CN219695660U - 一种温度控制装置 - Google Patents

一种温度控制装置 Download PDF

Info

Publication number
CN219695660U
CN219695660U CN202321230797.5U CN202321230797U CN219695660U CN 219695660 U CN219695660 U CN 219695660U CN 202321230797 U CN202321230797 U CN 202321230797U CN 219695660 U CN219695660 U CN 219695660U
Authority
CN
China
Prior art keywords
temperature
temperature control
inlet
chamber
outlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202321230797.5U
Other languages
English (en)
Inventor
于涵立
程远
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
North Ic Technology Innovation Center Beijing Co ltd
Original Assignee
North Ic Technology Innovation Center Beijing Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by North Ic Technology Innovation Center Beijing Co ltd filed Critical North Ic Technology Innovation Center Beijing Co ltd
Priority to CN202321230797.5U priority Critical patent/CN219695660U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN219695660U publication Critical patent/CN219695660U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

本申请提供一种温度控制装置,用于控制刻蚀设备的腔室内的温度,包括至少一个温度调节组件,温度调节组件包括:环形管道,环形管道设置在刻蚀设备的腔室的外表面上,环形管道上开设有入口和出口;至少一个温控组件,温控组件包括入口通道和出口通道,入口通道与入口连接,出口通道与出口连接;其中,入口通道用于通入冷却介质,入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热结构。本申请实施例提供的温度控制装置能够对刻蚀设备的腔室内的温度具有较好的降温效果,保证刻蚀设备工作时腔室内的温度能够稳定在允许范围内。

Description

一种温度控制装置
技术领域
本申请涉及温度控制技术,特别涉及一种温度控制装置,用于控制刻蚀设备腔室内的温度。
背景技术
在半导体制造工艺中,通常需要刻蚀设备来对半导体产品进行刻蚀以获取所需图案或结构。刻蚀设备在连续工作时,刻蚀设备的腔室内的温度会持续上升,而超过允许范围(例如,达到138℃以上),如果不对腔室内的温度加以控制,则会对产品性能造成消极影响(例如,精度差等)。
因此,如何控制刻蚀设备腔室内的温度是目前亟需解决的问题。
实用新型内容
本申请实施例提供一种温度控制装置,用于控制刻蚀设备的腔室内的温度,包括至少一个温度调节组件,所述温度调节组件包括:环形管道,所述环形管道设置在所述刻蚀设备的腔室的外表面上,所述环形管道上开设有入口和出口;至少一个温控组件,所述温控组件包括入口通道和出口通道,所述入口通道与所述入口连接,所述出口通道与所述出口连接;其中,所述入口通道用于通入冷却介质,所述入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构。
