CN219834825U - 用于制造显示设备的设备 - Google Patents

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Abstract

提供了一种用于制造显示设备的设备。所述设备包括：装载区域，用于装载目标；台单元，设置在装载区域中，并且被配置为使目标的固定表面固定；以及光学单元，设置在装载区域外部，并且被配置为对目标的处理表面进行处理，其中，光学单元包括：激光照射单元，被配置为朝向目标的处理表面照射激光；以及激光移动单元，被配置为使激光照射单元在平面图中沿着处理路径移动。该用于制造显示设备的设备可以具有减小的尺寸。

Description

用于制造显示设备的设备
本申请要求2022年6月13日提交的第10-2022-0071726号韩国专利申请的优先权以及从其获得的所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
技术领域
一个或更多个实施例涉及一种设备，更具体地，涉及一种用于制造显示设备的设备。
背景技术
除了诸如移动电话、平板个人计算机(tablet PC)的小型电子装置之外，基于移动性的电子装置(或移动电子装置)广泛用于各种领域。
这样的移动电子装置通常包括向用户提供视觉信息(诸如图像或视频)以支持各种功能的显示设备。最近，随着用于驱动显示设备的其他组件的尺寸减小，电子装置中的显示设备的比例逐渐增加，并且已经开发了具有可以弯曲成相对于显示设备的平坦状态具有一定角度的结构的显示设备。
实用新型内容
一个或更多个实施例包括一种用于制造显示设备的设备和制造显示设备的方法。
根据一个或更多个实施例，用于制造显示设备的设备包括：装载区域，被配置为装载目标；台单元，设置在装载区域中，并且被配置为使目标的固定表面固定；以及光学单元，设置在装载区域外部，并且被配置为对目标的处理表面进行处理，其中，光学单元包括：激光照射单元，被配置为朝向目标的处理表面照射激光；以及激光移动单元，被配置为使激光照射单元在平面图中沿着处理路径移动。
在实施例中，所述设备还包括：腔室，其中限定有装载区域；以及目标移动单元，设置在装载区域中，并且被配置为使固定有目标的台单元移动到处理位置。
在实施例中，目标移动单元包括目标旋转移动单元，目标旋转移动单元被配置为使台单元绕第一轴旋转。
在实施例中，台单元被配置为在目标的处理表面面朝激光指向的方向的状态下使目标的固定表面固定。
在实施例中，目标旋转移动单元被配置为以这样的方式旋转台单元：使得固定于台单元的目标的处理表面面朝与激光指向的方向相反的方向。
在实施例中，目标移动单元还包括目标竖直移动单元，目标竖直移动单元被配置为使台单元在与激光指向的方向相反的方向上移动。
在实施例中，所述设备还包括：压力调节单元，被配置为调节装载区域的压力。
在实施例中，光学单元还包括激光对准单元，激光对准单元被配置为使激光照射单元对准到对准位置。
根据一个或更多个实施例，用于制造显示设备的设备包括：腔室，其中限定有装载区域；台单元，设置在装载区域中，其中，台单元固定目标的固定表面；以及光学单元，设置在腔室外部，其中，光学单元对目标的处理表面进行处理，其中，光学单元包括：激光照射单元，朝向目标的处理表面照射激光；以及激光移动单元，使激光照射单元在平面图中沿着处理路径移动。
在实施例中，所述设备还可以包括：目标移动单元，设置在装载区域中，其中，目标移动单元使固定有目标的台单元移动到处理位置。
在实施例中，目标移动单元可以包括目标旋转移动单元，目标旋转移动单元使台单元绕第一轴旋转。
在实施例中，台单元可以在目标的处理表面面朝激光指向的方向的状态下使目标的固定表面固定。
在实施例中，目标旋转移动单元可以以这样的方式旋转台单元：使得固定于台单元的目标的处理表面面朝与激光指向的方向相反的方向。
在实施例中，目标移动单元还可以包括目标竖直移动单元，目标竖直移动单元使台单元在与激光指向的方向相反的方向上移动。
在实施例中，所述设备还可以包括：压力调节单元，调节装载区域的压力。
在实施例中，设备还可以包括：窗，设置在腔室的位于激光照射单元与台单元之间的一侧上，其中，窗可以包括透明材料以允许激光穿过。
在实施例中，光学单元还可以包括激光对准单元，激光对准单元使激光照射单元对准到对准位置。
在实施例中，激光移动单元可以包括空气轴承。
根据本实用新型，可以减小用于制造显示设备的设备的尺寸。
附图说明
通过以下结合附图进行的描述，公开的特定实施例的以上和其他特征将更加明显，在附图中：
图1是示意性示出根据实施例的用于制造显示设备的设备的透视图；
图2A至图2E是根据实施例的沿着图1的线I-I'截取的示出用于制造显示设备的设备装载并处理目标的操作的剖视图；
图3是示意性示出根据实施例的通过制造显示设备的方法制造的显示设备的平面图；
图4是示意性示出根据实施例的通过制造显示设备的方法制造的显示设备的剖视图；以及
图5是根据实施例的像素的等效电路图。
具体实施方式
现在将在下文中参照示出各种实施例的附图，对本实用新型进行更充分地描述。然而，本实用新型可以以许多不同的形式实施，而不应被解释为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且将向本领域技术人员充分传达本实用新型的范围。同样的附图标记始终表示同样的元件。
