CN219591351U - 湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，它包括上壳体、底槽，所述底槽内设计有竖直向上的隔环，所述底槽中间设计有向上凸起的安装平台，所述安装平台中间装配有放置台，所述放置台外部同轴装配有分流罩；所述分流罩包括内罩、外罩，所述内罩与安装平台固定装配，所述外罩卡于所述内罩上部；所述的上部加工有两个以上的定位槽，所述外罩下部设计有放入隔环上部定位槽的定位柱，所述外罩的上部通过凸块固定装配有提拉件。本结构主要用在晶圆片湿制程设备中，该结构分流罩中外罩下部的定位柱直接放置在所述隔环的定位槽内，不需要专门固定，通过外罩上部提拉件可向上提起，这样外罩的拿起和放置都非常的方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶圆片湿制程加工设备技术领域，具体涉及湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构。
背景技术
在晶圆片湿制程需要对晶圆片的表面喷洒化学药液和清洁液，为了使得喷淋药液和清洗液分离排放，需要在设备中设计专门的流道，如授权公告号为CN 217615430 U公开的一种具有抽气功能的分流装置，该装置需要通过分流遮罩结构来对喷淋的药液进行导流，同时对下部的壳座进行遮挡，防止药液和清洁液直接流入到壳座内。而在这类晶圆片的湿制程设备中，需要经常清洗，而在清洗时就需要将所述分流遮罩拆下，而传统的分流遮罩结构采用螺丝固定，拆卸不够方便。另外传统结构采用下部抽气结构，使得喷淋时药液产生的雾气容易落到所述晶圆片表面最后形成水渍。
实用新型内容
针对以上问题，本实用新型提供一种方便将罩壳直接取下湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：该湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构包括上下密封装配的上壳体、底槽，所述底槽内设计有竖直向上的隔环，所述底槽中间设计有向上凸起的安装平台，所述安装平台中间加工有竖直贯通的装配孔，所述装配孔内装配有上部用来放置待加工晶圆片的放置台，所述放置台下部为圆柱形状，所述放置台柱体外部同轴装配有分流罩；所述分流罩包括内罩、外罩，所述内罩与安装平台固定装配，所述外罩卡于所述内罩上部；所述隔环的上部加工有两个以上的定位槽，所述外罩下部设计有放入定位槽位置的向下伸出的定位柱，所述外罩的上部设计有两个以上沿轴线均布的凸块，所述凸块上固定装配有提拉件。
作为优选，所述上壳体内部通过管路装配有对晶圆片进行喷淋的喷头。
作为优选，所述上壳体的上部装配有向下吹入洁净空气的抽气模块，所述上壳体的后部加工有抽气孔，所述抽气孔与外部的抽气管路相连。
作为优选，所述外罩外部包裹有环形的挡水隔圈，所述挡水隔圈通过连接板与升降柱相连，所述升降柱向下伸出所述上壳体底板与外气缸伸缩端相连。
作为优选，所述放置台下部连接有内气缸，所述放置台的柱体外壁与所述内罩之间滑动密封装配。
作为优选，所述隔环的内外分为两个独立的液槽，每个液槽下部分别设计有出液口。
作为优选，所述放置台内部设计有抽气结构，所述放置台上部设计有抽气的孔槽。
作为优选，所述内罩的中间设计有向上的环壁，所述环壁的内侧加工有两条O型槽，所述O型槽内通过O型圈与放置台的外壁滑动装配。
作为优选，所述内罩外边沿加工有阶梯槽，所述外罩内边沿放置在所述阶梯槽内，所述外罩内边沿高度低于外罩的阶梯槽上边沿。
本实用新型的有益效果在于：本湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构主要用在晶圆片加工的湿制程设备中，该设备分流罩中的内罩固定在底槽的安装平台上部，内罩外圈的外罩采用直接放置结构安装，外罩下部的定位柱直接放置在所述隔环的定位槽内，通过定位槽进行限位，不需要进行专门的固定，当需要将所述外罩拿开，对下部的底槽进行清洗时，通过外罩上部装配的提拉件将外罩直接向上提起即可，这样的结构拿起和放置都非常的方便，使得整个设备的清洗速度更快。
附图说明
图1是湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构正向剖面的结构示意图。