在一些实施例中,所述环形管道包括第一弧形管道和第二弧形管道,所述第一弧形管道的第一端和第二端分别与所述第二弧形管道的第一端和第二端连接形成所述环形管道;所述至少一个温控组件包括第一温控组件和第二温控组件;其中,所述第一弧形管道的第一端和第二端的外侧面上分别开设有第一入口和第一出口;所述第二弧形管道的第二端和第一端的外侧面上分别开设有第二入口和第二出口;所述第一温控组件包括第一入口通道和第一出口通道,所述第一入口通道与所述第一入口连接,所述第一出口通道与所述第二出口连接;所述第二温控组件包括第二入口通道和第二出口通道,所述第二入口通道与所述第二入口连接,所述第二出口通道与所述第一出口连接。
在一些实施例中,所述第一弧形管道的弧度和所述第二弧形管道的弧度相同。
在一些实施例中,所述温度控制装置包括多个温度调节组件,所述多个温度调节组件中的环形管道同心设置在所述腔室的外表面上,且所述多个温度调节组件中的环形管道的直径各不相同。
在一些实施例中,所述加热机构包括两个相对设置的加热片。
在一些实施例中,所述入口通道内还设置流速增强机构,所述风速增强机构位于所述两个相对设置的加热片之间。
在一些实施例中,所述入口通道、所述出口通道以及所述环形管道的内径为1cm至10cm。
在一些实施例中,所述温控组件包括主体,所述入口通道和所述出口通道为开设在所述主体中的通腔结构。
在一些实施例中,所述入口通道和所述出口通道为管道结构。
在一些实施例中,温度控制装置还包括:温度监测装置,所述温度监测装置用于监测所述刻蚀设备腔室内的温度;冷却介质供应装置,用于向所述入口通道通入冷却介质;当所述温度监测装置监测到所述刻蚀设备的腔室内的温度超过预设温度时,所述冷却介质供应装置向所述入口通道通入冷却介质,所述加热机构能够将所述冷却介质加热到指定温度。
本申请实施例提供的温度控制装置通过冷却介质在设置刻蚀设备的腔室的外表面上的环形管道内流动,以带走腔室内的热量,能够对刻蚀设备的腔室内的温度具有较好的降温效果,保证刻蚀设备工作时腔室内的温度能够稳定在允许范围内。
附图说明
以下附图详细描述了本申请中披露的示例性实施例。其中相同的附图标记在附图的若干视图中表示类似的结构。本领域的一般技术人员将理解这些实施例是非限制性的、示例性的实施例,附图仅用于说明和描述的目的,并不旨在限制本申请的范围,其他方式的实施例也可能同样的完成本申请中的发明意图。应当理解,附图未按比例绘制。
其中:
图1是刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图;
图2是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置的应用框图;
图3是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置设置在刻蚀设备的腔室的外表面上的示意图;
图4是根据本申请一些实施例所示的环形管道的结构示意图;
图5是根据本申请一些实施例所示的温控组件的结构示意图;
图6是图5示出的温控组件的主视图;
图7是图5示出的温控组件的俯视图;
图8是图5是示出的温控组件的右视图;
图9是根据本申请一些实施例所示的加热机构的结构示意图;
图10是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置设置在刻蚀设备的腔室的外表面上的示意图;
图11是采用本申请一些实施例提供的温度控制装置的刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图。
具体实施方式
以下描述提供了本申请的特定应用场景和要求,目的是使本领域技术人员能够制造和使用本申请中的内容。对于本领域技术人员来说,对所公开的实施例的各种局部修改是显而易见的,并且在不脱离本申请的精神和范围的情况下,可以将这里定义的一般原理应用于其他实施例和应用。因此,本申请不限于所示的实施例,而是与权利要求一致的最宽范围。
图1是刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图。
从图1中可以看出,随着工作时间的增加,刻蚀设备的腔室内温度在持续上升,刻蚀设备工作2.5小时后,刻蚀设备的腔室内温度能够达到138℃以上。然而,综合考虑刻蚀设备的腔室周边各部件的寿命以及腔室内的温度对产品性能的影响,腔室内温度的允许范围一般会在120℃以下。由此看来,如果不对刻蚀设备的腔室内温度加以控制,腔室内温度则会随着工作时间的增加而超过允许范围,从而会对腔室周边各部件的寿命以及产品性能造成消极影响。在实际中,通过控制刻蚀设备的腔室的排气速度虽然能够达到对腔室内的温度进行控制的目的,但无法实现稳定控制刻蚀设备工作时腔室内的温度。