由于公开允许各种改变和许多实施例，因此将在附图中示出并且在书面描述中详细描述具体实施例。参照下面详细描述的实施例和附图，公开的效果和特征以及实现其的方法将明显。然而，公开可以以许多不同的形式实施，而不应被解释为限于这里阐述的实施例。
将理解的是，尽管这里可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离这里的教导的情况下，下面讨论的“第一元件”、“第一组件”、“第一区域”、“第一层”或“第一部分”可以被称为第二元件、第二组件、第二区域、第二层或第二部分。
这里使用的术语仅用于描述具体实施例的目的，而不意图成为限制。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则“一”、“一个(种/者)”、“所述(该)”和“至少一个(种/者)”不表示数量的限制，而旨在包括单数和复数二者。例如，除非上下文另外清楚地指出，否则“一个元件”具有与“至少一个元件”的含义相同的含义。“至少一个(种/者)”不应被解释为限于“一”或“一个(种/者)”。“或”表示“和/或”。如这里所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”和/或其变型或者“包含”和/或其变型时，说明存在所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或添加一个或更多个其他特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
此外，诸如“下(下部)”或“底(底部)”以及“上(上部)”或“顶(顶部)”的相对术语在这里可以用于描述如图中所示的一个元件与另一元件的关系。将理解的是，相对术语旨在包含装置的除了在附图中描绘的方位之外的不同方位。例如，如果图中的一幅图中的装置被翻转，则被描述为在其他元件的“下”侧上的元件随后将被定向在所述其他元件的“上”侧上。因此，根据图的特定方位，术语“下(下部)”可以包括“下(下部)”和“上(上部)”两种取向。类似地，如果图中的一幅图中的装置被翻转，则被描述为“在”其他元件“下方”或“之下”的元件随后将被定向为“在”其他元件“上方”。因此，术语“在……下方”或“在……之下”可以包括“上方”和“下方”两种取向。
将理解的是，当层、区域或组件被称为形成在另一层、区域或组件上时，该层、区域或组件可以直接或间接地形成在所述另一层、区域或组件上。也就是说，例如，可以存在居间层、居间区域或居间组件。
为了便于说明，可以夸大附图中的组件的尺寸。换言之，由于附图中的组件的尺寸和厚度是为了便于说明而任意示出的，因此以下实施例不限于此。
X轴、Y轴和Z轴不限于正交坐标系的三个轴，而可以在包括其的广泛的意义上进行解释。例如，X轴、Y轴和Z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。
当特定实施例可以被不同地实施时，可以与所描述的顺序不同地执行具体工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本上同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。
除非另外定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，术语(诸如在通用词典中定义的术语)应被解释为具有与它们在相关领域和本公开的上下文中的含义一致的含义，除非在这里明确地如此定义，否则将不以理想化或过于形式化的意义来解释。
这里参照作为理想化实施例的示意性图示的剖视图示来描述实施例。如此，将预料到由于例如制造技术和/或公差而导致的图示的形状的变化。因此，这里描述的实施例不应被解释为限于如这里所示的区域的特定形状，而是包括由例如制造导致的形状的偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙和/或非线性特征。此外，示出的锐角(尖角)可以是圆润的(被倒圆的)。因此，图中所示的区域本质上是示意性的，并且它们的形状不旨在示出区域的精确形状，并且不旨在限制给出的权利要求的范围。
在下文中，将参照附图详细描述本实用新型的实施例。
图1是示意性示出根据实施例的用于制造显示设备的设备1的透视图。
参照图1，用于制造显示设备的设备1的实施例可以在其中装载目标T并且处理所装载的目标T。用于制造显示设备的设备1可以包括腔室11、台单元12、目标移动单元13、窗14、压力调节单元15和光学单元16。
目标T可以包括处理表面PS(参照图2A)和固定表面FS(参照图2A)。处理表面PS可以是将由光学单元16处理的表面，固定表面FS可以是将固定于下面描述的台单元12的表面。目标T可以具有板形状。在实施例中，例如，如图1中所示，目标T可以具有四边形板形状。然而，这仅是示例，目标T的形状可以根据目标T的用途和处理目的而变化。
腔室11可以包括腔室主体110、腔室支撑件111和目标插槽(slot)112，装载区域LA和窗孔WH可以限定在腔室11中。
腔室主体110可以形成腔室11的外观。在实施例中，例如，腔室主体110可以具有如图1中所示的六面体形状。然而，这仅是示例，腔室主体110的形状不限于此。腔室主体110的形状可以根据其中的组件和光学单元16的形状或布置而变化。
