CN219156976U - 一种基于pecvd的镀膜工艺腔室 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种基于PECVD的镀膜工艺腔室，属于太阳能电池镀膜技术领域，包括工作腔和安装于工作腔内的加热器、运输器、多个等离子发生器及多个散热器；散热器包括风机和两个出风端，等离子发生器内设有石英管和安装于石英管端部的气孔垫片，气孔垫片包括内环状体、外环状体及若干连接杆，连接杆固定安装于内环状体和外环状体之间；内环状体、外环状体及连接杆围成多个通风口。本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室，界凉风穿过气孔垫片上的通风口而实现石英管的及时、快速降温，避免出现石英管被烧毁的情况发生。借助一个风机同时为两个等离子发生器内的石英管进行吹风，散热效果较好。

Description

一种基于PECVD的镀膜工艺腔室

技术领域

本实用新型属于太阳能电池镀膜技术领域，更具体地说，是涉及一种基于PECVD的镀膜工艺腔室。

背景技术

板式PECVD(等离子体增强型化学气相沉积)设备的维护周期按照设备设定正常情况下一般在90-120小时左右，但是由于微波管还未达到维护时间就会烧毁，这种情况下就不得不提前进行维护，这样不仅浪费备件资源，更加影响电池产量，且热量的大量聚集也会影响镀膜的均匀性。目前的板式PECVD设备工艺腔室内一般具有多组微波管，并采用吹风散热的方式对其进行散热，同时在微波管内安装藕状片后，藕状片阻碍气流流动，无法及时散热。同时吹风散热时使用一个风机对带动多个风扇等对多个微波管进行散热，导致吹风散热功率不足，散热效果较差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基于PECVD的镀膜工艺腔室，以解决现有技术中存在的艺腔室内的微波管无法及时散热，且吹风散热效果较差的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种基于PECVD的镀膜工艺腔室，包括工作腔和安装于所述工作腔内的加热器、运输器、多个等离子发生器及多个散热器；所述散热器包括风机和两个与所述风机相连接的出风端，多个所述出风端与多个所述等离子发生器一一对应，所述出风端用于向所述等离子发生器吹风散热；所述等离子发生器内设有石英管和安装于所述石英管端部的气孔垫片，所述气孔垫片包括内环状体、外环状体及若干连接杆，所述连接杆固定安装于所述内环状体和所述外环状体之间；所述内环状体、所述外环状体及所述连接杆围成多个通风口。

在一种可能的实现方式中，所述风机安装于所述工作腔之外，所述散热器还包括呈T型设置且相连通的竖向管和横向管，所述竖向管自外向内贯穿所述工作腔的顶壁，所述风机与所述竖向管的上端连接，所述横向管安装于所述工作腔内部，且与两个所述等离子发生器相对应；所述出风端安装于所述横向管的两端。

在一种可能的实现方式中，所述竖向管和所述横向管一体成型。

在一种可能的实现方式中，所述连接杆为二至四个，沿所述内环状体的周向均布设置。

在一种可能的实现方式中，各所述连接杆的轴线方向均与所述内环状体的中心共线。

在一种可能的实现方式中，所述内环状体、所述外环状体及所述连接杆一体成型。

在一种可能的实现方式中，所述工作腔包括：

腔室主体，两端分别设有进口和出口；所述加热器和所述运输器安装于所述腔室主体内，且所述运输器位于所述加热器的上方，所述运输器与所述进口和所述出口相对应；

腔室上盖，封盖于所述腔室主体上；所述等离子发生器和所述散热器安装于所述腔室上盖中。

在一种可能的实现方式中，所述工作腔还包括两个分别安装于所述腔室主体两端的腔室间连接门，两个所述腔室间连接门分别用于遮蔽所述进口和所述出口。

本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型基于PECVD的镀膜工艺腔室，使用该镀膜工艺腔室中的加热器、等离子发生器及运输器对硅片进行镀膜，等离子发生器工作时在石英管中产生大量的热量，启动散热器中的风机，并通过出风端朝向等离子发生器中的石英管，且较多的外界凉风穿过气孔垫片上的通风口而实现石英管的及时、快速降温，避免出现石英管被烧毁的情况发生。借助一个风机同时为两个等离子发生器内的石英管进行吹风，散热效果较好。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的局部示意图；