本申请实施例提供一种温度控制装置,可以用于控制刻蚀设备的腔室内的温度,包括至少一个温度调节组件,所述温度调节组件包括:至少一个环形管道,环形管道设置在刻蚀设备的腔室的外表面上,环形管道上开设有入口和出口;至少一个温控组件,温控组件包括入口通道和出口通道,入口通道与入口连接,出口通道与出口连接;其中,所述入口通道用于通入冷却介质,所述入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构。本申请实施例提供的温度控制装置通过将环形管道设置在腔室的外表面上,利用温控组件的入口通道通入冷却介质,冷却介质被加热机构加热到指定温度后通过环形管道上的入口进入到环形管道内流动,腔室内的部分热量可以传递到环形管道内的冷却介质中,然后随着冷却介质从环形管道上的出口进入到出口通道内而离开环形管道,以此减少了腔室内的热量,而达到对腔室内的温度降低的目的,从而能够实现刻蚀设备工作时对腔室内的温度的稳定控制,避免刻蚀设备工作时腔室内的温度超过允许范围而影响腔室周边部件的寿命和产品性能。
下面将结合附图对本申请实施例提供的温度控制装置进行详细描述。
图2是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置的应用框图。
如图2所示,温度控制装置10可以包括至少一个温度调节组件100,温度调节组件100可以包括至少一个环形管道110和至少一个温控组件120。其中,环形管道110可以设置在刻蚀设备的腔室200的外表面上,环形管道110上可以开设有入口111和出口112;温控组件120可以包括入口通道121和出口通道122,入口通道121与入口111连接,出口通道122与出口112连接,入口通道121可以用于通入冷却介质,入口通道121内可以设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构123。下面将对温度控制装置10如何实现对腔室200内的温度进行控制进行示例性说明。
作为示例性说明,当腔室200内的温度过高时,向入口通道121通入冷却介质,冷却介质由加热机构123加热到指定温度(指定温度小于腔室200内的温度),然后通过环形管道110上的入口111进入到环形管道111内流动,由于环形管道110位于腔室200的外表面上,腔室200中的部分热量可以传递给环形管道110中的冷却介质,随冷却介质流动至出口112而进入到出口通道122内并从出口通道122内流出,从而使得腔室200内的热量减少,腔室200内的温度降低,以此来达到控制腔室200内的温度的目的。其中,通过加热机构123将冷却介质加热到指定温度,可以控制冷却介质所带走的腔室200内的热量多少而控制腔室200内的温度降低多少,以达到准确控制腔室200内的温度的目的。
在一些实施例中,温度控制装置10还可以包括温度监测装置(图中未示出)和冷却介质供应装置(图中未示出)。其中,温度监测装置可以用于监测腔室200内的温度,例如,温度监测装置可以是设置在刻蚀设备的腔室200内的温度传感器;冷却介质供应装置可以用于向入口通道121通入冷却介质,例如,冷却介质供应装置可以是产生和/或存储冷却介质的相关装置。
在一些实施例中,温度监测装置可以与冷却介质供应装置和加热机构电连接。当温度监测装置监测到腔室200内的温度超过预设温度(例如,腔室200内的温度的允许范围)时,可以向冷却介质供应装置和加热机构123发送相关信号,在接收到相关信号后,冷却介质供应装置可以向入口通道121通入冷却介质,加热机构123能够将冷却介质加热到指定温度。在一些实施例中,指定温度可以根据腔室200内的温度和腔室200内的温度的允许范围来指定,其中,腔室200内的温度和腔室200内的温度的允许范围之间的差值越大,也就意味着将腔室200内的温度降低至允许范围内需要带走腔室200内的热量就越多,为了带走腔室200内越多的热量,指定温度就要越小于腔室200内的温度。
通过温度监测装置与冷却介质供应装置和加热机构123的联动,可以使得温度调节组件100能够在腔室200内的温度过高时自动调节(降低)腔室200内的温度,而始终将腔室200内的温度控制在允许范围内,避免腔室200内的温度过高而导致腔室200周边的部件寿命降低以及腔室200内产品的性能下降。
需要说明的是,本申请实施例提供的温度控制装置所使用的冷却介质可以是气体或液体。在一些实施例中,冷却介质可以是氮气、氢气、氩气、氦气、氧气以及二氧化碳等大宗气体。