装载区域LA可以限定在腔室主体110内部，并且可以是其中装载有目标T的区域。用于装载目标T的各种组件以及目标T可以布置在装载区域LA中。在实施例中，例如，台单元12和目标移动单元13可以布置在装载区域LA中。尽管图1示出了装载区域LA具有六面体形状的实施例，但这仅是示例，类似于腔室主体110，装载区域LA的形状可以根据其中的组件和光学单元16的形状或布置而变化。
腔室支撑件111可以设置在基座B上并且支撑腔室主体110。腔室支撑件111可以布置成确保光学单元16在基座B与腔室主体110之间布置在其中的空间。在实施例中，例如，腔室支撑件111可以具有多个柱的形状。在这样的实施例中，光学单元16可以布置在形成在多个柱之间的空间中。尽管图1示出了腔室支撑件111呈八个四边形柱的形式的实施例，但这仅是示例，腔室支撑件111的数量和形式不限于此。
目标插槽112可以打开和关闭，使得目标T可以插入。也就是说，目标插槽112可以在插入目标T的操作中打开，并且可以在目标T完全装载时关闭。当目标插槽112关闭时，装载区域LA可以被密封。在实施例中，当下面将描述的压力调节单元15调节装载区域LA的压力时，压力调节单元15可以防止外部空气流入到装载区域LA中或防止装载区域LA中的空气排放到外部。
目标插槽112可以具有与目标T对应的形状，使得目标T可以插入。在实施例中，例如，如图1中所示，目标插槽112可以具有四边形形状，该四边形形状在水平方向(例如，Y轴方向)上具有长的长度。在这样的实施例中，具有板形状的目标T可以通过目标插槽112有效地插入到装载区域LA中。然而，这仅是示例，目标插槽112的形状可以根据目标T的形状和目标T的插入方法而变化。
窗孔WH可以是其中布置有下面将描述的窗14的空间。窗孔WH可以通过腔室支撑件111的上表面或腔室主体110的下表面(例如，面朝-Z轴方向的表面)限定或形成。也就是说，窗孔WH和装载区域LA可以彼此连通。在实施例中，例如，如图1中所示，窗孔WH可以具有四边形形状。然而，这仅是实施例，窗孔WH的形状不限于此。
台单元12可以布置在装载区域LA中，并且可以固定(或被固定于)目标T的固定表面FS。台单元12可以包括台主体120和卡盘板121。
台主体120可以支撑卡盘板121。也就是说，卡盘板121可以固定于台主体120。台主体120可以连接到目标移动单元13，并且可以通过目标移动单元13而移动。当台主体120移动时，卡盘板121和目标T也可以沿着台主体120的移动路径移动。
卡盘板121可以与目标T的固定表面FS接触以固定目标T。卡盘板121可以是静电卡盘的形式，在实施例中，卡盘板121可以是静电电荷(ESC)型卡盘。在这样的实施例中，在目标T被固定于台单元12的状态下，目标T的固定表面FS可以与卡盘板121接触，目标T的处理表面PS可以在装载区域LA中暴露。
目标移动单元13可以布置在装载区域LA中，并且可以使固定有目标T的台单元12移动至处理位置PP(参照图2C)。目标移动单元13可以包括目标旋转移动单元130和目标竖直移动单元131。
目标旋转移动单元130可以使台单元12绕第一轴(例如，X轴)旋转。也就是说，目标旋转移动单元130可以使台单元12绕水平轴旋转。
目标竖直移动单元131可以使台单元12在激光指向的方向(例如，+Z轴方向)以及与激光指向的方向相反的方向(例如，-Z轴方向)上移动。也就是说，目标竖直移动单元131可以使台单元12在竖直方向上移动。
在实施例中，目标旋转移动单元130可以连接到台主体120和目标竖直移动单元131。在这样的实施例中，目标旋转移动单元130可以使台主体120相对于目标竖直移动单元131绕第一轴(例如，X轴)旋转移动。目标竖直移动单元131可以连接到目标旋转移动单元130和腔室11。在这样的实施例中，目标竖直移动单元131可以使目标旋转移动单元130相对于腔室11在竖直方向(例如，+Z轴方向和-Z轴方向)上移动。因此，目标移动单元13可以使固定于台单元12的目标T相对于基座B竖直移动或旋转移动。
窗14可以布置在腔室11的位于激光照射单元161与台单元12之间的一侧上，并且可以包括透明材料以允许激光穿过。窗14可以容纳在窗孔WH中，并且可以允许由激光照射单元161照射的激光穿过装载区域LA。窗14可以具有与窗孔WH对应的形状。在实施例中，例如，在窗孔WH的形状是如图1中所示的四边形的情况下，窗14的形状也可以是四边形。
压力调节单元15可以调节装载区域LA的压力。在目标插槽112关闭的状态下，压力调节单元15可以调节装载区域LA的压力，使得装载区域LA处于真空状态。压力调节单元15可以包括连接管150和真空泵151。连接管150的一侧可以固定于腔室主体110，并且可以与装载区域LA和真空泵151连通。真空泵151可以通过连接管150在装载区域LA中形成负压。
光学单元16可以布置在腔室11外部，并且对目标T的处理表面PS进行处理。光学单元16可以布置在腔室主体110外部，而不是布置在装载区域LA中。在实施例中，例如，光学单元16可以布置在多个腔室支撑件111之间的空间中。光学单元16可以包括激光照射单元161、激光移动单元162和激光对准单元163。
