CN219792835U - 一种低反射三银镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种低反射三银镀膜玻璃，包括依次层叠设置的玻璃基板、底层保护层、吸收层、电介质隔离层、第一电介质抗氧化层、第一金属低辐射层、第一合金吸收层、第二电介质抗氧化层、第一电介质干涉层、第三电介质抗氧化层、第二金属低辐射层、第二合金吸收层、第四电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第五电介质抗氧化层、第三金属低辐射层、第三合金吸收层、第六电介质抗氧化层、第一介质保护层、第二介质保护层；通过各个膜层的合理配合，可控制三银镀膜玻璃的反射率在7％以下，透过率在40％以上，辐射率在0.01以下，遮阳系数在0.28以下，更大幅度的降低了光污染，且颜色为市场上较受欢迎的蓝灰色。
Description
技术领域
本实用新型属于镀膜玻璃技术领域，具体涉及一种低反射三银镀膜玻璃。
背景技术
玻璃幕墙是当代十分流行的一种新型墙体，此种墙体使用幕墙玻璃作为建筑外墙装潢的镜面玻璃，这种玻璃能够吸收红外线，减少进入室内的太阳辐射，降低室内温度，它既能像镜子一样反射光线，又能像玻璃一样透过光线。但是幕墙玻璃也存在着一些局限性，比如光污染，为降低幕墙玻璃光污染，上海区域将幕墙玻璃率反射低于7％作为玻璃热工性能硬性指标。但是现有技术中在降低幕墙玻璃率反射率的同时也显著降低了可见光的透过率，这样会导致室内光线的不足。
中国专利CN 115140951 A中公开了一种低反射率过率低辐射镀膜玻璃及其制作方法，具体公开了该低反射率低透过率低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，还包括从内向外依次层叠在玻璃基片表面上的第一电介质层、第一阻挡层、第一功能层、第二功能层、第二阻挡层、第二电介质层、第三功能层、第三阻挡层和第三电介质层；所述第一功能层和/或所述第三功能层为银和氮化银的复合层，本发明技术方案通过采用上述膜层结构，减少了低辐射镀膜玻璃对周围的光污染，可见光室外反射率15-20％，可见光透过率18-26％，辐射率在0.05-0.08，有良好的节能性能。该专利中公开的低反射率低透过率低辐射镀膜玻璃虽然辐射率较低减少了对周围的光污染，但是如果要求达到高性能(遮阳小于0.3)，超低反射(7％以内)，中透(T％＝40％—50％)需要对膜系结构进行升级优化。
发明内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种低反射三银镀膜玻璃，通过各个膜层的合理配合，可控制三银镀膜玻璃的反射率在7％以下，透过率在40％以上，辐射率在0.01以下，遮阳系数在0.28以下，具有更优的光学性能与超低反射，更大幅度的降低了光污染，且颜色为市场上较受欢迎的蓝灰色，可调空间大。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案如下：
一种低反射三银镀膜玻璃，所述低反射三银镀膜玻璃包括依次层叠设置的玻璃基板、底层保护层、吸收层、电介质隔离层、第一电介质抗氧化层、第一金属低辐射层、第一合金吸收层、第二电介质抗氧化层、第一电介质干涉层、第三电介质抗氧化层、第二金属低辐射层、第二合金吸收层、第四电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第五电介质抗氧化层、第三金属低辐射层、第三合金吸收层、第六电介质抗氧化层、第一介质保护层、第二介质保护层；
所述第一金属低辐射层、第二金属低辐射层、第三金属低辐射层为银层，或银与金、铜中的至少一种的复合层。
所述底层保护层为Si3N4层或陶瓷钛层；所述底层保护层的厚度为10～20nm。
所述吸收层为镍铬层、氮化镉层、钴层或不锈钢层；所述吸收层的厚度为1～5nm。
所述电介质隔离层为TiOx层、Si3N4层，x表示不完全氧化；所述电介质隔离层的厚度为20～30nm。
所述第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三电介质抗氧化层、第四电介质抗氧化层、第五电介质抗氧化层、第六电介质抗氧化层均为ZnAlO层或AZO层；所述第一电介质抗氧化层的厚度为10～15nm；所述第二电介质抗氧化层、第三电介质抗氧化层、第四电介质抗氧化层、第五电介质抗氧化层、第六电介质抗氧化层的厚度均为5～10nm。
所述第一金属低辐射层的厚度为9～10nm；所述第二金属低辐射层的厚度为10～15nm；所述第三金属低辐射层的厚度为15～17nm。
所述第一合金吸收层、第二合金吸收层、第三合金吸收层均为NiCr层或NiCrOx层，厚度均为0.5～1nm。
