CN219252535U - 一种分离式腔体 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种分离式腔体，包括上腔盖、下腔座，所述上腔盖与下腔座上下相对设置并相互抵合，所述下腔座的中部设有腔室，所述下腔座的顶部设有第一支撑平面，所述下腔座的顶部还向外扩延伸形成第一支撑部，所述第一支撑部的顶部形成第二支撑平面，所述第一支撑平面与第二支撑平面之间通过过渡面相连接，所述上腔盖的下表面与所述第一支撑平面、过渡面、第二支撑平面相贴合，上腔盖可分离式的安装在下腔座上，因此上腔盖可以进行开合，当上腔盖打开时使得下腔座的内部腔室暴露以便于反应加工前进行相应的准备操作或者观察，此外也便于在使用过后对下腔座的反应腔室进行清理操作。
Description
技术领域
本实用新型涉及密封腔体技术领域，具体为一种分离式腔体。
背景技术
腔体是保持内部为密封状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。不锈钢是目前超高真空系统的主要结构材料。具有优良的抗腐蚀性、放气率低、无磁性、焊接性好、导电率和导热率低、能够在-270—900℃工作等优点，真空反应系统中应用广泛。
现有的腔体通常为一体式结构，上腔部分与下腔部分无法分离，因此无法方便的在腔体的反应腔室中进行操作，此外腔体内部清理也较为不便。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型涉及了一种分离式腔体，该结构简单、可靠，有效解决了上述技术问题，适合推广使用，为了实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案来实现：
一种分离式腔体，包括上腔盖、下腔座，所述上腔盖与下腔座上下相对设置并相互抵合，所述下腔座的中部设有腔室，所述下腔座的顶部设有第一支撑平面，所述下腔座的顶部还向外扩延伸形成第一支撑部，所述第一支撑部的顶部形成第二支撑平面，所述第一支撑平面与第二支撑平面之间通过过渡面相连接，所述上腔盖的下表面与所述第一支撑平面、过渡面、第二支撑平面相贴合。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：所述过渡面与第一支撑平面、第二支撑平面的连接处均采用圆角过渡。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：所述下腔座上设有第一凹槽，所述第一凹槽环设于第一支撑平面下方，所述第一凹槽的横截面呈上窄下宽的等腰梯形，所述下腔座上还设有第二凹槽，所述第二凹槽环设于第二支撑平面的下方，所述第二凹槽的横截面呈上窄下宽的等腰梯形。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：所述下腔座的内壁顶部向内侧呈弧形弯曲延伸并形成第二支撑部，所述第二支撑部的上表面与所述第一支撑平面重合。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：所述上腔盖的最外侧直径与所述下腔座的最外侧直径相等。
本实用新型相比现有技术突出且有益的技术效果是：上腔盖可分离式的安装在下腔座上，因此上腔盖可以进行开合，当上腔盖打开时使得下腔座的内部腔室暴露以便于反应加工前进行相应的准备操作或者观察，此外也便于在使用过后对下腔座的反应腔室进行清理操作。
附图说明
图1是整体结构立体示意图；
图2是下腔座示意图；
图3是整体结构剖视示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，然而，以下描述的具体实施方式和实施例仅是说明的目的，而不是对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图1所示的方向或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型，而不是指示或暗示所指的装置或原件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
腔体是保持内部为密封状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。不锈钢是目前超高真空系统的主要结构材料。具有优良的抗腐蚀性、放气率低、无磁性、焊接性好、导电率和导热率低、能够在-270—900℃工作等优点，真空反应系统中应用广泛。
现有的腔体通常为一体式结构，上腔部分与下腔部分无法分离，因此无法方便的在腔体的反应腔室中进行操作，此外腔体内部清理也较为不便。为了解决上述技术问题，如图1-3所示，本实用新型涉及了一种分离式腔体，包括上腔盖1、下腔座2，所述上腔盖1与下腔座2上下相对设置并相互抵合，具体地，所述下腔座2的中部设有腔室，当下腔座2与上腔盖1抵合时该腔室即为反应腔室，上腔盖1与下腔座2各自中部设有外接管口以对应连接至系统中，各支路管口则可以根据实际需求进行相应位置、大小改动调整，本实用新型中不作进一步限制。