在台单元12位于处理位置PP的状态下，激光照射单元161可以朝向目标T的处理表面PS照射激光。激光照射单元161可以在台单元12下方，由激光照射单元161照射的激光可以通过窗14到达目标T的处理表面PS。在实施例中，激光照射单元161可以设置为多个。在实施例中，例如，如图1中所示，可以设置两个激光照射单元161。激光照射单元161的数量可以根据目标T的用途和处理目的而确定。
在平面图中，激光移动单元162可以使激光照射单元161相对于基座B沿着处理路径PR(参照图2E)(例如，X轴方向和/或Y轴方向)移动。也就是说，当激光照射单元161通过激光移动单元162沿着处理路径PR移动时，激光照射单元161可以通过朝向目标T的处理表面PS照射激光来对目标T的处理表面PS进行处理。
激光对准单元163可以在激光照射单元161照射激光之前将激光照射单元161对准到对准位置AP(参照图2D)。在实施例中，激光对准单元163可以设置为多个，并且多个激光对准单元163可以布置成在水平方向上彼此间隔开。多个激光对准单元163中的每个可以在水平方向(例如，X轴方向和/或Y轴方向)上彼此独立地移动。当多个激光对准单元163在水平方向(例如，X轴方向和/或Y轴方向)上移动时，激光照射单元161可以在照射激光之前预对准到对准位置AP。
图2A至图2E是根据实施例的沿着图1的线I-I'截取的示出用于制造显示设备的设备1装载并处理目标T的操作的剖视图。
参照图2A，在目标插槽112处于打开状态时，目标T可以在插入到腔室11中之后固定于台单元12。
目标T可以在处理表面PS面朝激光指向的方向(例如，+Z轴方向)并且固定表面FS面朝与激光指向的方向相反的方向(例如，-Z轴方向)的状态下插入到装载区域LA中，并且目标T的固定表面FS可以固定于台单元12。此时，目标T的固定表面FS可以与由台主体120支撑的卡盘板121接触。当目标T的固定表面FS固定于台单元12时，目标插槽112可以从打开状态切换到关闭状态。
参照图2B和图2C，目标移动单元13可以将固定有目标T的台单元12移动到处理位置PP。
在实施例中，参照图2B，目标旋转移动单元130可以使台主体120相对于基座B绕第一轴(例如，X轴)旋转。在这样的操作中，由台主体120支撑的卡盘板121也可以绕第一轴(例如，X轴)旋转。在目标T的固定表面FS固定于卡盘板121的状态下，目标旋转移动单元130可以使目标T旋转使得目标T的处理表面PS面朝与激光指向的方向相反的方向(例如，-Z轴方向)。也就是说，目标旋转移动单元130的旋转角度可以为180度。与激光指向的方向相反的方向(例如，-Z轴方向)可以是重力作用的方向。因此，在将参照图2E描述的对目标T的处理表面PS进行处理的操作中产生的异物可以向装载区域LA的下方向(例如，-Z轴方向)掉落，而不掉落于目标T的处理表面PS。
参照图2C，目标竖直移动单元131可以使目标旋转移动单元130相对于基座B在与激光指向的方向相反的方向(例如，-Z轴方向)上移动。在这样的操作中，连接到目标旋转移动单元130的台单元12可以移动到处理位置PP。与图2B类似，当台单元12处于处理位置PP时，在目标T的固定表面FS固定于由台主体120支撑的卡盘板121的状态下，目标T的处理表面PS可以面朝与激光指向的方向相反的方向(例如，-Z轴方向)。
参照图2D，当台单元12处于处理位置PP时，激光对准单元163可以将激光照射单元161对准在对准位置AP处。激光对准单元163可以相对于基座B在水平方向(例如，X轴方向和/或Y轴方向)上移动。在激光对准单元163将激光照射单元161对准在对准位置AP的状态下，激光照射单元161和目标T的处理表面PS可以彼此面对，且窗14位于激光照射单元161与目标T的处理表面PS之间。
参照图2E，在激光照射单元161对准在对准位置AP处的状态下，激光照射单元161可以在沿着处理路径PR移动的同时朝向目标T的处理表面PS照射激光L。激光移动单元162可以使激光照射单元161沿着处理路径PR相对于基座B在水平方向(例如，X轴方向和/或Y轴方向)上移动。激光照射单元161可以在通过激光移动单元162移动的同时朝向目标T的处理表面PS照射激光L。在这样的实施例中，可以在目标T被固定的状态下在使激光照射单元161移动的同时对目标T的处理表面PS进行处理。因此，可以精确且有效地执行处理，而不管目标T的重量和尺寸如何。另外，由于在处理操作中目标T是固定的，因此可以减小腔室11的尺寸。因此，可以减小用于制造显示设备的设备1的尺寸。
压力调节单元15可以在图2A至图2E中所示的状态中的任何一种状态下操作。在实施例中，例如，压力调节单元15可以在台单元12如图2C中所示地处于处理位置PP处时操作。也就是说，在完成目标移动单元13的操作之后，可以对装载区域LA抽真空。因此，目标移动单元13可以在操作时不受装载区域LA的压力的影响。
由于光学单元16布置在腔室11外部，而不布置在其压力被调节的装载区域LA中，因此可以精确且有效地对目标T的处理表面PS执行处理。在实施例中，例如，不管装载区域LA的压力如何，光学单元16可以是可操作的。因此，光学单元16可以不设置有用于在真空状态下操作光学单元16的单独的真空设备。另外，可以容易地冷却不受装载区域LA的压力影响的光学单元16，并且可以容易地检查和修理光学单元16。由于激光移动单元162不受装载区域LA的压力影响，因此激光移动单元162可以包括空气轴承。因此，激光移动单元162使激光L更精确地移动。