在一些实施例中,温度调节组件100可以仅包括一个温控组件120和一个环形管道110,即环形管道110上仅包括一个入口111和一个出口112,用于分别连接一个温控组件120上的入口通道121和出口通道122。其中,入口111和出口112在环形管道110的位置紧挨着,这样能够保证冷却介质在环形管道110的流动路径基本为整个环形管道110内,从而使得腔室200内有较多区域的热量能够传递至冷却介质被冷却介质所带走,从而对腔室200内的温度具有较好的降温效果(或称为控温效果)。
在一些实施例中,温度调节组件100可以包括多个温控组件120和一个环形管道110,即环形管道110上包括多个入口111和出口112,用于分别连接多个温控组件120中的入口通道121和出口通道122。具体地,环形管道110可以包括多个弧形管道,多个弧形管道依次连接形成环形管道110,即每个弧形管道均具有第一端和第二端,两个相邻的弧形管道中的其中一个弧形管道的第一端和另一个弧形管道的第二端连接。每个弧形管道的第一端和第二端的外侧面上分别开设有入口111和出口112,分别位于两个相邻的弧形管道上且相互靠近的入口111和出口112分别与同一个温控组件120中的入口通道121和出口通道122连接。
作为示例性描述,当腔室200内的温度过高时,向每个温控组件120中的入口通道121通入冷却介质,入口通道121内的冷却介质经加热机构123加热到指定温度后通过与入口通道121各自对应连接的入口111进入到入口111对应所在的弧形管道内流动,然后从相邻的弧形管道上的出口112流出,而流入同一个温控组件120中的出口通道122内,即冷却介质从某一个温控组件120中的入口通道121流入环形管道110,在流出环形管道110时便会流入该温控组件120中的出口通道122内,从而带走腔室200内的热量,达到降低腔室200内的温度的目的。通过上述设置,通过多个温控组件120中的入口通道121通入冷却介质进入到相应的弧形管道中流动,每个温控组件120中的入口通道121通入的冷却介质在对应的弧形管道中的流动路径组合在一起,可以等同于冷却介质在整个环形管道内形成的流动路径,保证腔室200内有较多区域的热量能够传递至冷却介质被冷却介质所带走,从而对腔室200内的温度具有较好的降温效果。同时,每个温控组件120中的入口通道121通入的冷却介质仅在对应的弧形管道中的流动,可以缩短冷却介质的流动路径,使得冷却介质能够快速从弧形管道中流出,保证冷却介质能够对腔室200内的温度具有较好的降温效果,避免冷却介质在环形管道110的流动时间过长,而温度越来越高,腔室200内能够传递到冷却介质的热量就越来越少,对腔室200内的温度的降温效果就越差,而导致冷却介质对腔室200内的温度的降温效果不均匀,存在局部区域降温效果不明显的问题,例如,腔室200内越靠近出口112的区域,冷却介质对腔室200内的温度的降温效果就越差。
在一些实施例中,环形管道110中的弧形管道的数量可以为两个或以上,例如,2~15个。其中,温控组件120的数量与弧形管道的数量相同。在一些实施例中,环形管道110中的弧形管道的数量可以根据实际情况来设置,例如,环形管道110的直径越大,弧形管道可以设置得越多,这样冷却介质在弧形管道内的流动路径就越短,保证冷却介质能够对腔室200内的温度具有更好的降温效果。
下面将以环形管道包括两个弧形管道为例对温度调节组件100的具体结构进行示例性描述。
图3是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置设置在刻蚀设备的腔室的外表面上的示意图。图4是根据本申请一些实施例所示的环形管道的结构示意图。图5是根据本申请一些实施例所示的温控组件的结构示意图。图6是图5示出的温控组件的主视图。图7是图5示出的温控组件的俯视图。图8是图5是示出的温控组件的右视图。
在一些实施例中,如图3所示,温度控制装置10可以包括一个温度调节组件100,温度调节组件100可以设置在腔室200的外表面上,优选地,温度调节组件100可以设置在腔室200的上表面(一般为腔室200远离安装底面的表面)上,便于安装和拆卸,也不会与刻蚀设备的其他部件有所干涉。
在一些实施例中,如图4所示,环形管道110可以包括第一弧形管道113和第二弧形管道114,第一弧形管道113的第一端1131和第二端1132分别与第二弧形管道114的第二端1142和第一端1141连接形成环形管道110,第一弧形管道113的第一端1131和第二端1132分别开设有第一入口111-1和第一出口112-1,第二弧形管道114的第二端1142和第一端1141分别开设有第二入口111-2和第二出口112-2。
