CN219677210U - 静电吸盘 - Google Patents
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 45
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 83
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 21
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 7
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 7
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 claims description 4
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical compound FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 8
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- RRZIJNVZMJUGTK-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(1,2,2-trifluoroethenoxy)ethene Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)=C(F)F RRZIJNVZMJUGTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(trifluoromethoxy)ethene Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)F BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本实用新型提供一种静电吸盘,包括:基底、加热层、陶瓷层、第一粘合层、第二粘合层、内密封圈和外密封圈,本申请通过利用内密封圈环绕包裹住第一粘合层、加热层、第二粘合层的侧面,再利用外密封圈环绕包裹住内密封圈,其中,所述内密封圈和外密封圈均是可直接从加热层侧拆卸下来,日常PM维护即可定期更换,降低了维护成本。进一步的,包裹性强的内密封圈至少可以和加热层、第一粘合层、第二粘合层的侧面完全贴合,外密封圈可以对内密封圈产生较大的束紧力,从而达到对ESC侧边的双重保护,避免了第一粘合层和第二粘合层受到化学气体和离子体侵蚀而产生裂纹的情况,提高了静电吸盘的使用寿命。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造设备技术领域,特别涉及一种静电吸盘。
背景技术
在半导体工艺中,如何保障机台运行过程中,各部件正常稳定的工作,是生产过程中不可忽略的重点。
由于晶圆(wafer)的尺寸要大于静电吸盘(ESC)的尺寸,在晶圆经等离子体的轰击后,产生的颗粒溅落在ESC的边缘以及侧壁,由于ESC是由铝基座通过粘合剂将陶瓷表面键合在其表面构成的,所以ESC侧壁的粘合剂物质会受到化学气体和离子体侵蚀而产生裂纹,导致ESC侧边出现内漏,对静电吸盘的内部造成污染,影响静电吸盘的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种静电吸盘,以解决ESC侧边出现内漏,对静电吸盘的内部造成污染的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种静电吸盘,包括:基底、加热层、陶瓷层、第一粘合层、第二粘合层、内密封圈和外密封圈,其中,
通过所述第一粘合层,所述加热层键合在所述基底上;通过所述第二粘合层,所述陶瓷层键合在加热层上;
所述内密封圈至少环绕包裹住所述加热层的侧面、所述第一粘合层的侧面和所述第二粘合层的侧面,所述外密封圈环绕包裹住所述内密封圈。
可选的,在所述静电吸盘中,所述内密封圈的材质为全氟醚橡胶。
可选的,在所述静电吸盘中,所述内密封圈的厚度为1mm~8mm。
可选的,在所述静电吸盘中,所述内密封圈的宽度大于或者等于所述加热层、所述第一粘合层和所述第二粘合层的总厚度。
可选的,在所述静电吸盘中,所述外密封圈的材质为特氟龙。
可选的,在所述静电吸盘中,所述外密封圈的厚度为1mm~8mm。
可选的,在所述静电吸盘中,所述外密封圈的宽度大于或者等于所述内密封圈的宽度。
可选的,在所述静电吸盘中,所述静电吸盘还包括:多个呈环形排布的通孔,所述通孔贯穿所述基底、所述第一粘合层至所述加热层中。
可选的,在所述静电吸盘中,所述静电吸盘还包括:多个顶针,所述顶针设于所述基底中并且贯穿所述第一粘合层、所述加热层、所述第二粘合层和所述陶瓷层。
本申请技术方案,至少包括如下优点:
本申请通过利用所述内密封圈至少环绕包裹住第一粘合层、加热层、第二粘合层的侧面,再利用所述外密封圈环绕包裹住所述内密封圈,其中,所述内密封圈和外密封圈均是可直接从加热层侧拆卸下来,日常PM维护即可定期更换,降低了维护成本。
进一步的,包裹性强的所述内密封圈至少可以和加热层、第一粘合层、第二粘合层的侧面完全贴合,外密封圈可以对内密封圈产生较大的束紧力,从而达到对ESC侧边的双重保护,避免了第一粘合层和第二粘合层受到化学气体和离子体侵蚀而产生裂纹的情况,从而避免了ESC侧边出现内漏,对静电吸盘的内部造成污染的情况,有效抵抗ESC日常工作所受的化学气体和离子体侵蚀,提高了静电吸盘的使用寿命。
附图说明
图1是本实用新型实施例的静电吸盘的结构示意图;
图2是本实用新型实施例的不包括内密封圈和外密封圈的静电吸盘的结构示意图;
图3是本实用新型实施例的内密封圈的结构示意图;
图4是本实用新型实施例的外密封圈的结构示意图;
其中,附图标记说明如下:
11-基底,12-第一粘合层,13-加热层,14-第二粘合层,15-陶瓷层,16-内密封圈,17-外密封圈,18-顶针,19-通孔,20-环形凹槽。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的静电吸盘作进一步详细说明。根据下面说明,本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。此外,附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的,各附图需要展示的侧重点不同,有时会采用不同的比例。
本申请实施例提供一种静电吸盘,参考图1-图4,图1是本实用新型实施例的静电吸盘的结构示意图,图2是本实用新型实施例的不包括内密封圈和外密封圈的静电吸盘的结构示意图,图3是本实用新型实施例的内密封圈的结构示意图,图4是本实用新型实施例的外密封圈的结构示意图。
其中,所述静电吸盘包括:基底11、加热层13、陶瓷层15、第一粘合层12、第二粘合层14、内密封圈16和外密封圈17,通过所述第一粘合层12,所述加热层13键合在所述基底11上;通过所述第二粘合层14,所述陶瓷层15键合在加热层13上。
进一步的,所述基底11和所述陶瓷层15的侧面比所述加热层13的侧面、所述第一粘合层12的侧面和所述第二粘合层14的侧面凸出,如图2所示,从而在所述加热层13的侧面、所述第一粘合层12的侧面和所述第二粘合层14的侧面位置构成了一圈环形凹槽20。
在本实施例中,所述基底11为铝基底。所述基底11的上半部分呈棱台状,所述基底11的上半部分的侧壁为倾斜面。
进一步的,所述内密封圈16设于所述环形凹槽20内,所述内密封圈16至少环绕包裹住所述加热层13的侧面、所述第一粘合层12的侧面和所述第二粘合层14的侧面;所述外密封圈17也设于所述环形凹槽20内,并且所述外密封圈17环绕包裹住所述内密封圈16。
在本实施例中,如图1所示,所述内密封圈16不仅环绕包裹住所述加热层13的侧面、所述第一粘合层12的侧面和所述第二粘合层14的侧面,还环绕包裹住所述基底11的顶端侧壁。
优选的,所述内密封圈16的材质为全氟醚橡胶,全氟醚橡胶是指全氟(甲基乙烯基)醚、四氟乙烯和全氟烯醚的三元共聚物,全氟的内密封圈16弹性较好,包裹性强,能很好地贴合ESC侧面,如图1所示,所述内密封圈16与基底11顶端贴合的内侧面的剖视图呈倒置的梯形。进一步的,全氟材质的内密封圈16耐腐蚀性强。全氟材质的内密封圈16至少环绕包裹住所述加热层13的侧面、所述第一粘合层12的侧面和所述第二粘合层14的侧面,可以有效抵抗ESC日常工作所受的化学气体和离子体侵蚀。
较佳的,如图3所示,所述内密封圈16呈扁状的环形。
优选的,所述内密封圈16的厚度为1mm~8mm,例如2mm,3mm等。
进一步的,所述内密封圈16的宽度(高度)大于或者等于所述加热层13、所述第一粘合层12和所述第二粘合层13的总厚度。
优选的,所述外密封圈17的材质为特氟龙。特氟龙(Teflon)材质的外密封圈17具有抗腐蚀性,耐高温,不黏性,耐磨性,抗湿性能。特氟龙(Teflon)材质的外密封圈17环绕包裹住所述内密封圈16,可以对内密封圈16产生较大的束紧力,既可以防止内密封圈16意外滑落,也可以进一步保护ESC侧面的第一粘合层12和第二粘合层14,进一步有效抵抗ESC日常工作所受的化学气体和离子体侵蚀。
较佳的,如图4所示,所述外密封圈17呈扁状的环形。
优选的,所述外密封圈17的厚度为1mm~8mm,例如2mm,3mm等。
优选的,所述外密封圈17的宽度(高度)大于或者等于所述内密封圈16的宽度(高度)。
进一步的,所述静电吸盘还包括:多个呈环形排布的通孔19,所述通孔19贯穿所述基底11、所述第一粘合层12至所述加热层13中。所述通孔19可以通入用于给所述加热层13降温的气体或者液体。所述通孔19设置在环绕所述加热层13边缘设置。
