CN219260182U - 一种氧化亚硅沉积设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种氧化亚硅沉积设备，包括炉体、沉积室、坩埚、第一加热板、第二加热板、气体输送管、转移管和连接管。本实用新型在传统氧化亚硅沉积设备的基础上增设了连接管和挡板，通过挡板对转移管进行遮挡，从而保证气体每次只能进入一个转移管进行沉积，同时坩埚可以继续进行加热反应。本实用新型公开的设备，不同的沉积室可以分别进行沉积，而坩埚可以连续生产，因而可以有效避免坩埚闲置的情况，提高了沉积设备的使用率和氧化亚硅的生产效率，降低了生产成本。

Description

一种氧化亚硅沉积设备

技术领域

本实用新型属于氧化亚硅生产技术领域，更具体地说，特别涉及一种氧化亚硅沉积设备。

背景技术

氧化亚硅的生产通常采用沉积法，在生产时先将固体原料投入气相沉积炉的坩埚中加热，待固体原料气化后发生反应胜场氧化亚硅气体，然后进入沉积室中进行沉积。

例如CN202021530717.4公开了一种气相沉积炉，包括炉壳，炉壳内底部设有坩埚，炉壳内顶部设有卸料箱，同时还有沉积室用于沉积氧化亚硅。在生产过程中，通过第一加热器加热坩埚，放置在坩埚内的固体化学物质气化并反应，反应后的气体进入到沉积室内，发生化学反应沉积，一小部分气体进入到卸料箱内，在卸料箱的顶部，温度降低，形成粉末状，受重力作用掉落至集尘箱内。

但是上述沉积设备在氧化亚硅的沉积过程中坩埚处于闲置状态，需要等沉积完成才能进行下一次的生产任务，导致沉积设备的使用率较低，影响了氧化亚硅的生产效率。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种氧化亚硅沉积设备，以解决现有的沉积设备在氧化亚硅的沉积过程中坩埚处于闲置状态，需要等沉积完成才能进行下一次的生产任务，从而导致生产效率较低的问题。

本实用新型一种氧化亚硅沉积设备的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

一种氧化亚硅沉积设备，包括炉体、沉积室、坩埚、第一加热板、第二加热板、气体输送管、转移管和连接管。

沉积室有多个，例如设置为四个，四个沉积室按照圆周阵列均匀分布连接在炉体的外侧；坩埚固定连接在炉体的下部；第一加热板设置有八个，八个第一加热板分别固定连接在四个沉积室的外侧面，且与炉体连接；第二加热板固定在坩埚的下端面，并与炉体固定连接；气体输送管设置有四个，四个气体输送管分别固定连接在四个沉积室的下部，四个气体输送管均与炉体固定连接并伸出到炉体外部；转移管设置有四个，四个转移管圆周阵列固定连接在坩埚的上部，四个转移管均与炉体固定连接；连接管转动连接在坩埚的上部，连接管与炉体转动连接。

进一步的，连接管包括有挡板；挡板固定连接在连接管的下部，挡板为“丄”字形结构。

进一步的，气体输送管包括有出气管；出气管设置有多个，多个出气管分别圆周阵列固定连接在四个气体输送管的上部，出气管的上部均匀分布开设有多个圆形通孔；

转移管包括有送气管；送气管设置有多个，多个送气管分别圆周阵列固定连接在四个转移管的上部；多个送气管的外侧面分别与四个沉积室固定连接。

进一步的，连接管还包括有定位环；定位环上下滑动连接在连接管的上部，定位环与炉体转动连接；定位环的上部为圆弧状结构。

进一步的，连接管还包括有连接板和定位杆；连接板转动连接在炉体的上部，连接板通过多个弹簧弹性连接在定位环的下部；定位杆设置有四个，四个定位杆圆周阵列固定连接在定位环的上部，四个定位杆均与炉体相互卡接。

进一步的，连接管还包括有封堵杆和密封套；封堵杆螺纹连接在连接管的上部；密封套固定连接在封堵杆的下部。

进一步优选，炉体中可以设置四组循环冷却装置，其冷却管分别贯穿四个沉积室，在沉积过程中可以实现温度的控制，维持沉积温度更定，得到的氧化亚硅产品品质更高。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型在传统氧化亚硅沉积设备的基础上增设了连接管和挡板，通过挡板对转移管进行遮挡，从而保证气体每次只能进入一个转移管并进入对应的沉积室进行沉积。在沉积的过程中，坩埚可以继续进行生产，有效的避免了坩埚闲置的情况，提高了沉积设备的使用率和氧化亚硅的生产效率。

本实用新型在传统氧化亚硅沉积设备的基础上增设了定位杆，通过定位杆实现对挡板的定位，有效的提高了挡板的遮挡效果，避免挡板受到气体压力后出现晃动，密封不紧气体出现外泄等情况。