所述下腔座2的顶部设有第一支撑平面3，所述下腔座2的顶部还向外扩延伸形成第一支撑部8，所述第一支撑部8的顶部形成第二支撑平面4，所述第一支撑平面3与第二支撑平面4之间通过过渡面5相连接，优选地，所述过渡面5与第一支撑平面3、第二支撑平面4的连接处均采用圆角过渡，圆角过渡的设置可以避免造成相应腔体部件表面划伤，所述上腔盖1的下表面与所述第一支撑平面3、过渡面5、第二支撑平面4相贴合，通过两处不同高度的支撑平面以及过渡面5的支撑保证当上腔盖1放置在下腔座2上时定位精准不会晃动，贴合面加工精度较高保证密封效果，所述上腔盖1的最外侧直径与所述下腔座2的最外侧直径相等使得上腔盖1与下腔座2抵合后近似呈一个整体，上腔盖1可分离式的安装在下腔座2上，因此上腔盖1可以进行开合，当上腔盖1打开时使得下腔座2的内部腔室暴露以便于反应加工前进行相应的准备操作，此外也便于在使用过后对下腔座2的反应腔室进行清理操作。
本实施例中进一步优选的是，所述下腔座2上设有第一凹槽6，所述第一凹槽6环设于第一支撑平面3下方，所述第一凹槽6的横截面呈上窄下宽的等腰梯形，所述下腔座2上还设有第二凹槽7，所述第二凹槽7环设于第二支撑平面的下方，所述第二凹槽7的横截面呈上窄下宽的等腰梯形，两处凹槽结构可以在下腔座2成型时节省一部分材料的同时，等腰梯形的空腔凹槽结构则可以加强结构的强度，保证支撑的稳定性，避免结构变形。
本实施例中进一步优选的是，所述下腔座2的内壁顶部向内侧呈弧形弯曲延伸并形成第二支撑部9，所述第二支撑部9的上表面与所述第一支撑平面3重合，第二支撑部9的设置增大下腔座2与上腔盖1的接触面积以加强支撑强度，避免压强过大，进一步增强抗变形能力。
上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例，并非依此限制本实用新型的保护范围，故：所属技术领域的技术人员凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种分离式腔体，其特征在于：包括上腔盖、下腔座，所述上腔盖与下腔座上下相对设置并相互抵合，所述下腔座的中部设有腔室，所述下腔座的顶部设有第一支撑平面，所述下腔座的顶部还向外扩延伸形成第一支撑部，所述第一支撑部的顶部形成第二支撑平面，所述第一支撑平面与第二支撑平面之间通过过渡面相连接，所述上腔盖的下表面与所述第一支撑平面、过渡面、第二支撑平面相贴合。
2.根据权利要求1所述的一种分离式腔体，其特征在于：所述过渡面与第一支撑平面、第二支撑平面的连接处均采用圆角过渡。
3.根据权利要求2所述的一种分离式腔体，其特征在于：所述下腔座上设有第一凹槽，所述第一凹槽环设于第一支撑平面下方，所述第一凹槽的横截面呈上窄下宽的等腰梯形，所述下腔座上还设有第二凹槽，所述第二凹槽环设于第二支撑平面的下方，所述第二凹槽的横截面呈上窄下宽的等腰梯形。
4.根据权利要求3所述的一种分离式腔体，其特征在于：所述下腔座的内壁顶部向内侧呈弧形弯曲延伸并形成第二支撑部，所述第二支撑部的上表面与所述第一支撑平面重合。
5.根据权利要求4所述的一种分离式腔体，其特征在于：所述上腔盖的最外侧直径与所述下腔座的最外侧直径相等。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202320555093.9U CN219252535U (zh) | 2023-03-15 | 2023-03-15 | 一种分离式腔体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202320555093.9U CN219252535U (zh) | 2023-03-15 | 2023-03-15 | 一种分离式腔体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN219252535U true CN219252535U (zh) | 2023-06-27 |
Family
ID=86868221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202320555093.9U Active CN219252535U (zh) | 2023-03-15 | 2023-03-15 | 一种分离式腔体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN219252535U (zh) |
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2023
- 2023-03-15 CN CN202320555093.9U patent/CN219252535U/zh active Active
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