CN219503335U - 一种匀胶槽cup的清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及LED芯片技术领域，具体涉及一种匀胶槽CUP的清洗装置，所述机架上设有清洗槽，所述清洗槽的槽底设有缓震垫片，所述推板立设在清洗槽内，所述推板的表面通过第一伸缩杆连接清洗槽的内壁；所述第二伸缩杆竖直且自转连接机架，所述第二伸缩杆设置在清洗槽中，所述第一电机传动连接第二伸缩杆，所述第二伸缩杆下端设有夹爪。本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置在清洗匀胶槽cup时避免了工作人员过多接触丙酮溶液，并且使匀胶槽cup能被清洗得更洁净。
Description
技术领域
本实用新型涉及LED芯片技术领域，具体涉及一种匀胶槽CUP的清洗装置。
背景技术
光刻工艺是LED芯片的制程中的一种常见工艺。在光刻工艺中的涂抹光刻胶工序会使用到匀胶槽cup，所述匀胶槽cup是一种光刻胶的容器。所述匀胶槽cup在多次使用后需要清洗，但清洗匀胶槽cup的光刻胶需要使用到丙酮溶液，丙酮溶液是一种刺激性气味的气体，工作人员长期接触丙酮溶液将对其身体健康产生影响。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种匀胶槽CUP的清洗装置，使工作人员在清洗匀胶槽cup时，减少接触丙酮溶液。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的一种技术方案为：一种匀胶槽CUP的清洗装置，包括机架、推板、第一伸缩杆、第二伸缩杆和第一电机；
所述机架上设有清洗槽，所述清洗槽的槽底设有缓震垫片，所述推板立设在清洗槽内，所述推板的表面通过第一伸缩杆连接清洗槽的内壁；
所述第二伸缩杆竖直且自转连接机架，所述第二伸缩杆设置在清洗槽中，所述第一电机传动连接第二伸缩杆，所述第二伸缩杆下端设有夹爪。
进一步地，还包括清洗液储罐和回收罐，所述清洗液储罐连通清洗槽，所述回收罐通过管道连通清洗槽的槽底。
进一步地，还包括竖直移动机构，所述第二伸缩杆通过竖直移动机构连接机架，所述竖直移动机构包括第二电机和自转轴；
所述第二电机的输出轴水平设置且第二电机设置在机架上，所述自转轴水平且自转连接在第二电机的输出轴端面的周缘上，所述第二伸缩杆设置在自转轴上。
进一步地，还包括两个盖板，所述盖板边沿铰接于清洗槽内壁，所述盖板远离清洗槽内壁的一侧边沿设有容纳第二伸缩杆的缺口。
进一步地，还包括清水储罐，所述清水储罐连通清洗槽。
进一步地，所述清洗槽一侧的机架上设有烘干机构。
本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置中，工作人员将匀胶槽cup投入清洗槽中，所述清洗槽槽底的缓震垫片避免了匀胶槽cup损坏。
在匀胶槽cup处于清洗槽槽底后，所述推板在第一伸缩杆的驱动下，推动匀胶槽cup移动到规定位置，使后续夹爪下移后恰好能夹取匀胶槽cup。具体的，夹爪使通过第二伸缩杆的伸长而下移，所述夹爪在夹取匀胶槽cup后使其悬在清洗槽槽底上，工作人员向清洗槽中注入丙酮溶液，所述第一电机启动带动第二伸缩杆进而带动匀胶槽cup在丙酮溶液中旋转，使匀胶槽cup能被清洗干净。
故本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置在清洗匀胶槽cup时避免了工作人员过多接触丙酮溶液，并且使匀胶槽cup能被清洗得更洁净。
附图说明