本实用新型在传统氧化亚硅沉积设备的基础上增设了封堵杆，通过封堵杆对连接管进行密封，并通过密封套使封堵杆与连接管的内壁紧密贴合，从而提高设备整体的密封效果，同时能够对连接管的内壁进行清理，避免了粉末粘附在连接管的内壁上。

本实用新型公开的设备，结构紧凑布局合理，可以连续化生产，设备使用率高、结构稳定，可以作为小批量氧化亚硅生产所用设备，成本低廉，具有优异的使用性能。

附图说明

图1是实施例1中的沉积设备整体结构示意图；

图2是实施例1中的沉积室的结构示意图；

图3是实施例1中的沉积设备剖视结构示意图；

图4是实施例1中的转移管的结构示意图；

图5是实施例1中的连接管的结构示意图；

图6是实施例1中的定位环的结构示意图。

图中，部件名称与附图编号的对应关系为：

1、炉体；2、沉积室；3、坩埚；4、第一加热板；5、第二加热板；6、气体输送管；601、出气管；7、转移管；701、送气管；8、连接管；801、挡板；802、封堵杆；803、密封套；804、定位环；805、连接板；806、定位杆。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。

实施例1

一种氧化亚硅沉积设备,如附图1至附图6所示，包括炉体1、沉积室2、坩埚3、第一加热板4、第二加热板5、气体输送管6、转移管7和连接管8；沉积室2设置有四个，四个沉积室2圆周阵列固定连接在炉体1的外侧；坩埚3固定连接在炉体1的下部；第一加热板4设置有八个，八个第一加热板4分别固定连接在四个沉积室2的外侧面，八个第一加热板4均与炉体1固定连接；第二加热板5固定连接在坩埚3的下端面，第二加热板5与炉体1固定连接；气体输送管6设置有四个，四个气体输送管6分别固定连接在四个沉积室2的下部，四个气体输送管6均与炉体1固定连接；转移管7设置有四个，四个转移管7圆周阵列固定连接在坩埚3的上部，四个转移管7均与炉体1固定连接；连接管8转动连接在坩埚3的上部，连接管8与炉体1转动连接。

其中，气体输送管6包括有出气管601；出气管601设置有多个，多个出气管601分别圆周阵列固定连接在四个气体输送管6的上部，出气管601的上部均匀分布开设有多个圆形通孔；

转移管7包括有送气管701；送气管701设置有多个，多个送气管701分别圆周阵列固定连接在四个转移管7的上部；多个送气管701的外侧面分别与四个沉积室2固定连接，四个转移管7的内部均固定连接有一个送气风扇；在使用中，通过气体输送管6对反应气体进行输送，反应气体通过出气管601上的通孔均匀的散布在沉积室2中，通过第一加热板4在气体未全部进入沉积室2时对沉积室2进行加热保温，通过第二加热板5对坩埚3进行加热使原料汽化，固体原料在坩埚3中汽化后通过转移管7中的送气风扇和多个送气管701均匀的进入沉积室2中，此时关闭第一加热板4，通过循环冷却装置降低沉积室2的温度实现氧化亚硅的沉积，有效的提高了气体的混合效率，提高了反应速度，进而缩短了沉积时间，提高了氧化亚硅的生产效率，通过输送气体时的产生的风力避免出气管601和送气管701的堵塞。

其中，连接管8包括有挡板801；挡板801固定连接在连接管8的下部，挡板801为“丄”字形结构；在使用中，通过挡板801对转移管7进行遮挡，从而保证气体每次只能进入一个转移管7。

其中，连接管8还包括有封堵杆802和密封套803；封堵杆802螺纹连接在连接管8的上部；密封套803固定连接在封堵杆802的下部，密封套803为锥形结构；在使用中，通过封堵杆802对连接管8进行密封，避免了汽化后的气体出现泄露，通过密封套803使封堵杆802与连接管8的内壁紧密贴合，提高密封效果，同时能够对连接管8的内壁进行清理，避免了原料粉末粘附在连接管8的内壁上。

其中，连接管8还包括有定位环804；定位环804上下滑动连接在连接管8的上部，定位环804与炉体1转动连接；定位环804的上部为圆弧状结构；在使用中，通过转动定位环804带动连接管8和挡板801转动，从而改变与坩埚3相连通的沉积室2，取下封堵杆802，通过连接管8向坩埚3内添加固体原料，有效的避免了坩埚3闲置的情况，提高了沉积设备的使用率，通过定位环804上部的圆弧方便拉动定位环804。