图3是示意性示出根据实施例的通过制造显示设备的方法制造的显示设备2的平面图。
参照图3，根据实施例制造的显示设备2可以包括显示区域DA和在显示区域DA外部的外围区域PA。显示设备2可以通过二维地布置在显示区域DA中的多个像素PX的阵列来提供图像。
外围区域PA是可以完全地或部分地围绕显示区域DA并且不提供图像的区域。被配置为将电信号或电力提供到与多个像素PX中的每个对应的像素电路的驱动器等可以布置在外围区域PA中。作为可以与电子装置或印刷电路板电连接的区域的垫(pad，或称为“焊盘”或“焊垫”)可以布置在外围区域PA中。
在下文中，为了便于描述，将详细描述显示设备2包括有机发光二极管(OLED)作为其发光元件的实施例，但是显示设备2不限于此。在可选实施例中，显示设备2可以是包括无机发光二极管的发光显示设备(即，无机发光显示设备)。无机发光二极管可以包括PN结二极管，PN结二极管包括基于无机半导体的材料。当在正向方向上向PN结二极管施加电压时，可以注入空穴和电子，并且通过空穴和电子的复合产生的能量可以被转换成光能以发射特定颜色的光。上述无机发光二极管可以具有几微米到几百微米的宽度，在一些实施例中，无机发光二极管可以被称为微发光二极管(LED)。在可选实施例中，显示设备2可以是量子点发光显示设备。
显示设备2可以是便携式电子装置(诸如移动电话、智能电话、台式个人计算机(PC)、移动通信终端、电子笔记本、电子书、便携式多媒体播放器(PMP)、导航装置、超移动PC(UMPC)等)，并且还可以用作各种产品(诸如电视机、膝上型计算机、监视器、广告板、物联网(IoT)装置等)的显示屏幕。另外，根据实施例的显示设备2可以用作可穿戴装置(诸如智能手表、手表电话、眼镜型显示器和头戴式显示器(HMD))。另外，根据实施例的显示设备2可以用作车辆的仪表板、车辆的中央饰板(center fascia)或设置在仪表板上的中央信息显示器(CID)、代替车辆的侧视镜的室内镜显示器以及设置在前座的后表面上作为用于车辆的后座的娱乐的显示屏幕。
图4是示意性示出根据实施例的通过制造显示设备的方法制造的显示设备2的沿着图3的线II-II'截取的剖视图。
参照图4，显示设备2的实施例可以包括基底1000、像素电路层PCL、显示元件层DEL和封装层3000的堆叠结构。
基底1000可以具有包括基体层和无机层的多层结构，基体层包括聚合物树脂。在实施例中，例如，基底1000可以包括包含聚合物树脂的基体层和无机绝缘层的阻挡层。在实施例中，例如，基底1000可以包括彼此顺序地堆叠的第一基体层1010、第一阻挡层1020、第二基体层1030和第二阻挡层1040。第一基体层1010和第二基体层1030可以均包括聚酰亚胺(PI)、聚醚砜(PES)、聚芳酯、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚碳酸酯、三乙酸纤维素(TAC)或/和乙酸丙酸纤维素(CAP)等。第一阻挡层1020和第二阻挡层1040可以均包括无机绝缘材料，诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅。基底1000可以是柔性的。
像素电路层PCL可以设置在基底1000上。图4示出了像素电路层PCL包括薄膜晶体管TFT、缓冲层1110、第一栅极绝缘层1120、第二栅极绝缘层1130、层间绝缘层1140、第一平坦化绝缘层1150和第二平坦化绝缘层1160，并且缓冲层1110、第一栅极绝缘层1120、第二栅极绝缘层1130、层间绝缘层1140、第一平坦化绝缘层1150和第二平坦化绝缘层1160设置在薄膜晶体管TFT的组件下方或/和上方的实施例。
缓冲层1110可以减少或阻挡异物、湿气或外部空气从基底1000的下部渗透，并且可以在基底1000上提供平坦表面。缓冲层1110可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅、氮氧化硅和氮化硅，并且可以包括单层或多层，每个层包括从上述材料中选择的至少一种。
设置在缓冲层1110上的薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act，半导体层Act可以包括多晶硅。可选地，半导体层Act可以包括非晶硅、氧化物半导体、有机半导体等。半导体层Act可以包括沟道区C、漏区D和源区S，其中，漏区D和源区S分别布置在沟道区C的两侧。薄膜晶体管TFT的栅电极GE可以与沟道区C叠置。
栅电极GE可以包括低电阻金属材料。栅电极GE可以包括包含钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等的导电材料，并且可以是多层或单层，每个层包括从上述材料中选择的至少一种。
半导体层Act与栅电极GE之间的第一栅极绝缘层1120可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)、氧化锌(ZnOx)等。氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