对应地,温度调节组件100中的温控组件的数量为两个,分别为第一温控组件120-1和第二温控组件120-2,结合图5至图8所示,第一温控组件120-1可以包括第一入口通道和第一出口通道,第一入口通道与第一入口111-1连接,第一出口通道与第二出口112-2连接;第二温控组件120-2可以包括第二入口通道和第二出口通道,第二入口通道与第二入口111-2连接,第二出口通道与第一出口112-1连接。
作为示例性描述,当刻蚀设备的腔室(例如,腔室200)内的温度过高时,分别向第一温控组件120-1中的第一入口通道和第二温控组件120-2中的第二入口通道通入冷却介质,第一入口通道和第二入口通道内的冷却介质经加热机构(加热机构123)加热到指定温度后分别通过第一入口111-1和第二入口111-2进入到第一弧形管道113和第二弧形管道114内流动,第一弧形管道113内的冷却介质通过第二出口112-2流出进入到第一出口通道内,第二弧形管道114内的冷却介质通过第一出口112-1流出进入到第二出口通道内,第一弧形管道113内的冷却介质的流动路径和第二弧形管道114内的冷却介质的流动路径可以构成整个环形通道110内所形成的环形流动路径,如此可以增大腔室200与环形通道110的传热面积,使得冷却介质能够带走腔室200内更多的热量,从而对腔室200内的温度具有较好的降温效果。同时,将冷却介质分成在两个弧形管道(即第一弧形管道113和第二弧形管道114)内流动,可以缩短冷却介质的流动路径,避免冷却介质流动时间过长导致温度升高,腔室200内被冷却介质带走的热量就越少,而导致冷却介质对腔室200内的温度的降温效果不均匀,具体地,沿冷却介质的流动方向,冷却介质对腔室200内的温度的降温效果就会越差。需要说明的是,向第一入口通道和第二入口通道通入冷却介质的冷却介质供应装置可以是同一个冷却介质供应装置,也可以是两个相对独立的冷却介质供应装置。
在一些实施例中,第一弧形管道113的弧度和第二弧形管道114的弧度相同,这样可以使得第一弧形管道113内的冷却介质的流动路径和第二弧形管道114内的冷却介质的流动路径一样长,有利于使得冷却介质对腔室200内的温度的降温效果具有较好的均匀性。在一些实施例中,第一弧形管道113的弧度和第二弧形管道114的弧度也可以不相同。
在一些实施例中,入口通道121(例如,第一入口通道和第二入口通道)、出口通道122(例如,第一出口通道和第二出口通道)以及环形管道110的内径可以为1cm至10cm,这样可以保证冷却介质在环形管道110内的具有较快的流动速度,能够带走腔室200内较多的热量,从而对腔室200内具有较好的降温效果。
在一些实施例中,如图4-图8所示,温控组件120(例如,第一温控组件120-1和第二温控组件120-2)可以包括主体124,入口通道121(例如,第一入口通道和第二入口通道)和出口通道122(例如,第一出口通道和第二出口通道)可以为开设在主体124中的通腔结构。在一些实施例中,入口通道121(例如,第一入口通道和第二入口通道)和出口通道122(例如,第一出口通道和第二出口通道)也可以直接为管道结构,例如,入口通道121和出口通道122可以为两个相对独立的管道。
图9是根据本申请一些实施例所示的加热机构的结构示意图。
在一些实施例中,如图9所示,加热机构123可以包括两个相对设置的加热片1231。作为示例性说明,当两个加热片1231通电时,会对从两个通电的加热片1231之间通过的冷却介质进行加热,从而将冷却介质加热到指定温度。在一些实施例中,为了提高对冷却介质的加热效率,入口通道121内设置的加热机构123的数量可以是多个。
在一些实施例中,入口通道121(例如,第一入口通道和第二入口通道)内还可以设置有流速增强机构(图中未示出),例如,风扇,当冷却介质进入入口通道121内通过风速增强机构时,流速增强机构可以增加冷却介质的流动速度,从而使得冷却介质在环形管道110内流动时具有较高的流动速度,从而能够带走腔室200内的更多热量,而对腔室200内的温度具有较好的降温效果。
由于刻蚀设备工作时腔室200内与腔室200中心的距离不同的各个区域所需要的工作温度(即温度的允许范围)会有所不同,就会越高因此腔室200内与腔室200中心的距离不同的各个区域会具有不同的控温需求,例如,当腔室200内的温度过高时,距离腔室200中心越近的区域,所需要的工作温度会越高,在对该区域的温度进行调节时,需要降低较少的温度,保证该区域的温度不会过高影响产品性能也不会低于工作温度而影响产品的正常生产;而距离腔室200中心越近的区域,所需要的工作温度会越低,在对该区域的温度进行调节时,需要降低较多的温度,以充分将该区域的温度降低至允许范围内而不会影响产品性能。