其中，连接管8还包括有连接板805和定位杆806；连接板805转动连接在炉体1的上部，连接板805通过多个弹簧弹性连接在定位环804的下部；定位杆806设置有四个，四个定位杆806圆周阵列固定连接在定位环804的上部，炉体1的上部圆周阵列开设有四个卡槽，四个定位杆806分别与四个卡槽相互卡接；在使用中，向上拉动定位环804，使定位杆806上移，此时能够转动定位环804和连接板805，转动结束后松开定位环804，定位环804在弹簧作用下自动复位，使定位杆806卡入炉体1的上部，实现对挡板801的定位，有效的提高了挡板801的遮挡效果，避免挡板801受到气体压力后出现晃动，从而确保了沉积室2中气体比例的准确性，保证了反应效果，进而保证了氧化亚硅的生产质量。

本实施例的具体使用方式与作用：在使用中，通过气体输送管6对反应气体进行输送，反应气体通过出气管601上的通孔均匀的散布在沉积室2中，通过第一加热板4对沉积室2进行加热，通过第二加热板5对坩埚3进行加热，固体原料在坩埚3中汽化后通过转移管7和多个送气管701均匀的进入沉积室2中，从而提高气体的混合效率，有效的提高了反应速度，进而缩短了沉积时间，提高了氧化亚硅的生产效率，通过挡板801对转移管7进行遮挡，从而保证气体每次只能进入一个转移管7，向上拉动定位环804，使定位杆806上移，此时能够转动定位环804和连接板805，通过转动定位环804带动连接管8和挡板801转动，从而改变与坩埚3相连通的沉积室2，取下封堵杆802，通过连接管8向坩埚3内添加固体原料，有效的避免了坩埚3闲置的情况，提高了沉积设备的使用率，转动结束后松开定位环804，定位环804在弹簧作用下自动复位，使定位杆806卡入炉体1的上部，实现对挡板801的定位，有效的提高了挡板801的遮挡效果，避免挡板801受到气体压力后出现晃动，从而确保了沉积室2中气体比例的准确性，保证了反应效果，进而保证了氧化亚硅的生产质量，通过封堵杆802对连接管8进行密封，避免了汽化后的气体出现泄露，通过密封套803使封堵杆802与连接管8的内壁紧密贴合，提高密封效果，同时能够对连接管8的内壁进行清理，避免了原料粉末粘附在连接管8的内壁上。

Claims (6)

1.一种氧化亚硅沉积设备，其特征在于：所述沉积设备包括炉体(1)、沉积室(2)、坩埚(3)、第一加热板(4)、第二加热板(5)、气体输送管(6)、转移管(7)和连接管(8)；

所述炉体(1)的外侧圆周均匀固定连接有多个所述沉积室(2)，每个所述沉积室(2)的外侧面固定有两个所述第一加热板(4)，且所述第一加热板(4)与所述炉体(1)固定连接，每个所述沉积室(2)的下部各连接有一个所述气体输送管(6)，且所述气体输送管(6)伸出所述炉体(1)外部；

所述坩埚(3)下部是所述第二加热板(5)，所述坩埚(3)和所述第二加热板(5)均与所述炉体(1)固定连接，所述坩埚(3)的上部还均匀分布多个所述转移管(7)，每一个所述转移管(7)与所述沉积室(2)连接且一一对应；

所述连接管(8)转动连接于所述坩埚(3)的上部，且所述连接管(8)与所述炉体(1)转动连接。

2.如权利要求1所述一种氧化亚硅沉积设备，其特征在于：所述气体输送管(6)包括有多个出气管(601)，所述出气管(601)的表面开设有多个通孔并伸入到所述沉积室(2)内部；

所述转移管(7)包括有多个送气管(701)，所述送气管(701)与所述沉积室(2)连接。

3.如权利要求1所述一种氧化亚硅沉积设备，其特征在于：所述连接管(8)包括有挡板(801)，所述挡板(801)固定连接在所述连接管(8)的底部。

4.如权利要求1所述一种氧化亚硅沉积设备，其特征在于：所述连接管(8)还包括有封堵杆(802)和密封套(803)，所述封堵杆(802)通过螺纹连接在所述连接管(8)的上部；所述密封套(803)固定在所述封堵杆(802)的下部。

5.如权利要求1所述一种氧化亚硅沉积设备，其特征在于：所述连接管(8)还包括有定位环(804)，所述定位环(804)滑动连接在所述连接管(8)的上部，所述定位环(804)与所述炉体(1)转动连接。

6.如权利要求5所述一种氧化亚硅沉积设备，其特征在于：所述连接管(8)还包括有连接板(805)和定位杆(806)，所述连接板(805)转动连接在所述炉体(1)的上部，所述连接板(805)弹性连接在所述定位环(804)的下部，所述定位环(804)的连接有多个所述定位杆(806)，多个所述定位杆(806)均匀分布且均与所述炉体(1)相互卡接。

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