第二栅极绝缘层1130可以覆盖栅电极GE。与第一栅极绝缘层1120类似，第二栅极绝缘层1130可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)、氧化锌(ZnOx)等。氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
存储电容器Cst的上电极Cst2可以设置在第二栅极绝缘层1130上。上电极Cst2可以与其下方的栅电极GE叠置。在这样的实施例中，彼此叠置且第二栅极绝缘层1130位于其间的栅电极GE和上电极Cst2可以形成存储电容器Cst。也就是说，栅电极GE可以用作存储电容器Cst的下电极Cst1。
在这样的实施例中，存储电容器Cst和薄膜晶体管TFT可以彼此叠置。在一些实施例中，存储电容器Cst可以不与薄膜晶体管TFT叠置。
上电极Cst2可以包括Al、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、Mo、Ti、钨(W)和/或Cu，并且可以是单层或多层，每个层包括从上述材料中选择的至少一种。
层间绝缘层1140可以覆盖上电极Cst2。层间绝缘层1140可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)、氧化锌(ZnOx)等。氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。层间绝缘层1140可以包括单层或多层，每个层包括从上述无机绝缘材料中选择的至少一种。
漏电极DE和源电极SE中的每个可以位于层间绝缘层1140上。漏电极DE和源电极SE可以通过在漏电极DE和源电极SE下方的绝缘层中限定的接触孔分别连接到漏区D和源区S。漏电极DE和源电极SE可以均包括具有高电导率的材料。漏电极DE和源电极SE可以包括包含Mo、Al、Cu、Ti等的导电材料，并且可以包括多层或单层，每个层包括从上述材料中选择的至少一种。在实施例中，漏电极DE和源电极SE可以均具有Ti/Al/Ti的多层结构。
第一平坦化绝缘层1150可以覆盖漏电极DE和源电极SE。第一平坦化绝缘层1150可以包括有机绝缘材料，例如，普通商用聚合物(诸如聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)或聚苯乙烯(PS))、具有酚基的聚合物衍生物、丙烯酸聚合物、酰亚胺聚合物、芳基醚聚合物、酰胺聚合物、氟聚合物、对二甲苯聚合物、乙烯醇聚合物或其混合物。
第二平坦化绝缘层1160可以设置在第一平坦化绝缘层1150上。第二平坦化绝缘层1160可以包括与第一平坦化绝缘层1150的材料相同的材料，例如，可以包括有机绝缘材料，例如，普通商用聚合物(诸如PMMA或PS)、具有酚基的聚合物衍生物、丙烯酸聚合物、酰亚胺聚合物、芳基醚聚合物、酰胺聚合物、氟聚合物、对二甲苯聚合物、乙烯醇聚合物或其混合物。
显示元件层DEL可以设置在具有上述结构的像素电路层PCL上。显示元件层DEL可以包括有机发光二极管OLED作为显示元件(即，发光元件)，有机发光二极管OLED可以包括像素电极2100、中间层2200和共电极2300的堆叠结构。有机发光二极管OLED可以发射例如红光、绿光或蓝光，或者可以发射红光、绿光、蓝光或白光。有机发光二极管OLED可以通过发射区域发射光，并且将发射区域限定为像素PX。
有机发光二极管OLED的像素电极2100可以通过限定在第二平坦化绝缘层1160和第一平坦化绝缘层1150中的接触孔和设置在第一平坦化绝缘层1150上的接触金属CM电连接到薄膜晶体管TFT。
在实施例中，像素电极2100可以包括导电氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)或氧化铝锌(AZO)。在可选实施例中，像素电极2100可以包括反射膜，反射膜包括Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或其混合物。在可选实施例中，像素电极2100还可以包括在反射膜上方/下方的包含ITO、IZO、ZnO或In2O3的膜。
像素限定层1170设置在像素电极2100上，像素限定层1170具有通过其限定的开口1170OP以暴露像素电极2100的中央部分。像素限定层1170可以包括有机绝缘材料和/或无机绝缘材料。开口1170OP可以限定从有机发光二极管OLED发射的光的发射区域。在实施例中，例如，开口1170OP的尺寸/宽度可以对应于发射区域的尺寸/宽度。因此，像素PX的尺寸和/或宽度可以取决于像素限定层1170的与像素PX对应的开口1170OP的尺寸和/或宽度。
中间层2200可以包括形成为与像素电极2100对应的发射层2220。发射层2220可以包括发射特定颜色的光的聚合物有机材料或低分子量有机材料。可选地，发射层2220可以包括无机发光材料或量子点。
作为实施例，中间层2200可以包括分别设置在发射层2220下方和上方的第一功能层2210和第二功能层2230。第一功能层2210可以包括空穴传输层(HTL)或者HTL和空穴注入层(HIL)。第二功能层2230是设置在发射层2220上的组件，并且可以包括电子传输层(ETL)和/或电子注入层(EIL)。与下面将描述的共电极2300类似，第一功能层2210和/或第二功能层2230可以是完全地覆盖基底1000的公共层。
