CN219157009U - 一种电解铜箔制备装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及电解铜箔技术领域，具体涉及一种电解铜箔制备装置。所述电解铜箔制备装置包括：包括溶铜槽、净化槽、电解槽和处理槽。溶铜槽为圆筒状，溶铜槽的内侧弧形壁适于喷出气体和液体，且溶铜槽的内侧弧形壁沿轴向设置有多个限流件；搅拌件，搅拌件沿溶铜槽的轴向设置于溶铜槽中，搅拌件靠近溶铜槽底部的一端沿径向设置有多个叶片。本实用新型提供的电解铜箔制备装置，在进行反应时，搅拌件进行旋转，带动溶铜槽的电解液进行流动，限流件可使沿溶铜槽内的电解液遇阻向圆心流动，确保铜原料始终浸没与电解液中，可避免出现传统溶铜设备在进行搅拌时会使铜原料聚集在溶液中的某一位置，导致铜原料不能在溶液中均匀分布的现象，具有均匀溶铜、高效溶铜的优点。

Description

一种电解铜箔制备装置

技术领域

本实用新型涉及电解铜箔技术领域，具体涉及一种电解铜箔制备装置。

背景技术

电解铜箔是覆铜板、印制电路板、挠性线路板以及锂离子电池制造的重要导体原材料，广泛应用于电子、通讯、计算机等领域。电解铜箔在生产时，溶铜工序是电解铜箔生产的第一道工序，也称为电解液制备，其目的是将铜原料溶解成硫酸盐溶液，以便铜离子在阴极板的表面还原生成铜箔。现有技术在进行溶铜工序时，为了加快溶铜的速率通常需要对溶液进行加热或者搅拌，实验室现有小型加热设备不能够保证溶液均匀加热，使得溶液与铜料不能够均匀且稳定的进行反应；进行搅拌时会使铜原料聚集在溶液中的某一位置导致铜料不能在溶液中均匀分布，影响溶铜速率。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中溶液进行搅拌时铜料聚集在溶液中的某一位置而影响溶铜速率的缺陷，从而提供一种溶铜速率较快的电解铜箔制备装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的一种电解铜箔制备装置，包括：溶铜槽，所述溶铜槽适于容纳铜原料；净化槽，所述净化槽与所述溶铜槽连通，所述净化槽适于过滤所述溶铜槽中流出的溶液；电解槽，所述电解槽与所述净化槽连通，所述电解槽中设有电解板，所述电解板适于与所述净化槽流出的液体反应；处理槽，所述处理槽与所述电解槽连通；

还包括：

所述溶铜槽为圆筒状，所述溶铜槽的内侧弧形壁适于喷出气体和液体，且所述溶铜槽的内侧弧形壁沿轴向设置有多个限流件；

搅拌件，所述搅拌件沿所述溶铜槽的轴向设置于所述溶铜槽中，所述搅拌件靠近所述溶铜槽底部的一端沿径向设置有多个叶片；

其中，当所述溶铜槽内的铜原料与所述溶铜槽的内侧弧形壁喷出的气体和液体进行反应时，所述内侧弧形壁、所述限流件和所述搅拌件配合，以实现加快所述液体流动。

可选的，还包括：

电解槽槽盖，盖设于所述电解槽上，所述电解槽槽盖与所述溶铜槽连通；

第一输送泵，设置于所述电解槽槽盖与所述溶铜槽连通的管路中，所述第一输送泵适于将所述电解槽产生的气体输送回所述溶铜槽中。

可选的，所述电解板包括阳极板和阴极板，所述阳极板和所述阴极板相对布置于所述电解槽中，所述阳极板和所述阴极板的相对板面适于参与反应，所述阳极板和所述阴极板的其他端面和板面均设置有绝缘层。

可选的，还包括：

两个连杆，所述连杆的两端搭接于所述电解槽的侧壁上，两个所述连杆相互平行；

两个滑槽，所述滑槽沿所述连杆的长度方向开设于所述连杆上，所述阳极板和所述阴极板通过滑动件滑动连接于所述滑槽中，以实现所述阳极板和所述阴极板在所述电解槽中往复运动。

可选的，还包括：

导管，所述导管一端与所述净化槽相连，另一端固定连接于所述阴极板的与所述阳极板相对面的侧壁端，且所述导管可随所述阴极板在所述电解槽中往复运动。

可选的，还包括：

绝缘棒，设置于所述阳极板和所述阴极板之间，所述绝缘棒适于固定所述阳极板和所述阴极板的相对距离。

可选的，所述绝缘棒长度可调节。

可选的，还包括：

溶铜槽槽盖，盖设于所述溶铜槽上，所述溶铜槽槽盖与所述处理槽连通；

第二输送泵，设置于所述溶铜槽与所述处理槽连通的管路中，所述第二输送泵将所述溶铜槽产生的气体输送至所述处理槽中。

可选的，还包括：

隔网，所述隔网沿径向方向设置于所述溶铜槽中。

可选的，所述限流件为所述溶铜槽的内侧弧形壁沿轴向设置的柱状凸起。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