进一步的,所述静电吸盘还包括:多个顶针18,所述顶针18设于所述基底11中并且贯穿所述第一粘合层12、所述加热层13、所述第二粘合层14和所述陶瓷层15,所述顶针18不工作时收于静电吸盘内部,工作时可以从所述陶瓷层15表面顶出以顶起所述陶瓷层15表面放置的晶圆。
在本申请中,通过利用所述内密封圈16至少环绕包裹住第一粘合层12、加热层13、第二粘合层14的侧面,再利用所述外密封圈17环绕包裹住所述内密封圈16,其中,所述内密封圈16和外密封圈17均是可直接从加热层侧拆卸下来,日常PM维护即可定期更换,降低了维护成本。进一步的,包裹性强的所述内密封圈16至少可以和加热层13、第一粘合层12、第二粘合层14的侧面完全贴合,外密封圈17可以对内密封圈16产生较大的束紧力,从而达到对ESC侧边的双重保护,避免了第一粘合层12和第二粘合层14受到化学气体和离子体侵蚀而产生裂纹的情况,从而避免了ESC侧边出现内漏,对静电吸盘的内部造成污染的情况,有效抵抗ESC日常工作所受的化学气体和离子体侵蚀,提高了静电吸盘的使用寿命。
上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述,并非对本实用新型范围的任何限定,本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰,均属于权利要求书的保护范围。
Claims (9)
1.一种静电吸盘,其特征在于,包括:基底、加热层、陶瓷层、第一粘合层、第二粘合层、内密封圈和外密封圈,其中,
通过所述第一粘合层,所述加热层键合在所述基底上;通过所述第二粘合层,所述陶瓷层键合在加热层上;
所述内密封圈至少环绕包裹住所述加热层的侧面、所述第一粘合层的侧面和所述第二粘合层的侧面,所述外密封圈环绕包裹住所述内密封圈。
2.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述内密封圈的材质为全氟醚橡胶。
3.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述内密封圈的厚度为1mm~8mm。
4.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述内密封圈的宽度大于或者等于所述加热层、所述第一粘合层和所述第二粘合层的总厚度。
5.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述外密封圈的材质为特氟龙。
6.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述外密封圈的厚度为1mm~8mm。
7.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述外密封圈的宽度大于或者等于所述内密封圈的宽度。
8.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述静电吸盘还包括:多个呈环形排布的通孔,所述通孔贯穿所述基底、所述第一粘合层至所述加热层中。
9.根据权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于,所述静电吸盘还包括:多个顶针,所述顶针设于所述基底中并且贯穿所述第一粘合层、所述加热层、所述第二粘合层和所述陶瓷层。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320270704.5U CN219677210U (zh) | 2023-02-20 | 2023-02-20 | 静电吸盘 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320270704.5U CN219677210U (zh) | 2023-02-20 | 2023-02-20 | 静电吸盘 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN219677210U true CN219677210U (zh) | 2023-09-12 |
Family
ID=87899066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202320270704.5U Active CN219677210U (zh) | 2023-02-20 | 2023-02-20 | 静电吸盘 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN219677210U (zh) |
-
2023
- 2023-02-20 CN CN202320270704.5U patent/CN219677210U/zh active Active
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GR01 | Patent grant | ||
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