共电极2300可以设置在像素电极2100上方并且与像素电极2100叠置。共电极2300可以包括具有低逸出功的导电材料。在实施例中，例如，共电极2300可以包括(半)透明层，(半)透明层包括Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、锂(Li)、Ca、其合金等。可选地，共电极2300还可以包括在包括上述材料的(半)透明层上方的诸如ITO、IZO、ZnO或In2O3的层。共电极2300可以一体地形成为单个整体部分以完全地覆盖基底1000。
封装层3000可以设置在显示元件层DEL上并且覆盖显示元件层DEL。封装层3000可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。在实施例中，如图4中所示，封装层3000包括彼此顺序地堆叠第一无机封装层3100、有机封装层3200和第二无机封装层3300。
第一无机封装层3100和第二无机封装层3300可以均包括从氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中选择的至少一种无机材料。有机封装层3200可以包括聚合物类材料。聚合物类材料可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯等。在实施例中，有机封装层3200可以包括丙烯酸酯。有机封装层3200可以通过使单体固化或涂覆聚合物来形成。有机封装层3200可以具有透明度。
尽管在图4中未示出，但是触摸传感器层可以设置在封装层3000上，光学功能层可以设置在触摸传感器层上。触摸传感器层可以根据外部输入(例如，触摸事件)来获得坐标信息。光功能层可以降低从外部朝向显示设备入射的光(外部光)的反射率，并且/或者改善由显示设备发射的光的色纯度。作为实施例，光学功能层可以包括延迟器和/或偏振器。延迟器可以是膜型或液晶涂覆型，并且可以包括λ/2延迟器和/或λ/4延迟器。偏振器也可以是膜型或液晶涂覆型。膜型偏振器可以包括拉伸型合成树脂膜，液晶涂覆型偏振器可以包括呈一定排列的液晶。延迟器和偏振器还可以包括保护膜。
粘合构件可以布置在触摸传感器层与光学功能层之间。作为粘合构件，可以不受限制地采用现有技术中已知的普通粘合构件。粘合构件可以是压敏粘合剂(PSA)。
上面参照图1至图2E描述的目标T的固定表面FS可以是基底1000的下表面。另外，目标T的处理表面PS可以是从设置在基底1000上的若干层中选择的至少一个的上表面。
在实施例中，例如，目标T的处理表面PS可以是第一平坦化绝缘层1150的上表面。因此，激光照射单元161可以向第一平坦化绝缘层1150的上表面照射激光L。接触孔可以通过由激光照射单元161照射的激光L而形成在第一平坦化绝缘层1150中，以允许接触金属CM穿过。
在实施例中，例如，目标T的处理表面PS可以是第二平坦化绝缘层1160的上表面。因此，激光照射单元161可以向第二平坦化绝缘层1160的上表面照射激光L。接触孔可以通过由激光照射单元161照射的激光L而形成在第二平坦化绝缘层1160中，以允许像素电极2100穿过。
图5是根据实施例的像素的等效电路图。
参照图5，像素电路PC的实施例可以包括第一晶体管T1至第七晶体管T7，根据晶体管类型(p型或n型)和/或操作条件，第一晶体管T1至第七晶体管T7中的每个的第一端子可以是源极端子或漏极端子，并且第一晶体管T1至第七晶体管T7中的每个的第二端子可以是与第一端子不同的端子。在实施例中，例如，第一端子是源极端子，并且第二端子可以是漏极端子。
像素电路PC可以连接到被配置为传输第一扫描信号Sn的第一扫描线SL、被配置为传输第二扫描信号Sn-1的第二扫描线SL-1、被配置为传输第三扫描信号Sn+1的第三扫描线SL+1、被配置为传输发射控制信号En的发射控制线EL、被配置为传输数据信号DATA的数据线DL、被配置为传输驱动电压ELVDD的驱动电压线PL以及被配置为传输初始化电压Vint的初始化电压线VL。
第一晶体管T1包括连接到第二节点N2的栅极端子、连接到第一节点N1的第一端子和连接到第三节点N3的第二端子。第一晶体管T1用作驱动晶体管，并且基于第二晶体管T2的开关操作接收数据信号DATA，以向发光元件供应驱动电流。发光元件可以是有机发光二极管OLED。
第二晶体管T2(开关晶体管)包括连接到第一扫描线SL的栅极端子、连接到数据线DL的第一端子和连接到第一节点N1(或第一晶体管T1的第一端子)的第二端子。第二晶体管T2可以响应于通过第一扫描线SL接收的第一扫描信号Sn而导通，并且可以执行将提供到数据线DL的数据信号DATA提供到第一节点N1的开关操作。
第三晶体管T3(补偿晶体管)包括连接到第一扫描线SL的栅极端子、连接到第二节点N2(或第一晶体管T1的栅极端子)的第一端子以及连接到第三节点N3(第一晶体管T1的第二端子)的第二端子。第三晶体管T3可以响应于经由第一扫描线SL接收的第一扫描信号Sn而导通，以使第一晶体管T1二极管连接。第三晶体管T3可以具有两个或更多个晶体管串联连接的结构。