本实用新型提供的电解铜箔制备装置，包括溶铜槽、净化槽、电解槽和处理槽。溶铜槽为圆筒状，溶铜槽的内侧弧形壁适于喷出气体和液体，且溶铜槽的内侧弧形壁沿轴向设置有多个限流件；搅拌件，搅拌件沿溶铜槽的轴向设置于溶铜槽中，搅拌件靠近溶铜槽底部的一端沿径向设置有多个叶片。当溶铜槽内的铜原料与溶铜槽的内侧弧形壁喷出的电解液进行反应时，内侧弧形壁、限流件和搅拌件配合，以实现加快电解液流动。在进行反应时，搅拌件进行旋转，其底部的多个叶片在旋转动作下，带动溶铜槽的铜原料进行流动，且限流件可使沿溶铜槽内壁流动的电解液遇阻向圆心流动，确保铜始终浸没与电解液中，加速电解液与铜原料的反应，可避免出现传统溶铜设备在进行搅拌时会使铜料聚集在溶液中的某一位置，导致铜料不能在溶液中均匀分布的现象，具有均匀溶铜、高效溶铜的优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例中的电解铜箔制备装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中的溶铜槽的截面示意图；

图3为本实用新型实施例中的电解槽去掉电解槽槽盖的结构示意图；

附图标记说明：

1、溶铜槽；11、限流件；12、搅拌件；13、溶铜槽槽盖；14、第二输送泵；15、隔网；

2、净化槽；

3、电解槽；31、电解槽槽盖；32、第一输送泵；33、电解板；331、阳极板；332、阴极板；

4、处理槽；

51、连杆；52、滑槽；53、导管；54、绝缘棒；55、滑动件；56、滑动驱动件。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“垂直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

结合图1-图3所示，本实施例提供的电解铜箔制备装置，包括：

溶铜槽1，溶铜槽1适于容纳铜原料；净化槽2，净化槽2与溶铜槽1连通，净化槽2适于过滤溶铜槽1中流出的溶液；电解槽3，电解槽3与净化槽2连通，电解槽3中设有电解板33，电解板33适于与净化槽2流出的液体反应；处理槽4，处理槽4与电解槽3连通；

溶铜槽1为圆筒状，溶铜槽1的内侧弧形壁适于喷出气体和液体，且溶铜槽1的内侧弧形壁沿轴向设置有多个限流件11；

搅拌件12，搅拌件12沿溶铜槽1的轴向设置于溶铜槽1中，搅拌件12靠近溶铜槽1底部的一端沿径向设置有多个叶片；

其中，当溶铜槽1的铜原料与溶铜槽1的内侧弧形壁喷出的气体和液体进行反应时，内侧弧形壁、限流件11和搅拌件12配合，以实现加快电解液流动。

需要说明的是，溶铜槽1内侧弧形壁喷出的气体为和液体一般为参与反应的硫酸、双氧水、空气混合物、低浓度电解液的组成的反应物。

详细来说，在溶铜槽1上设置有流量开关,以实现对溶铜槽1的内侧弧形壁适于喷出气体和液体流量大小的控制。在电解槽3内置温度传感器、加热管和控制器，进而实现对电解槽3中的温度可调。

本实施例中，溶铜槽1采用圆柱的筒状结构相比棱柱体结构，可保证在其内壁没有死角堆积铜原料，防止出现某个角落铜原料长期堆积无法参与反应。

详细来说，从溶铜槽1的内侧弧形壁适于喷出气体和液体，避免出现因旋转导致的部分区域反应物减少的情况。

需要说明的是，限流件11为溶铜槽1的内侧弧形壁沿轴向设置的凸肋型结构，多个限流件11均分分布在溶铜槽1的内侧弧形壁上。在本实施例中，仅在溶铜槽1内侧壁设置4个限流件11。当然，在此不对限流件11的数量做限制，可根据溶铜槽1的内壁实际大小设置不同的数量。

具体的，搅拌件12底部设置多个叶片，即通过搅拌件12可加速溶铜槽1底部的铜原料与电解液发生反应，提高反应效率。

本实施例提供的电解铜装置在进行反应时，搅拌件12进行旋转，其底部的多个叶片在旋转动作下，带动溶铜槽1的铜原料进行流动，且限流件11可使沿溶铜槽1内壁流动的电解液遇阻向圆心流动，确保铜原料始终浸没与电解液中，加速电解液与铜原料的反应，可避免出现传统溶铜设备在进行搅拌时会使铜原料聚集在溶液中的某一位置，导致铜原料不能在溶液中均匀分布的现象，具有均匀溶铜、高效溶铜的优点。