图1为本实用新型具体实施方式的一种匀胶槽CUP的清洗装置的整体结构示意图；
图2为本实用新型具体实施方式的一种匀胶槽CUP的清洗装置的整体结构示意图；
标号说明：
1、机架；11、清洗槽；
2、第二伸缩杆；3、第一电机；4、夹爪；5、第二电机。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1-2，一种匀胶槽CUP的清洗装置，包括机架1、推板、第一伸缩杆、第二伸缩杆2和第一电机3；
所述机架1上设有清洗槽11，所述清洗槽11的槽底设有缓震垫片，所述推板立设在清洗槽11内，所述推板的表面通过第一伸缩杆连接清洗槽11的内壁；
所述第二伸缩杆2竖直且自转连接机架1，所述第二伸缩杆2设置在清洗槽11中，所述第一电机3传动连接第二伸缩杆2，所述第二伸缩杆2下端设有夹爪4。
由上描述可知，本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置中，工作人员将匀胶槽cup投入清洗槽11中，所述清洗槽11槽底的缓震垫片避免了匀胶槽cup损坏。
在匀胶槽cup处于清洗槽11槽底后，所述推板在第一伸缩杆的驱动下，推动匀胶槽cup移动到规定位置，使后续夹爪4下移后恰好能夹取匀胶槽cup。具体的，夹爪4使通过第二伸缩杆2的伸长而下移，所述夹爪4在夹取匀胶槽cup后使其悬在清洗槽11槽底上，工作人员向清洗槽11中注入丙酮溶液，所述第一电机3启动带动第二伸缩杆2进而带动匀胶槽cup在丙酮溶液中旋转，使匀胶槽cup能被清洗干净。
故本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置在清洗匀胶槽cup时避免了工作人员过多接触丙酮溶液，并且使匀胶槽cup能被清洗得更洁净。
进一步地，还包括清洗液储罐和回收罐，所述清洗液储罐连通清洗槽11，所述回收罐通过管道连通清洗槽11的槽底。
由上描述可知，所述清洗液储罐和回收罐能自动的对清洗槽11注入丙酮溶液和排出丙酮溶液，避免了工作人员接触丙酮溶液。
进一步地，还包括竖直移动机构，所述第二伸缩杆2通过竖直移动机构连接机架1，所述竖直移动机构包括第二电机5和自转轴；
所述第二电机5的输出轴水平设置且第二电机5设置在机架1上，所述自转轴水平且自转连接在第二电机5的输出轴端面的周缘上，所述第二伸缩杆2设置在自转轴上。
由上描述可知，所述竖直移动机构运行时带动第二伸缩杆2不间断的上下移动，进而带动匀胶槽cup上下移动，匀胶槽cup即旋转又上下移动，使匀胶槽cup能被更彻底的清洗。
进一步地，还包括两个盖板，所述盖板边沿铰接于清洗槽11内壁，所述盖板远离清洗槽11内壁的一侧边沿设有容纳第二伸缩杆2的缺口。
由上描述可知，所述盖板可遮挡清洗槽11的开口，避免丙酮溶液挥发到周围环境中。
进一步地，还包括清水储罐，所述清水储罐连通清洗槽11。
由上描述可知，所述清水储罐中的清水可以用于清洗匀胶槽cup上的丙酮溶液残留。
进一步地，所述清洗槽11一侧的机架1上设有烘干机构。
由上描述可知，所述烘干机构用于烘干清洗后的匀胶槽cup。
本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置的应用背景为：当匀胶槽cup上的光刻胶需要用到丙酮溶液清洗时。
实施例一
请参照图1-2，一种匀胶槽CUP的清洗装置，包括机架1、推板、第一伸缩杆、第二伸缩杆2和第一电机3；
所述机架1上设有清洗槽11，所述清洗槽11的槽底设有缓震垫片，所述推板立设在清洗槽11内，所述推板的表面通过第一伸缩杆连接清洗槽11的内壁；