所述第一电介质干涉层、第二电介质干涉层均为ZnSnO层或Si3N4层；所述第一电介质干涉层的厚度为55～65nm；所述第二电介质干涉层的厚度为50～60nm。
所述第一介质保护层为Si3N4层，厚度为15～30nm。
所述第二介质保护层为SiO2层或ZrO2层，厚度为5～10nm。
与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
本实用新型提供的低反射三银镀膜玻璃，在玻璃基板上依次设置了底层保护层、吸收层、电介质隔离层、第一电介质抗氧化层、第一金属低辐射层、第一合金吸收层、第二电介质抗氧化层、第一电介质干涉层、第三电介质抗氧化层、第二金属低辐射层、第二合金吸收层、第四电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第五电介质抗氧化层、第三金属低辐射层、第三合金吸收层、第六电介质抗氧化层、第一介质保护层、第二介质保护层，其中第一金属低辐射层、第二金属低辐射层、第三金属低辐射层为银层，或银与金、铜中的至少一种的复合层；本实用新型采用三银结构，在每一个金属低辐射层之上均设置了合金吸收层，并为了保证抗氧化性能，在每一个金属低辐射层之下及合金吸收层之上均设置了电介质抗氧化层，从而制作出较低的遮阳系数及辐射率、较高透过率的低反射三银镀膜玻璃，在最大幅度降低光污染的同时保证了室内光线的充足，且颜色为市场上较受欢迎的蓝灰色。
附图说明
图1为本实用新型中的低反射三银镀膜玻璃的结构示意图；
图2为实施例1及实施例2中低反射三银镀膜玻璃的Rg、Rf、T曲线；
图中，1-玻璃基板、2-底层保护层、3-吸收层、4-电介质隔离层、5-第一电介质抗氧化层、6-第一金属低辐射层、7-第一合金吸收层、8-第二电介质抗氧化层、9-第一电介质干涉层、10-第三电介质抗氧化层、11-第二金属低辐射层、12-第二合金吸收层、13-第四电介质抗氧化层、14-第二电介质干涉层、15-第五电介质抗氧化层、16-第三金属低辐射层、17-第三合金吸收层、18-第六电介质抗氧化层、19-第一介质保护层、20-第二介质保护层。
具体实施方式
本实用新型提供的一种低反射三银镀膜玻璃包括依次层叠设置的玻璃基板1、底层保护层2、吸收层3、电介质隔离层4、第一电介质抗氧化层5、第一金属低辐射层6、第一合金吸收层7、第二电介质抗氧化层8、第一电介质干涉层9、第三电介质抗氧化层10、第二金属低辐射层11、第二合金吸收层12、第四电介质抗氧化层13、第二电介质干涉层14、第五电介质抗氧化层15、第三金属低辐射层16、第三合金吸收层17、第六电介质抗氧化层18、第一介质保护层19、第二介质保护层20；
所述第一金属低辐射层、第二金属低辐射层、第三金属低辐射层为银层，或银与金、铜中的至少一种的复合层。
所述底层保护层为Si3N4层或陶瓷钛层；所述底层保护层的厚度为10～20nm。
所述吸收层为镍铬层、氮化镉层、钴层或不锈钢层；所述吸收层的厚度为1～5nm。
所述电介质隔离层为TiOx层、Si3N4层，x表示不完全氧化；所述电介质隔离层的厚度为20～30nm。
所述第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三电介质抗氧化层、第四电介质抗氧化层、第五电介质抗氧化层、第六电介质抗氧化层均为ZnAlO层或AZO层；所述第一电介质抗氧化层的厚度为10～15nm；所述第二电介质抗氧化层、第三电介质抗氧化层、第四电介质抗氧化层、第五电介质抗氧化层、第六电介质抗氧化层的厚度均为5～10nm。
所述第一金属低辐射层的厚度为9～10nm；
所述第二金属低辐射层的厚度为10～15nm；
所述第三金属低辐射层的厚度为15～17nm。
所述第一合金吸收层、第二合金吸收层、第三合金吸收层均为NiCr层或NiCrOx层，厚度均为0.5～1nm。
所述第一电介质干涉层、第二电介质干涉层均为ZnSnO层或Si3N4层；所述第一电介质干涉层的厚度为55～65nm；所述第二电介质干涉层的厚度为50～60nm。
所述第一介质保护层为Si3N4层，厚度为15～30nm。
所述第二介质保护层为SiO2层或ZrO2层，厚度为5～10nm。
所述低反射三银镀膜玻璃的颜色为蓝灰色。
低反射薄膜一般通过减反增透、增加吸收的方式实现，当吸收增加的时候，反射红外热量的能力也随之减弱，辐射率升高，常规的膜层结构很难兼顾理光学性能与低反低透的要求。
本实用新型提供的低反射三银镀膜玻璃的特点在于：
1.以能效优秀的三银膜层结构为基础，在每一个银膜层之上均设置了合金吸收层，并为了保证抗氧化性能，在每一个银膜层之下及合金吸收层之上均设置了电介质抗氧化层，从而制作出较低的遮阳系数及辐射率、多种透过率的低反射三银镀膜玻璃，在最大幅度降低光污染的同时保证了室内光线的充足。
