CN219087377U - 一种微波批量处理等离子体系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种微波批量处理等离子体系统，所述微波发生器的上方通过螺丝安装有水负载，所述水负载的上方通过螺丝安装有三销钉调配器，所述三销钉调配器的一端通过螺丝安装有壳体，所述壳体内安装有波导天线；本实用新型通过设置微波发生器将微波电源的高频信号转化为微波，借用微波频率特性，其离子浓度较中频、射频更高，因此在微波等离子里的反应微粒数量要远远大于在中频、射频等离子里的反应等离子数量，通过该装置能够使设备反应速度更快，反应时间更短；且相对射频、中频等离子，等离子对微波的自偏压要求更低，在交底的自偏压环境下，不会对产品造成电性损伤，因此能够提高对产品的保护效果。

Description

一种微波批量处理等离子体系统

技术领域

本实用新型涉及等离子清洗设备技术领域，具体为一种微波批量处理等离子体系统。

背景技术

随着工艺技术水平的不断提高，集成电路的规模和复杂程度越来越高，生产中采用的新材料、新结构、新器件不断出现，传统等离子清洗技术在去除表面污染物的同时，不能有效避免对产品的电性损伤。

如中国专利CN205160898U公开的一种常压辉光等离子体装置，包括：进气系统、中频等离子体腔室、射频等离子体腔室和排气系统；进气系统设置于中频等离子体腔室的一端；射频等离子体腔室的一端与中频等离子体腔室的另一端固定联接，并且排气系统设置于射频等离子体腔室的另一端；通过进气系统排入的气体经由中频等离子体腔室进入射频等离子体腔室，并最终经由排气系统排出。具有这样的结构，当气体通过进行系统进入装置后，在该装置中首先使用中频电源激励在中频等离子体腔室中产生等离子体，该等离子体会继续传播至射频等离子体腔室，从而降低RF电源的击穿电压，进而顺利地产生汤生放电，最终在大面积内产生均匀辉光放电。

中频电源的自偏压是1000V左右，射频的自偏压是250V左右，较高的自偏压容易对产品造成电性损伤。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种微波批量处理等离子体系统，以解决背景技术中提到的现有中频电源自偏压较高，导致容易造成产品电性损伤的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种微波批量处理等离子体系统，包括微波发生器，所述微波发生器的上方通过螺丝安装有水负载，所述水负载的上方通过螺丝安装有三销钉调配器，所述三销钉调配器的一端通过螺丝安装有壳体，所述壳体内安装有波导天线，所述壳体的一侧设置有微波馈口，所述波导天线与微波发生器电性连接，所述壳体的一侧通过螺丝安装有矩形外壳，所述外壳的一侧设置有工艺腔体，所述壳体的顶部安装有短路器，所述水负载、三销钉调配器和短路器均与微波发生器电性连接。

优选的，所述工艺腔体呈矩形设置，所述工艺腔体的一侧设置有连接口，所述连接口的一端连接有真空发生器。

优选的，所述微波馈口的一侧设置有工艺进气口，所述工艺进气口的一端连接有气泵。

优选的，所述微波发生器的一侧安装有线缆保护套，所述线缆保护套的一端与水负载固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过设置微波发生器将微波电源的高频信号转化为微波，通过微波频率自身的低压微波激发特性，且其离子浓度较中频、射频更高，因此在微波等离子里的反应微粒数量要远远大于在中频、射频等离子里的反应等离子数量，通过该装置能够使设备反应速度更快，反应时间更短；相对射频、中频等离子，等离子对微波的自偏压要求更低，在交底的自偏压环境下，不会对产品造成电性损伤，因此能够提高对产品的保护效果。

附图说明

图1是本实用新型的轴测图；

图2是本实用新型的正视图；

图3是本实用新型的侧视图；

图4是本实用新型的俯视图。

图中：1、微波发生器；2、水负载；3、三销钉调配器；4、壳体；5、波导天线；6、微波馈口；7、外壳；8、工艺腔体；9、短路器；10、连接口；11、线缆保护套；12、工艺进气口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种微波批量处理等离子体系统，包括微波发生器1，所述微波发生器1的上方通过螺丝安装有水负载2，所述水负载2的上方通过螺丝安装有三销钉调配器3，所述三销钉调配器3的一端通过螺丝安装有壳体4，所述壳体4内安装有波导天线5，所述壳体4的一侧设置有微波馈口6，所述波导天线5与微波发生器1电性连接，所述壳体4的一侧通过螺丝安装有矩形外壳7，所述外壳7的一侧设置有工艺腔体8，所述壳体4的顶部安装有短路器9，所述水负载2、三销钉调配器3和短路器9均与微波发生器1电性连接。