具体的，在本实施例中，净化槽2中设置有硅藻土、活性炭等三级过滤件，对溶铜槽1流出的硫酸铜进行过滤。在此，不对净化槽2的具体结构做限定，起到正常净化即可。

进一步的，还包括：

电解槽槽盖31，盖设于电解槽3上，电解槽槽盖31与溶铜槽1连通；

第一输送泵32，设置于电解槽槽盖31与溶铜槽1连通的管路中，第一输送泵32适于将电解槽3产生的气体输送回溶铜槽1中。

详细来说，在电解槽3进行反应时，会有部分未参与反应的电解液蒸发在电解槽3中，在本实施例中，增设第一输送泵32对电解槽3中的气体进行处理，将其输送回溶铜槽1中参与反应，提升了本装置的利用率。

更进一步的，电解槽槽盖31呈中高两侧低的弧状、整体向电解槽槽盖31的某一角倾斜，且电解槽槽盖31内壁四周有向内斜向上的边条，边条上有一废液孔，废液经导管至处理槽4，可保证电解槽3的废液较为集中的收集，导入至处理槽4中。

进一步的，电解板33包括阳极板331和阴极板332，阳极板331和阴极板332相对布置于电解槽3中，阳极板331和阴极板332的相对板面适于参与反应，阳极板331和阴极板332的其他端面和板面均设置有绝缘层。

容易理解的，采用绝缘层将除阳极板331和阴极板332参与反应的相对面包裹起来，能有效防止电解板33其他表面无效放电，提高电效率，能还能防止非相对面放电产生铜粒等有害物质。

进一步的，还包括：

两个连杆51，连杆51的两端搭接于电解槽3的侧壁上，两个连杆51相互平行；

两个滑槽52，滑槽52沿连杆的长度方向开设于连杆51上，阳极板331和阴极板332通过滑动件55滑动连接于滑槽52中，以实现阳极板331和阴极板332在电解槽3中往复运动。

需要说明的是，连杆51搭接于电解槽3相对的两侧侧壁上，在此不对滑槽52的长度做限制，可实现电解板33在滑槽52中可往复滑动即可。

进一步的，还包括滑动驱动件56，滑动驱动件56连接于所述电解槽3中的两个电解板33，为阳极板331和阴极板332提供驱动力。

在此，仅提供一种阳极板331和阴极板332在电解槽3中移动的方式，在其他实施例中，也可将阳极板331和阴极板332滑动连接于电解槽槽盖31上，即实现阳极板331和阴极板332在电解槽3中滑动即可。

容易理解的，传统电解槽3中的电解板33是固定不动的，电解液不能循环流动、仅依靠磁力搅拌实现电解液在电解槽3内流动。

本实施例中，通过让阳极板331和阴极板332运动，能实现阳极板331和阴极板332间的电解液快速流动，使电解产生的气体快速逸出，不易附着在电解板33表面阻碍电解的进行，且大尺寸电解槽3不能通过磁力搅拌器实现电解液在电解槽3中流动，电解板33运动替代了传统的磁力搅拌，使电解槽3的尺寸不受限制。

进一步的，还包括：

导管53，导管53一端与净化槽2相连，另一端固定连接于阴极板332的与阳极板331相对面的侧壁端，且导管53可随阴极板332在电解槽3中往复运动。

在本实施例中，导管53通过管道分流将电解液从电解板33两侧喷入，及时补充纯净电解液，减低铜离子浓度对电解的影响，提升电解效果。当然，在其他实施例中，也可将导管53仅从电解板33的一侧喷出电解液。

进一步的，还包括：

绝缘棒54，设置于阳极板331和阴极板332之间，绝缘棒54适于固定阳极板331和阴极板332的相对距离。

更进一步的，为了保证阳极板331和阴极板332的相对距离，在此，不对绝缘棒54的数量做限制。在本实施例中，在阳极板331和阴极板332的四个端角部分均设置有绝缘棒，以提升固定效果。

更进一步的，绝缘棒54长度可调节。

详细来说，现有技术中阳极板331和阴极板332的相对距离无法调节，或仅能靠暂时移动电解板33来暂时改变其两者的相对距离，容易出现不同位置距离不一致的现象，且电解过程中极距易改变等问题。

在本实施例中，通过改变绝缘棒54长度进行调节两者的相对距离，能实现距离大小的连续可调，电解板33不同位置距离固定且稳定性好；并且通过改变不同位置绝缘棒长度能实现同一对电解板33间的极距连续变化。能十分便捷的探究电解板33的相对距离对电解铜箔制备的影响。