第四晶体管T4(第一初始化晶体管)包括连接到第二扫描线SL-1的栅极端子、连接到初始化电压线VL的第一端子以及连接到第二节点N2的第二端子。第四晶体管T4可以根据通过第二扫描线SL-1接收的第二扫描信号Sn-1而导通，并且被配置为将初始化电压Vint传输到第一晶体管T1的栅极端子以使第一晶体管T1的栅极电压初始化。第四晶体管T4可以具有两个或更多个晶体管串联连接的结构。
第五晶体管T5(第一发射控制晶体管)包括连接到发射控制线EL的栅极端子、连接到驱动电压线PL的第一端子以及连接到第一节点N1的第二端子。第六晶体管T6(第二发射控制晶体管)包括连接到发射控制线EL的栅极端子、连接到第三节点N3的第一端子以及连接到有机发光二极管OLED的像素电极的第二端子。第五晶体管T5和第六晶体管T6响应于通过发射控制线EL接收的发射控制信号En而同时导通，因此，电流流向有机发光二极管OLED。
第七晶体管T7(第二初始化晶体管)包括连接到第三扫描线SL+1的栅极端子、与第六晶体管T6的第二端子和有机发光二极管OLED的像素电极连接的第一端子以及连接到初始化电压线VL的第二端子。第七晶体管T7可以响应于通过第三扫描线SL+1接收的第三扫描信号Sn+1而导通，并且被配置为将初始化电压Vint传输到有机发光二极管OLED的像素电极，以使有机发光二极管OLED的像素电极的电压初始化。可以省略第七晶体管T7。
电容器Cst包括连接到第二节点N2的第一电极和连接到驱动电压线PL的第二电极。
有机发光二极管OLED可以包括像素电极和面对像素电极的对电极，对电极可以接收共电压ELVSS。有机发光二极管OLED可以从第一晶体管T1接收驱动电流并且发射特定颜色的光以显示图像。可以为多个像素共同地设置对电极，也就是说，像素的对电极一体地形成为单个整体单元。
图5示出了其中第四晶体管T4和第七晶体管T7分别连接到第二扫描线SL-1和第三扫描线SL+1的实施例，但是公开不限于此。在可选实施例中，第四晶体管T4和第七晶体管T7都可以连接到第二扫描线SL-1，以基于第二扫描信号Sn-1而被驱动。
根据实施例，可以减小用于制造显示设备的设备的尺寸，并且可以在通过照射激光对目标进行处理的操作中精确且有效地对目标执行处理。
本实用新型不应被解释为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达本实用新型的构思。
虽然已经参照本实用新型的实施例具体示出并描述了本实用新型，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离如由权利要求限定的本实用新型的精神或范围的情况下，可以在其中做出形式和细节上的各种改变。

Claims (10)

1.一种用于制造显示设备的设备，其特征在于，所述设备包括：
装载区域，被配置为装载目标；
台单元，设置在所述装载区域中，并且被配置为使所述目标的固定表面固定；以及
光学单元，设置在所述装载区域外部，并且被配置为对所述目标的处理表面进行处理，
其中，所述光学单元包括：
激光照射单元，被配置为朝向所述目标的所述处理表面照射激光；以及
激光移动单元，被配置为使所述激光照射单元在平面图中沿着处理路径移动。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：
腔室，其中限定有所述装载区域；以及
目标移动单元，设置在所述装载区域中，并且被配置为使固定有所述目标的所述台单元移动到处理位置。
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述目标移动单元包括目标旋转移动单元，所述目标旋转移动单元被配置为使所述台单元绕第一轴旋转。
4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述台单元被配置为在所述目标的所述处理表面面朝所述激光指向的方向的状态下使所述目标的所述固定表面固定。
5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述目标旋转移动单元被配置为以这样的方式旋转所述台单元：使得固定于所述台单元的所述目标的所述处理表面面朝与所述激光指向的所述方向相反的方向。
6.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述目标移动单元还包括目标竖直移动单元，所述目标竖直移动单元被配置为使所述台单元在与所述激光指向的方向相反的方向上移动。
7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：
压力调节单元，被配置为调节所述装载区域的压力。
8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：
窗，设置在所述装载区域的位于所述激光照射单元与所述台单元之间的一侧上，
其中，所述窗包括透明材料以允许所述激光穿过。
9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学单元还包括激光对准单元，所述激光对准单元被配置为使所述激光照射单元对准到对准位置。
10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述激光移动单元包括空气轴承。
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