图3为本实用新型实施例提供的石英管与气孔垫片的结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的气孔垫片的结构示意图。

其中，图中各附图标记：

1、工作腔；11、腔室主体；12、腔室上盖；13、进口；14、出口；15、腔室间连接门；2、加热器；3、运输器；4、等离子发生器；41、石英管；42、气孔垫片；43、内环状体；44、外环状体；45、连接杆；46、通风口；5、散热器；51、风机；52、出风端；53、竖向管；54、横向管。

具体实施方式

为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。

需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

请参阅图1至图4，现对本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室进行说明。一种基于PECVD的镀膜工艺腔室，包括工作腔1和安装于工作腔1内的加热器2、运输器3、多个等离子发生器4及多个散热器5；散热器5包括风机51和两个与风机51相连接的出风端52，多个出风端52与多个等离子发生器4一一对应，出风端52用于向等离子发生器4吹风散热；等离子发生器4内设有石英管41和安装于石英管41端部的气孔垫片42，气孔垫片42包括内环状体43、外环状体44及若干连接杆45，连接杆45固定安装于内环状体43和外环状体44之间；内环状体43、外环状体44及连接杆45围成多个通风口46。

本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室，与现有技术相比，使用该镀膜工艺腔室中的加热器2、等离子发生器4及运输器3对硅片进行镀膜，等离子发生器4工作时在石英管41中产生大量的热量，启动散热器5中的风机51，并通过出风端52朝向等离子发生器4中的石英管41，且较多的外界凉风穿过气孔垫片42上的通风口46而实现石英管41的及时、快速降温，避免出现石英管41被烧毁的情况发生。借助一个风机51同时为两个等离子发生器4内的石英管41进行吹风，散热效果较好。

使石英管41内及时散热也能保证硅片镀膜的均匀性，同时采用一个风机51为两个等离子发生器4散热也减少资源浪费，不会影响电池产量。

请参阅图1和图2，作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，风机51安装于工作腔1之外，散热器5还包括呈T型设置且相连通的竖向管53和横向管54，竖向管53自外向内贯穿工作腔1的顶壁，风机51与竖向管53的上端连接，横向管54安装于工作腔1内部，且与两个等离子发生器4相对应；出风端52安装于横向管54的两端；工作腔1内的多个等离子发生器4均布设置，且两两为一组，每个风机51为同组的两个等离子发生器4提供吹风散热。竖向管53和横向管54固定安装在工作腔1上，风机51安装在工作腔1之外，两个出风端52位于工作腔1内，且与同组的两个等离子发生器4相对应，进而实现风机51与两个出风端52的连通。借助竖向管53实现工作腔1的内外连通，借助横向管54是一个风机51同时对两个等离子发生器4进行吹风散热。

请参阅图1和图2，作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，竖向管53和横向管54一体成型，提高了竖向管53和横向管54之间的连接强度，同时也确保两者之间具有良好的密封性能，使风机51产生的吹风。

请参阅图1、图3和图4，作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，连接杆45为二至四个，沿内环状体43的周向均布设置；设置连接杆45的数量为二至四个，既能确保内环状体43和外环状体44牢固、可靠地固定连接在一起，又能使内环状体43、外环状体44及连接杆45所围成多个通风口46通风面积较大，以保证石英管41通风散热效果较好。

请参阅图4作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，各连接杆45的轴线方向均与内环状体43的中心共线；即，连接杆45呈放射状布置在内环状体43和外环状体44之间，以保证在多个连接杆45的作用下确保内环状体43、外环状体44稳固、可靠地连为一体。