溶铜槽槽盖13，盖设于溶铜槽1上，溶铜槽槽盖13与处理槽4连通；

第二输送泵14，设置于溶铜槽1与处理槽4连通的管路中，第二输送泵14将溶铜槽1产生的气体输送至处理槽4中。

进一步的，还包括：

隔网15，隔网15沿径向方向设置于溶铜槽1中。

详细来说，电解液中存在气体、固态铜，溶铜槽1内设置的限流件11，致使高速旋转的溶液易产生飞溅；隔网15能使飞溅的液滴不易飞溅。

进一步的，限流件11为溶铜槽1的内侧弧形壁沿轴向设置的柱状凸起。

详细来说，限流件11的柱状凸起可为圆柱体，也可棱柱体，在此对其具体设置放置不做限制。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种电解铜箔制备装置，包括：溶铜槽(1)，所述溶铜槽(1)适于容纳铜原料；净化槽(2)，所述净化槽(2)与所述溶铜槽(1)连通，所述净化槽(2)适于过滤所述溶铜槽(1)中流出的溶液；电解槽(3)，所述电解槽(3)与所述净化槽(2)连通，所述电解槽(3)中设有电解板(33)，所述电解板(33)适于与所述净化槽(2)流出的液体反应；处理槽(4)，所述处理槽(4)与所述电解槽(3)连通；

其特征在于，包括：

所述溶铜槽(1)为圆筒状，所述溶铜槽(1)的内侧弧形壁适于喷出气体和液体，且所述溶铜槽(1)的内侧弧形壁沿轴向设置有多个限流件(11)；

搅拌件(12)，所述搅拌件(12)沿所述溶铜槽(1)的轴向设置于所述溶铜槽(1)中，所述搅拌件(12)靠近所述溶铜槽(1)底部的一端沿径向设置有多个叶片；

其中，当所述溶铜槽(1)内的铜原料与所述溶铜槽(1)的内侧弧形壁喷出的气体和液体进行反应时，所述内侧弧形壁、所述限流件(11)和所述搅拌件(12)配合，以实现加快所述液体流动。

2.根据权利要求1所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，还包括：

电解槽槽盖(31)，盖设于所述电解槽(3)上，所述电解槽槽盖(31)与所述溶铜槽(1)连通；

第一输送泵(32)，设置于所述电解槽槽盖(31)与所述溶铜槽(1)连通的管路中，所述第一输送泵(32)适于将所述电解槽(3)产生的气体输送回所述溶铜槽(1)中。

3.根据权利要求2所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，所述电解板(33)包括阳极板(331)和阴极板(332)，所述阳极板(331)和所述阴极板(332)相对布置于所述电解槽(3)中，所述阳极板(331)和所述阴极板(332)的相对板面适于参与反应，所述阳极板(331)和所述阴极板(332)的其他端面和板面均设置有绝缘层。

4.根据权利要求3所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，还包括：

两个连杆(51)，所述连杆(51)的两端搭接于所述电解槽(3)的侧壁上，两个所述连杆(51)相互平行；

两个滑槽(52)，所述滑槽(52)沿所述连杆(51)的长度方向开设于所述连杆(51)上，所述阳极板(331)和所述阴极板(332)通过滑动件(55)滑动连接于所述滑槽(52)中，以实现所述阳极板(331)和所述阴极板(332)在所述电解槽(3)中往复运动。

5.根据权利要求4所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，还包括：

导管(53)，所述导管(53)一端与所述净化槽(2)相连，另一端固定连接于所述阴极板(332)的与所述阳极板(331)相对面的侧壁端，且所述导管(53)可随所述阴极板(332)在所述电解槽(3)中往复运动。

6.根据权利要求5所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，还包括：

绝缘棒(54)，设置于所述阳极板(331)和所述阴极板(332)之间，所述绝缘棒(54)适于固定所述阳极板(331)和所述阴极板(332)的相对距离。

7.根据权利要求6所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，所述绝缘棒(54)长度可调节。

8.根据权利要求1所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，还包括：

溶铜槽槽盖(13)，盖设于所述溶铜槽(1)上，所述溶铜槽槽盖(13)与所述处理槽(4)连通；

第二输送泵(14)，设置于所述溶铜槽(1)与所述处理槽(4)连通的管路中，所述第二输送泵(14)将所述溶铜槽(1)产生的气体输送至所述处理槽(4)中。

9.根据权利要求8所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，还包括：

隔网(15)，所述隔网(15)沿径向方向设置于所述溶铜槽(1)中。

10.根据权利要求1所述的电解铜箔制备装置，其特征在于，所述限流件(11)为所述溶铜槽(1)的内侧弧形壁沿轴向设置的柱状凸起。

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