为了满足腔室200内与腔室200中心的距离不同的各个区域的不同的降温需求,在一些实施例中,温度控制装置10可以包括多个温度调节组件100,多个温度调节组件100中的环形管道110同心设置在腔室200的外表面时,且多个温度调节组件100中的环形管道110的直径各不相同,通过向各个温度调节组件100的入口通道121通入冷却介质,然后由加热机构123加热到不同的温度,进入到各自的环形管道110内流动,可以对腔室200内与腔室200中心的距离不同的各个区域(即腔室200内与各个环形管道110对应的区域)具有不同的降温效果,从而能够使温度控制装置10实现分区域控温,以满足腔室200内与腔室200中心的距离不同的各个区域不同的降温需求。例如,腔室200内距离腔室200中心越远的区域,对应设置的环形管道110的直径就越大,而进入该环形管道110内流动的冷却介质的温度越低,该区域的温度就降低得越多。
图10是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置设置在刻蚀设备的腔室的外表面上的示意图。
作为示例性说明,如图10所示,温度控制装置10可以包括两个温度调节组件100,两个温度调节组件100的环形管道110同心设置在腔室200的外表面上,且具有不同的直径,两个温度调节组件100可以分别调节和控制腔室200内与两个环形管道分别对应的区域(腔室200内与腔室200中心的距离不同的两个区域)的温度,以满足腔室200内与两个环形管道分别对应的区域不同的降温需求。需要说明的是,图10中示出的温度调节组件100的数量仅作为示例,并无意对其进行限制,在一些实施例中,可以根据实际需要设置温度调节组件100的数量,例如,温度调节组件100的数量可以为2至15个,这样可以充分满足腔室200内与腔室200中心的距离不同的多个区域的不同的降温需求。
图11是采用本申请一些实施例提供的温度控制装置的刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图。其中,曲线L111为本申请实施例提供的温度控制装置(即温度控制装置10)开启时,刻蚀设备的腔室(即腔室200)内的温度随工作时间变化的曲线,曲线L112为本申请实施例提供的温度控制装置(即温度控制装置10)未开启时,刻蚀设备的腔室(即腔室200)内的温度随工作时间变化的曲线。
从图11中可以看出,当本申请实施例提供的温度控制装置开启时,即使用温度控制装置对刻蚀设备的腔室内的温度进行调节和控制时,腔室内的温度稳定在110℃左右,而本申请实施例提供的温度控制装置未开启时,即未使用温度控制装置对刻蚀设备的腔室内的温度进行调节和控制时,刻蚀设备的腔室内的温度会随着工作时间的增加持续上升,刻蚀设备在工作一段时间后,刻蚀设备的腔室内温度能够达到138℃以上,这一般超过了刻蚀设备的腔室内的温度的允许范围,从而会对腔室周边各部件的寿命以及产品性能造成消极影响。由此可以得出,本申请实施例提供的温度控制装置能够对刻蚀设备的腔室内的温度具有较好的降温效果,实现刻蚀设备工作时对腔室内的温度的稳定控制,从而能够避免刻蚀设备工作时腔室内的温度超过允许范围而影响腔室周边部件的寿命和产品性能。
本申请实施例可能带来的有益效果包括但不限于:(1)本申请实施例提供的温度控制装置能够对刻蚀设备的腔室内的温度具有较好的降温效果,保证刻蚀设备工作时腔室内的温度能够稳定在允许范围内;(2)环形管道可以分成多个弧形管道,对应多个温控组件,如此可以缩短冷却介质的流动路径,避免冷却介质流动时间过长导致温度升高,腔室内被冷却介质带走的热量就越少,而导致冷却介质对腔室内的温度的降温效果不均匀;(3)流速增强机构可以增加冷却介质的流动速度,从而使得冷却介质在环形管道内流动时具有较高的流动速度,从而能够带走腔室内的更多热量,而对腔室内的温度具有较好的降温效果;(4)通过设置多个温度调节组件,可以满足腔室内与腔室中心的距离不同的各个区域的不同的降温需求。
需要说明的是,不同实施例可能产生的有益效果不同,在不同的实施例里,可能产生的有益效果可以是以上任意一种或几种的组合,也可以是其他任何可能获得的有益效果。
上文已对基本概念做了描述,显然,对于本领域技术人员来说,上述详细披露仅仅作为示例,而并不构成对本说明书的限定。虽然此处并没有明确说明,本领域技术人员可能会对本申请进行各种修改、改进和修正。该类修改、改进和修正在本说明书中被建议,所以该类修改、改进、修正仍属于本申请示范实施例的精神和范围。