请参阅图4，作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，内环状体43、外环状体44及连接杆45一体成型，提高了内环状体43、外环状体44及连接杆45之间的连接强度，使整个气孔垫片42的承载性能和稳定性均较高，进而在安装在石英管41上后，既能将微波铜管平稳地支撑起来，同时也能使通风口46顺利、可靠地工作。

请参阅图1，作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，工作腔1包括腔室主体11和腔室上盖12，腔室主体11的两端分别设有进口13和出口14；加热器2和运输器3安装于腔室主体11内，且运输器3位于加热器2的上方，运输器3与进口13和出口14相对应；腔室上盖12封盖于腔室主体11上；等离子发生器4和散热器5安装于腔室上盖12中；工作腔1分为两部分，一是腔室主体11，腔室主体11作为工作腔1的主体结构，起到支撑、容放的作用，加热器2和运输器3安装在腔室主体11中，且运输器3位于加热器2的上方。同时在腔室主体11的前后端分别开设进口13和出口14，便于运输器3及产品运输。二是腔室上盖12，腔室上盖12封盖于腔室主体11上，腔室上盖12与腔室主体11构成工作腔1，等离子发生器4和散热器5安装在腔室上盖12内。腔室上盖12与腔室主体11之间密封连接，且腔室上盖12与腔室主体11为可拆卸连接。

请参阅图1，作为本实用新型提供的基于PECVD的镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，工作腔1还包括两个分别安装于腔室主体11两端的腔室间连接门15，两个腔室间连接门15分别用于遮蔽进口13和出口14；在腔室上盖12上还设有两个转动连接的腔室间连接门15，两个腔室间连接门15分别安装在腔室上盖12的两端，且分别用于遮蔽进口13和出口14，在运输器3运输硅片位于工作腔1内后进行镀膜时，腔室间连接门15呈竖直状态而遮蔽进口13、出口14，使工作腔1内为封闭状态。而镀膜完成后运输器3将硅片运输出工作腔1时，而借助运输器3改变腔室间连接门15向上转动而打开进口13、出口14。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种基于PECVD的镀膜工艺腔室，包括工作腔和安装于所述工作腔内的加热器、运输器、多个等离子发生器及多个散热器；其特征在于，所述散热器包括风机和两个与所述风机相连接的出风端，多个所述出风端与多个所述等离子发生器一一对应，所述出风端用于向所述等离子发生器吹风散热；所述等离子发生器内设有石英管和安装于所述石英管端部的气孔垫片，所述气孔垫片包括内环状体、外环状体及若干连接杆，所述连接杆固定安装于所述内环状体和所述外环状体之间；所述内环状体、所述外环状体及所述连接杆围成多个通风口。

2.如权利要求1所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，所述风机安装于所述工作腔之外，所述散热器还包括呈T型设置且相连通的竖向管和横向管，所述竖向管自外向内贯穿所述工作腔的顶壁，所述风机与所述竖向管的上端连接，所述横向管安装于所述工作腔内部，且与两个所述等离子发生器相对应；所述出风端安装于所述横向管的两端。

3.如权利要求2所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，所述竖向管和所述横向管一体成型。

4.如权利要求1所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，所述连接杆为二至四个，沿所述内环状体的周向均布设置。

5.如权利要求4所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，各所述连接杆的轴线方向均与所述内环状体的中心共线。

6.如权利要求1所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，所述内环状体、所述外环状体及所述连接杆一体成型。

7.如权利要求1所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，所述工作腔包括：

腔室主体，两端分别设有进口和出口；所述加热器和所述运输器安装于所述腔室主体内，且所述运输器位于所述加热器的上方，所述运输器与所述进口和所述出口相对应；

腔室上盖，封盖于所述腔室主体上；所述等离子发生器和所述散热器安装于所述腔室上盖中。

8.如权利要求7所述的基于PECVD的镀膜工艺腔室，其特征在于，所述工作腔还包括两个分别安装于所述腔室主体两端的腔室间连接门，两个所述腔室间连接门分别用于遮蔽所述进口和所述出口。

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