通过设置微波发生器1将微波电源的高频电信号转化成微波。通过设置水负载2吸收微波发生器1反射回来的微波功率，保护微波发生器1不被损坏。水负载2和微波发生器1与现设备结构相同，水负载2为现有技术中常用的用于吸收微波的装置；波导天线5用于将微波发生器1产生的微波辐射到微波馈口6。三销钉调配器3用于改变波导的阻抗数值，从而消除反射，并使微波在工艺腔体8内形成共振，三销钉调配器3即三销钉阻抗调配器。

所述工艺腔体8呈矩形设置，所述工艺腔体8的一侧设置有连接口10，所述连接口10的一端连接有真空发生器(图中未标出)。微波源产生微波后通过波导传输通过微波馈入口即微波馈口6，把微波传导到工艺腔体8。通过设置短路器9将电磁波能量反射回去，集中到微波馈口6处，使三销钉调配器3改变波导的阻抗数值。

所述微波馈口6的一侧设置有工艺进气口12，所述工艺进气口12的一端连接有气泵(图中未标出)，在一定的真空环境里，通过外置连接气泵可以使鼓入工艺腔体8的工艺气体在微波的激励下形成等离子体。

所述微波发生器1的一侧安装有线缆保护套11，所述线缆保护套11的一端与水负载2固定连接，通过设置线缆保护套11对接线保护；

使用时，工艺腔体8在真空泵的作用下达到需要的真空环境，微波发生器1产生微波，经过水负载2、波导天线5辐射到微波馈口6，并从微波馈口6馈入到工艺腔体8里面，将工艺腔体8里面的气体电离生成微波等离子体；其中的水负载2可以吸收掉微波的输入功率，短路器9可以将电磁波能量反射回去，集中到微波馈口6处，再通过三销钉调配器3改变负载的阻抗数值从而消除反射，最终达到微波匹配的效果，从而获得高密度而稳定且自偏压低的微波等离子体。

应当注意的是：等离子的一个自然特性是可以在直接暴露在等离子的基材上，生成一种自偏压。这种自偏压取决于等离子的激励频率；比如频率为2.45GHz的微波一般仅要求5.1 5伏；而在同样的情况下，射频等离子自偏压却要求到100伏。因此微波等离子较低的自偏压不会对产品本身造成电性损伤。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (4)

1.一种微波批量处理等离子体系统，其特征在于：包括微波发生器(1)，所述微波发生器(1)的上方通过螺丝安装有水负载(2)，所述水负载(2)的上方通过螺丝安装有三销钉调配器(3)，所述三销钉调配器(3)的一端通过螺丝安装有壳体(4)，所述壳体(4)内安装有波导天线(5)，所述壳体(4)的一侧设置有微波馈口(6)，所述波导天线(5)与微波发生器(1)电性连接，所述壳体(4)的一侧通过螺丝安装有矩形外壳(7)，所述外壳(7)的一侧设置有工艺腔体(8)，所述壳体(4)的顶部安装有短路器(9)，所述水负载(2)、三销钉调配器(3)和短路器(9)均与微波发生器(1)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种微波批量处理等离子体系统，其特征在于：所述工艺腔体(8)呈矩形设置，所述工艺腔体(8)的一侧设置有连接口(10)，所述连接口(10)的一端连接有真空发生器。

3.根据权利要求2所述的一种微波批量处理等离子体系统，其特征在于：所述微波馈口(6)的一侧设置有工艺进气口(12)，所述工艺进气口(12)的一端连接有气泵。

4.根据权利要求3所述的一种微波批量处理等离子体系统，其特征在于：所述微波发生器(1)的一侧安装有线缆保护套(11)，所述线缆保护套(11)的一端与水负载(2)固定连接。

Images