图2是图1中A-A向的结构示意图。
图3是图1中P部分放大的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型进一步说明：
在本专利中，所使用的方向性词语，其关系均为基于附图1所示图形的方位或位置关系，仅是为了简化描述本申请，而不是指示装置或元件必须具有的特定方位，因此不能理解为对本申请的限制。
在本实施例中，如图1和图2所示，湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，它包括上下密封装配的上壳体1、底槽2，所述上壳体1与所述底槽2之间设计有用来对晶圆片进行喷淋的工作腔。在该腔体内设计有喷淋头，上述结构与传统结构相同，在此不做详细叙述。所述底槽2内设计有竖直向上的隔环21，所述底槽2中间设计有向上凸起的安装平台22，所述安装平台22中间加工有竖直贯通的装配孔，所述装配孔内装配有上部用来放置待加工晶圆片的放置台3，所述放置台3下部为圆柱形状，所述放置台3柱体外部同轴装配有分流罩4。所述分流罩4包括内罩41、外罩42，所述内罩41与安装平台22固定装配，所述外罩42卡于所述内罩41上部。本实施例的改进结构在于，所述隔环21的上部加工有两个以上的定位槽23，所述外罩42下部设计有放入定位槽23位置的向下伸出的定位柱43，所述外罩42的上部设计有两个以上沿轴线均布的凸块44，所述凸块44上固定装配有提拉件5，所述提拉件5可以是圆环或者其它容易被勾住或者连接的结构。。
本湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构主要用在晶圆片加工的湿制程设备中，主要是用在需要喷淋加工的清洗机、蚀刻机、显影机等。在本实施例设备的分流罩4中，所述内罩固定在底槽2的安装平台22上部，内罩41外圈的外罩42采用直接放置结构安装，外罩42下部的定位柱43直接放置在所述隔环21的定位槽23内，通过定位槽23进行限位，不需要进行专门的固定。同时所述定位柱43还可以起到对外罩的支撑作用。在本实施例设备中所述隔环21的定位槽23个数3-5个最好。该设备当需要将所述外罩42拿开，对下部的底槽2进行清洗时，通过外罩42上部装配的提拉件5将外罩直接向上提起即可，这样的结构拿起和放置都非常的方便，使得整个设备的清洗速度更快。
在具体设计时，如图1和图2所示，所述上壳体1内部通过管路装配有对晶圆片进行喷淋的喷头6。所述喷头6用来对晶圆片进行喷淋加工。所述上壳体1的上部装配有向下吹入洁净空气的抽气模块6，所述上壳体1的后部加工有抽气孔11，所述抽气孔11与外部的抽气管路相连。在该实施例中，当对晶圆片进行喷淋时容易产生雾气，这样在通过后部的抽气孔11进行抽气，使得喷淋产生的雾气直接从后部被抽走，这样就不需要气流从下部通道被抽取，使得下路设计结构更加的简洁方便，同时从所述上壳体1的后部抽取气体，可以避免雾气从晶圆片表面通过，使得晶圆片的表面不会因为雾气产生残留水渍。保证晶圆片的洁净。
在具体设计时，如图1和图2所示，所述外罩42外部包裹有环形的挡水隔圈7，所述挡水隔圈7通过连接板71与升降柱72相连，所述升降柱72向下伸出所述上壳体1底板与外气缸73伸缩端相连。所述挡水隔圈7通过所述外气缸73控制，具有高位和低位两个不同位置，当该设备进行晶圆片喷淋时，所述挡水隔圈7位于高位，这时挡水隔圈7可以阻挡喷淋时迸溅的液体，并通过壁面流入下部的底槽2中。而当设备需要放入晶圆片或者喷淋完成需要取出晶圆片时，所述挡水隔圈7位于较低位置，这时方便人们取放晶圆片。
如图1和图2所示，所述放置台3下部连接有内气缸31，所述放置台3的柱体外壁与所述内罩41之间滑动密封装配。所述内气缸31用来控制所述放置台3的升降，当设备进行喷淋工作时所述内气缸31控制所述放置台3位于低位，当所述设备取料或者放料时，所述放置台3位于高位。所述隔环21的内外分为两个独立的液槽，每个液槽下部分别设计有出液口。这样当设备用来喷淋和清洗时如果需要不同的药液，可以将分别从两个独立的液槽流出，该部分结构可以参照传统结构，在此不做详细叙述。
