-真空导气架、3-吸附凹槽、4-吸附孔。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的描述，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
如图1-4所示，本实用新型实施例的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，包括对镜座进行支撑的中转台1，中转台1的上方设置有和机台真空连通的吸附治具模组2，吸附治具模组2包括吸附座21和真空导气架22，吸附座21位于中转台1的上方，吸附座21的顶端固定安装有真空导气架22，吸附座21底端的中部开设有吸附凹槽3，吸附座21的四角处均开设有若干个吸附孔4。
由上述任一方案优选的是，中转台1的顶端设置有支撑台，支撑台的内部开设有槽孔。
采用上述技术方案：可将镜座移动到中转台1的顶端便于吸附组件对镜座进行吸附，且可在中转台1的内部设置相应的中转结构保证中转的稳定。
由上述任一方案优选的是，吸附座21的底端设置为方形台且顶端设置为圆形台，方形台的尺寸小于圆形台的尺寸，圆形台的内部开设有和真空导气架22相适配的阶梯槽。
采用上述技术方案：使圆形台对方形台进行覆盖，利用方形台的结构特征便于对吸附孔4进行分布，同时利用圆形台结构特征保证四周吸附孔4内部吸气的同步和稳定。
由上述任一方案优选的是，吸附凹槽3位于吸附座21方形台的中部，吸附孔4贯穿吸附座21方形台和圆形台的阶梯槽相连通，吸附孔4等数量分布于方形台的四角内且沿吸附凹槽3的圆周分布。
采用上述技术方案：吸附凹槽3和镜座的接触区域形成一定的负压实现吸附作用，同时四周的吸附孔4内部形成真空负压对镜座进行吸附。
由上述任一方案优选的是，真空导气架22的底端设置为圆盘结构，真空导气架22底部的圆盘固定安装于阶梯槽的内部，真空导气架22底部圆盘的底面和阶梯槽的底面之间的间距距离为阶梯槽高度的一半。
采用上述技术方案：在真空导气架22和吸附座21之间设置空腔，使真空导气架22同步在吸附座21内阶梯槽形成真空，利用阶梯槽的圆形结构使各个吸附孔4和圆心的间距相同，则各个吸附孔4的吸附作用相同。
由上述任一方案优选的是，真空导气架22的顶端设置有连接锥台，连接锥台的两端设置连接卡扣，连接锥台的中部开设有导气槽。
采用上述技术方案：利用连接卡扣便于将真空导气架22和执行真空吸附的设备进行连接，且通过导气槽便于将吸气集中在中心位置。
本实用新型的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，工作原理如下：
将镜座放置到中转台1，控制吸附治具模组2和镜座贴合，并在吸附治具模组2的内部形成真空对镜座2进行吸附。
与现有技术相比，本实用新型相对于现有技术具有以下有益效果：
1、在吸附模组的吸附端开设大尺寸的凹槽和多个气孔，增大对镜座吸附的作用面积，模组吸附后不易切斜，漏真空风险小，可减少因吸附起翘偏移，导致的溢胶及镜座偏移等不良现象的发生。从收集的数据看出原有每周偏移不良平均在0.5％左右，使用多孔镜座吸附治具后不良已降至平均0.1％左右。
2、通用性强；对比原吸附治具用于异型大尺寸模组吸附漏真空，无法很好吸取模组，大尺寸镜座多孔吸附结构可通用后期各类异型各种尺寸模组镜座贴附使用。
Claims (6)
1.一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，包括对镜座进行支撑的中转台(1)，所述中转台(1)的上方设置有和机台真空连通的吸附治具模组(2)，其特征在于：所述吸附治具模组(2)包括吸附座(21)和真空导气架(22)，所述吸附座(21)位于中转台(1)的上方，所述吸附座(21)的顶端固定安装有真空导气架(22)，所述吸附座(21)底端的中部开设有吸附凹槽(3)，所述吸附座(21)的四角处均开设有若干个吸附孔(4)。
2.如权利要求1所述的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，其特征在于：所述中转台(1)的顶端设置有支撑台，所述支撑台的内部开设有槽孔。
3.如权利要求2所述的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，其特征在于：所述吸附座(21)的底端设置为方形台且顶端设置为圆形台，所述方形台的尺寸小于圆形台的尺寸，所述圆形台的内部开设有和真空导气架(22)相适配的阶梯槽。
4.如权利要求3所述的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，其特征在于：所述吸附凹槽(3)位于吸附座(21)方形台的中部，所述吸附孔(4)贯穿吸附座(21)方形台和圆形台的阶梯槽相连通，所述吸附孔(4)等数量分布于方形台的四角内且沿吸附凹槽(3)的圆周分布。
5.如权利要求4所述的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，其特征在于：所述真空导气架(22)的底端设置为圆盘结构，所述真空导气架(22)底部的圆盘固定安装于阶梯槽的内部，所述真空导气架(22)底部圆盘的底面和阶梯槽的底面之间的间距距离为阶梯槽高度的一半。
6.如权利要求5所述的一种新型大尺寸镜座多孔吸附治具，其特征在于：所述真空导气架(22)的顶端设置有连接锥台，所述连接锥台的两端设置连接卡扣，所述连接锥台的中部开设有导气槽。
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