需要说明的是,在本申请的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是转动连接,也可以是滑动连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以结合具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
另外,当本申请说明书中使用了“第一”、“第二”、“第三”等术语描述各种特征时,这些术语仅用于对这些特征进行区分,而不能理解为指示或暗示特征之间的关联性、相对重要性或者隐含指明所指示的特征数量。
除此之外,本申请说明书通过参考理想化的示例性截面图和/或平面图和/或立体图来描述示例性实施例。因此,由于例如制造技术和/或容差导致的与图示的形状的不同是可预见的。因此,不应当将示例性实施例解释为限于在此所示出的区域的形状,而是应当包括由例如制造所导致的形状中的偏差。因此,在图中示出的区域实质上是示意性的,其形状不是为了示出器件的区域的实际形状也不是为了限制示例性实施例的范围。
同时,本申请使用了特定词语来描述本说明书的实施例。如“一个实施例”、“一实施例”、和/或“一些实施例”意指与本申请至少一个实施例相关的某一特征、结构或特点。因此,应强调并注意的是,本申请中在不同位置两次或多次提及的“一实施例”或“一个实施例”或“一个替代性实施例”并不一定是指同一实施例。此外,本申请的一个或多个实施例中的某些特征、结构或特点可以进行适当的组合。
同理,应当注意的是,为了简化本申请披露的表述,从而帮助对一个或多个发明实施例的理解,前文对本申请实施例的描述中,有时会将多种特征归并至一个实施例、附图或对其的描述中。但是,这种披露方法并不意味着本申请对象所需要的特征比权利要求中提及的特征多。实际上,实施例的特征要少于上述披露的单个实施例的全部特征。
最后,应当理解的是,本申请中所述实施例仅用以说明本申请实施例的原则。其他的变形也可能属于本申请的范围。因此,作为示例而非限制,本申请实施例的替代配置可视为与本申请的教导一致。相应地,本申请的实施例不仅限于本申请明确介绍和描述的实施例。

Claims (10)

1.一种温度控制装置,用于控制刻蚀设备的腔室内的温度,其特征在于,包括至少一个温度调节组件,所述温度调节组件包括:
环形管道,所述环形管道设置在所述刻蚀设备的腔室的外表面上,所述环形管道上开设有入口和出口;
至少一个温控组件,所述温控组件包括入口通道和出口通道,所述入口通道与所述入口连接,所述出口通道与所述出口连接;其中,所述入口通道用于通入冷却介质,所述入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构。
2.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述环形管道包括第一弧形管道和第二弧形管道,所述第一弧形管道的第一端和第二端分别与所述第二弧形管道的第一端和第二端连接形成所述环形管道;所述至少一个温控组件包括第一温控组件和第二温控组件;其中,
所述第一弧形管道的第一端和第二端的外侧面上分别开设有第一入口和第一出口;
所述第二弧形管道的第二端和第一端的外侧面上分别开设有第二入口和第二出口;
所述第一温控组件包括第一入口通道和第一出口通道,所述第一入口通道与所述第一入口连接,所述第一出口通道与所述第二出口连接;
所述第二温控组件包括第二入口通道和第二出口通道,所述第二入口通道与所述第二入口连接,所述第二出口通道与所述第一出口连接。
3.根据权利要求2所述的温度控制装置,其特征在于,所述第一弧形管道的弧度和所述第二弧形管道的弧度相同。
4.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述温度控制装置包括多个温度调节组件,所述多个温度调节组件中的环形管道同心设置在所述腔室的外表面上,且所述多个温度调节组件中的环形管道的直径各不相同。
5.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述加热机构包括两个相对设置的加热片。
6.根据权利要求5所述的温度控制装置,其特征在于,所述入口通道内还设置流速增强机构,所述流速增强机构位于所述两个相对设置的加热片之间。
7.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述入口通道、所述出口通道以及所述环形管道的内径为1cm至10cm。
8.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述温控组件包括主体,所述入口通道和所述出口通道为开设在所述主体中的通腔结构。