所述第二伸缩杆2竖直且自转连接机架1，所述第二伸缩杆2设置在清洗槽11中，所述第一电机3传动连接第二伸缩杆2，所述第二伸缩杆2下端设有夹爪4。
所述匀胶槽CUP的清洗装置还包括清洗液储罐、回收罐、竖直移动机构、清水储罐和两个盖板，所述清洗液储罐连通清洗槽11，所述回收罐通过管道连通清洗槽11的槽底。
所述第二伸缩杆2通过竖直移动机构连接机架1，所述竖直移动机构包括第二电机5和自转轴；
所述第二电机5的输出轴水平设置且第二电机5设置在机架1上，所述自转轴水平且自转连接在第二电机5的输出轴端面的周缘上，所述第二伸缩杆2设置在自转轴上。
所述盖板边沿铰接于清洗槽11内壁，所述盖板远离清洗槽11内壁的一侧边沿设有容纳第二伸缩杆2的缺口。
所述清水储罐连通清洗槽11。所述清洗槽11一侧的机架1上设有烘干机构。
本实用新型提供的匀胶槽CUP的清洗装置的使用及原理：
工作人员将匀胶槽cup投入清洗槽11中，所述清洗槽11的槽底的缓震垫片避免了匀胶槽cup撞击槽底而损坏。匀胶槽cup在清洗槽11的槽底后，所述第一伸缩杆启动，所述第一伸缩杆驱动推板而推动匀胶槽cup移动到规定的位置。
匀胶槽cup在清洗槽11的槽底处于规定位置后，所述第二伸缩杆2将伸长，带动夹爪4向下移动，从而能夹起匀胶槽cup。同时，所述清洗液储罐将向清洗槽11内注入丙酮溶液，在丙酮溶液浸没过匀胶槽cup后，所述第一电机3和第二电机5启动；所述第一电机3将带动匀胶槽cup沿竖直轴线自转，所述第二电机5将使匀胶槽cup沿第二电机5的输出轴端面圆周运动，使匀胶槽cup上下移动。上述两种运动可使匀胶槽cup上的光刻胶与丙酮溶液接触以及反应更充分。
在匀胶槽cup上的光刻胶并清洗完全后，清洗槽11内的丙酮溶液被排出，清水注入清洗槽11，清洗匀胶槽cup，随后工作人员从清洗槽11中取出匀胶槽cup并烘干，以此完成匀胶槽cup的清洗。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种匀胶槽CUP的清洗装置，其特征在于，包括机架、推板、第一伸缩杆、第二伸缩杆和第一电机；
所述机架上设有清洗槽，所述清洗槽的槽底设有缓震垫片，所述推板立设在清洗槽内，所述推板的表面通过第一伸缩杆连接清洗槽的内壁；
所述第二伸缩杆竖直且自转连接机架，所述第二伸缩杆设置在清洗槽中，所述第一电机传动连接第二伸缩杆，所述第二伸缩杆下端设有夹爪。
2.根据权利要求1所述的匀胶槽CUP的清洗装置，其特征在于，还包括清洗液储罐和回收罐，所述清洗液储罐连通清洗槽，所述回收罐通过管道连通清洗槽的槽底。
3.根据权利要求1所述的匀胶槽CUP的清洗装置，其特征在于，还包括竖直移动机构，所述第二伸缩杆通过竖直移动机构连接机架，所述竖直移动机构包括第二电机和自转轴；
所述第二电机的输出轴水平设置且第二电机设置在机架上，所述自转轴水平且自转连接在第二电机的输出轴端面的周缘上，所述第二伸缩杆设置在自转轴上。
4.根据权利要求1所述的匀胶槽CUP的清洗装置，其特征在于，还包括两个盖板，所述盖板边沿铰接于清洗槽内壁，所述盖板远离清洗槽内壁的一侧边沿设有容纳第二伸缩杆的缺口。
5.根据权利要求1所述的匀胶槽CUP的清洗装置，其特征在于，还包括清水储罐，所述清水储罐连通清洗槽。
6.根据权利要求1所述的匀胶槽CUP的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽一侧的机架上设有烘干机构。
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