2.电介质层、银膜层和吸收层的相互配合，通过控制各膜层的厚度，沉积出受市场欢迎的蓝灰色低反射三银镀膜玻璃。
3.本实用新型提供的低反射三银镀膜玻璃反射率在7％以下，透过率在40％以上，辐射率在0.01以下，遮阳系数在0.28以下，具有更优的光学性能与超低反射更大幅度的降低了光污染。
下面结合实施例对本实用新型进行详细说明。
实施例1
一种低反射三银镀膜玻璃，各膜层材料及厚度如表1所示。
表1
该实施例中的低反射三银镀膜玻璃的单片颜色如图2所示，单片颜色为：Rg＝5.2a*＝5.9b*＝-9.7；
Rf＝5.7a*＝10.8b*＝-1.3；
Tr＝41.8a*＝-1.5b*＝-5.8。
实施例2
一种低反射三银镀膜玻璃，各膜层材料及厚度如表2所示。
表2
该实施例中的低反射三银镀膜玻璃的单片颜色如图2所示，单片颜色为：
Rg＝5.3a*＝4.5b*＝-9.6；
Rf＝5.8a*＝6.8b*＝-2.6；
Tr＝45.9a*＝-2.5b*＝-4.0。
将实施例2中的低反射三银镀膜玻璃按照6mm实施例2中的三银镀膜玻璃(第二面镀膜)/12mm空气间隔/6mm白玻制成中空玻璃，中空玻璃的结构热工性能如表3所示：
表3
由表3中可见，实例2中的低反射三银镀膜玻璃制成的中空玻璃的反射率为7％，透过率为43％，遮阳系数为0.28，辐射率为0.01，其具有超低的辐射率、反射率及较高的可见光透过率，达到幕墙玻璃对光热比的要求，属于高性能低反射节能玻璃。
上述参照实施例对一种低反射三银镀膜玻璃进行的详细描述，是说明性的而不是限定性的，可按照所限定范围列举出若干个实施例，因此在不脱离本实用新型总体构思下的变化和修改，应属本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射三银镀膜玻璃包括依次层叠设置的玻璃基板、底层保护层、吸收层、电介质隔离层、第一电介质抗氧化层、第一金属低辐射层、第一合金吸收层、第二电介质抗氧化层、第一电介质干涉层、第三电介质抗氧化层、第二金属低辐射层、第二合金吸收层、第四电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第五电介质抗氧化层、第三金属低辐射层、第三合金吸收层、第六电介质抗氧化层、第一介质保护层、第二介质保护层；
所述第一金属低辐射层、第二金属低辐射层、第三金属低辐射层为银层，或银与金、铜中的至少一种的复合层。
2.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述底层保护层为Si3N4层或陶瓷钛层；所述底层保护层的厚度为10～20nm。
3.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述吸收层为镍铬层、氮化镉层、钴层或不锈钢层；所述吸收层的厚度为1～5nm。
4.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述电介质隔离层为TiOx层、Si3N4层，x表示不完全氧化；所述电介质隔离层的厚度为20～30nm。
5.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三电介质抗氧化层、第四电介质抗氧化层、第五电介质抗氧化层、第六电介质抗氧化层均为ZnAlO层、或AZO层；所述第一电介质抗氧化层的厚度为10～15nm；所述第二电介质抗氧化层、第三电介质抗氧化层、第四电介质抗氧化层、第五电介质抗氧化层、第六电介质抗氧化层的厚度均为5～10nm。
6.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一金属低辐射层的厚度为9～10nm；所述第二金属低辐射层的厚度为10～15nm；所述第三金属低辐射层的厚度为15～17nm。
7.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一合金吸收层、第二合金吸收层、第三合金吸收层均为NiCr层或NiCrOx层，厚度均为0.5～1nm。
8.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质干涉层、第二电介质干涉层均为ZnSnO层或Si3N4层；所述第一电介质干涉层的厚度为55～65nm；所述第二电介质干涉层的厚度为50～60nm。
9.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质保护层为Si3N4层，厚度为15～30nm。
10.根据权利要求1所述的低反射三银镀膜玻璃，其特征在于，所述第二介质保护层为SiO2层或ZrO2层，厚度为5～10nm。
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