在具体设计时，所述放置台3内部可以设计抽气结构，所述放置台3上部设计有抽气的孔槽。这样所述放置台3上部就可以方便的对晶圆片进行吸附，防止在喷淋操作是晶圆片运动。另外如图1和图2所示，在本实施例中，所述内罩41的中间设计有向上的环壁45，所述环壁45的内侧加工有两条O型槽，所述O型槽内通过O型圈与放置台的外壁滑动装配。较高的环壁45以及O型圈安装结构使得所述放置台3的外壁面可以上下滑动密封移动，保证了放置台3上下移动时设备内腔与外部的隔离。
在具体设计时，如图1和图3所示，所述内罩41外边沿加工有阶梯槽411，所述外罩42内边沿放置在所述阶梯槽411内，所述外罩42内边沿高度低于外罩41的阶梯槽411上边沿。所述内罩41和外罩42的上部平面构成伞型的平面，便于液体的下流，所述阶梯槽411的设计，使得外罩42内边沿可以方便的直接放置在阶梯槽411内，无需螺丝等紧固结构，同时内罩41的阶梯槽411对外罩42的内边沿起到支撑作用。所述外罩42内边沿高度低于外罩41的阶梯槽411上边沿，使得喷淋时的液体可以方便的流下。
以上实施例仅为本实用新型的较佳方式，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，它包括上下密封装配的上壳体(1)、底槽(2)，所述底槽(2)内设计有竖直向上的隔环(21)，所述底槽(2)中间设计有向上凸起的安装平台(22)，所述安装平台(22)中间加工有竖直贯通的装配孔，所述装配孔内装配有上部用来放置待加工晶圆片的放置台(3)，所述放置台(3)下部为圆柱形状，所述放置台(3)柱体外部同轴装配有分流罩(4)；所述分流罩(4)包括内罩(41)、外罩(42)，所述内罩(41)与安装平台(22)固定装配，所述外罩(42)卡于所述内罩(41)上部；其特征在于：所述隔环(21)的上部加工有两个以上的定位槽(23)，所述外罩(42)下部设计有放入定位槽(23)位置的向下伸出的定位柱(43)，所述外罩(42)的上部设计有两个以上沿轴线均布的凸块(44)，所述凸块(44)上固定装配有提拉件(5)。
2.根据权利要求1所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述上壳体(1)内部通过管路装配有对晶圆片进行喷淋的喷头(6)。
3.根据权利要求2所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述上壳体(1)的上部装配有向下吹入洁净空气的抽气模块(11)，所述上壳体(1)的后部加工有抽气孔(12)，所述抽气孔(12)与外部的抽气管路相连。
4.根据权利要求1-3中任一条所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述外罩(42)外部包裹有环形的挡水隔圈(7)，所述挡水隔圈(7)通过连接板(71)与升降柱(72)相连，所述升降柱(72)向下伸出所述上壳体(1)底板与外气缸(73)伸缩端相连。
5.根据权利要求1-3中任一条所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述放置台(3)下部连接有内气缸(31)，所述放置台(3)的柱体外壁与所述内罩(41)之间滑动密封装配。
6.根据权利要求1-3中任一条所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述隔环(21)的内外分为两个独立的液槽，每个液槽下部分别设计有出液口。
7.根据权利要求1-3中任一条所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述放置台(3)内部设计有抽气结构，所述放置台(3)上部设计有抽气的孔槽。
8.根据权利要求1-3中任一条所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述内罩(41)的中间设计有向上的环壁(45)，所述环壁(45)的内侧加工有两条O型槽，所述O型槽内通过O型圈与放置台的外壁滑动装配。
9.根据权利要求1-3中任一条所述的湿制程晶圆加工易拆卸罩壳结构，其特征在于：所述内罩(41)外边沿加工有阶梯槽(411)，所述外罩(42)内边沿放置在所述阶梯槽(411)内，所述外罩(42)内边沿高度低于内罩(41)的阶梯槽(411)上边沿。
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