9.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述入口通道和所述出口通道为管道结构。
10.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,还包括:
温度监测装置,所述温度监测装置用于监测所述刻蚀设备腔室内的温度;
冷却介质供应装置,用于向所述入口通道通入冷却介质;
当所述温度监测装置监测到所述刻蚀设备的腔室内的温度超过预设温度时,所述冷却介质供应装置向所述入口通道通入冷却介质,所述加热机构能够将所述冷却介质加热到指定温度。
CN202321230797.5U 2023-05-19 2023-05-19 一种温度控制装置 Active CN219695660U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202321230797.5U CN219695660U (zh) 2023-05-19 2023-05-19 一种温度控制装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202321230797.5U CN219695660U (zh) 2023-05-19 2023-05-19 一种温度控制装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN219695660U true CN219695660U (zh) 2023-09-15

Family

ID=87969545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202321230797.5U Active CN219695660U (zh) 2023-05-19 2023-05-19 一种温度控制装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN219695660U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11996304B2 (en) Substrate processing device
US6433314B1 (en) Direct temperature control for a component of a substrate processing chamber
EP1070336A1 (en) Direct temperature control for a component of a substrate processing chamber
TW201413040A (zh) 多區石英氣體分配設備
CN112013674A (zh) 立式炉设备
CN219695660U (zh) 一种温度控制装置
CN211626062U (zh) 一种辊道窑
WO2019119757A1 (zh) 一种质量流量控制器
CN103160806B (zh) 进气系统、腔室装置和基片处理设备
CN104928651A (zh) 一种温流室出气的可控温加热盘
CN111089478A (zh) 一种辊道窑
CN115101444B (zh) 承载装置及半导体工艺设备
CN114277359B (zh) 进气管道、化学气相沉积炉及向其通入前驱体的方法
CN115547804A (zh) 大尺寸icp供气模组与icp设备
CN220895451U (zh) 温度控制系统
CN102747420A (zh) 用于多晶铸锭炉的热交换台及其通气管径变化方法
CN113310309A (zh) 立式炉及立式炉的炉体温度控制方法
US20070289535A1 (en) Substrate Surface Treating Apparatus
CN212426165U (zh) 基座温控系统及半导体设备
CN217463435U (zh) 程控阀系统
CN220420531U (zh) 冷却系统和碳化硅高温热处理设备
CN116288695A (zh) 一种用于外延设备的温场调节装置及系统
CN218202528U (zh) 马弗炉及玻璃生产系统
CN114686855B (zh) 喷嘴装置及成膜设备
CN115494889B (zh) 一种波纹管挤出机挤出温度控制系统及方法

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant