CN218990239U - 一种防渗墙施工平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种防渗墙施工平台，包括导墙，所述导墙的两侧分别均设有基层，所述导墙沿着防渗墙外立面延伸方向布置，其中一个所述基层的顶端开设有排浆沟，另一个所述基层的顶端设有钻机轨枕，所述钻机轨枕的顶部设有对称设置的轨道，所述轨道的顶端设有钻井操作平台。有益效果：通过钻机稳定组件与线束固定抱箍的配合设计，液压缸的运行通过壳体带动线束固定抱箍进行高度上的调节，将线束固定抱箍套设于钻井操作平台的钻机线束表面，从而配合施工；而调节组件与线束固定抱箍的配合设计，则能够实现不移动基座而调节线束固定抱箍水平上的角度，以此对钻机线束位置的适应，提高施工效率。

Description

一种防渗墙施工平台

技术领域

本实用新型涉及水利工程技术领域，具体来说，涉及一种防渗墙施工平台。

背景技术

防渗墙是一种地下连续墙，是一种在地面施工、用特种的挖槽机械，在泥浆或称稳定液、触变泥浆、安定液护壁的情况下，通过造孔或槽，再回填墙体材料，逐段建造，最终在地下形成具有一定防渗能力的连续墙体。

目前在进行防渗墙施工时需要施工平台，目前的施工平台各部分规范有综合性说明，如中国专利202021956078.8公开了一种防渗墙施工平台，其通过在导墙上铺设碎石垫层，使施工机具产生的压力均匀地传递给导墙，使轨道保持稳固状态，从而为提高施工质量奠定了基础。但是其钻井操作平台在施工过程中其钻机线束会存在一定的震荡而进行摆动，无法对其钻机的线束进行限位和固定，难以保证施工设备的平稳运行。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

实用新型内容

针对相关技术中的问题，本实用新型提出一种防渗墙施工平台，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。

为此，本实用新型采用的具体技术方案如下：

一种防渗墙施工平台，包括导墙，所述导墙的两侧分别均设有基层，所述导墙沿着防渗墙外立面延伸方向布置，其中一个所述基层的顶端开设有排浆沟，另一个所述基层的顶端设有钻机轨枕，所述钻机轨枕的顶部设有对称设置的轨道，所述轨道的顶端设有钻井操作平台；

所述排浆沟的一侧且位于所述基层的顶端设有钻机稳定组件，所述钻机稳定组件包括位于所述基层顶端的基座，所述基座的顶端设有液压缸，所述液压缸的顶端设有壳体，所述壳体的一侧设有套设于所述钻井操作平台线束上的线束固定抱箍，所述线束固定抱箍通过调节组件与所述壳体相连接。

作为优选的，所述调节组件包括位于所述壳体内的机架，所述机架的一侧横向设置的转轴，所述转轴上设有呈十字设置的连接轴，所述连接轴的顶端设有L型支架，所述L型支架的一侧设有延伸至所述壳体外并与所述线束固定抱箍相连接的连接杆。

作为优选的，所述调节组件还包括位于所述连接轴底端的齿轮，所述齿轮的一侧设有与其相啮合的齿板，所述齿板的一端与位于所述L型支架一侧的电动伸缩杆相连接。

作为优选的，所述L型支架通过轴套与所述连接轴相连接。

作为优选的，所述壳体的一侧开设有与所述连接杆相匹配的行程孔。

作为优选的，所述导墙采用混凝土浇筑而成，混凝土的强度不低于C20。

本实用新型的有益效果为：通过钻机稳定组件与线束固定抱箍的配合设计，液压缸的运行通过壳体带动线束固定抱箍进行高度上的调节，将线束固定抱箍套设于钻井操作平台的钻机线束表面，从而配合施工；而调节组件与线束固定抱箍的配合设计，则能够实现不移动基座而调节线束固定抱箍水平上的角度，以此对钻机线束位置的适应，提高施工效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本实用新型实施例的一种防渗墙施工平台的结构示意图；

图2是根据本实用新型实施例的一种防渗墙施工平台中钻机稳定组件的结构示意图；

图3是根据本实用新型实施例的一种防渗墙施工平台中调节组件的结构示意图。

图中：

1、导墙；2、基层；3、排浆沟；4、钻机轨枕；5、轨道；6、钻井操作平台；7、基座；8、液压缸；9、壳体；10、线束固定抱箍；11、机架；12、转轴；13、连接轴；14、L型支架；15、连接杆；16、齿轮；17、齿板；18、电动伸缩杆；19、轴套。

具体实施方式

为进一步说明各实施例，本实用新型提供有附图，这些附图为本实用新型揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本实用新型的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。

根据本实用新型的实施例，提供了一种防渗墙施工平台。

实施例一；

如图1-3所示，根据本实用新型实施例的防渗墙施工平台，包括导墙1，所述导墙1的两侧分别均设有基层2，所述导墙1沿着防渗墙外立面延伸方向布置，其中一个所述基层2的顶端开设有排浆沟3，另一个所述基层2的顶端设有钻机轨枕4，所述钻机轨枕4的顶部设有对称设置的轨道5，所述轨道5的顶端设有钻井操作平台6；

所述排浆沟3的一侧且位于所述基层2的顶端设有钻机稳定组件，所述钻机稳定组件包括位于所述基层2顶端的基座7，所述基座7的顶端设有液压缸8，所述液压缸8的顶端设有壳体9，所述壳体9的一侧设有套设于所述钻井操作平台6线束上的线束固定抱箍10，所述线束固定抱箍10通过调节组件与所述壳体9相连接。

实施例二；

如图1-3所示，所述调节组件包括位于所述壳体9内的机架11，所述机架11的一侧横向设置的转轴12，所述转轴12上设有呈十字设置的连接轴13，所述连接轴13的顶端设有L型支架14，所述L型支架14的一侧设有延伸至所述壳体9外并与所述线束固定抱箍10相连接的连接杆15，所述调节组件还包括位于所述连接轴13底端的齿轮16，所述齿轮16的一侧设有与其相啮合的齿板17，所述齿板17的一端与位于所述L型支架14一侧的电动伸缩杆18相连接。

实施例三；

如图1-3所示，所述L型支架14通过轴套19与所述连接轴13相连接，所述壳体9的一侧开设有与所述连接杆15相匹配的行程孔，所述导墙1采用混凝土浇筑而成，混凝土的强度不低于C20。

为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下就本实用新型在实际过程中的工作原理或者操作方式进行详细说明。

在实际应用时，钻井操作平台6进行施工时工作人员将钻机稳定组件置于基层2上，通过液压缸8的运行通过壳体9带动线束固定抱箍10进行高度上的调节，将线束固定抱箍10套设于钻井操作平台6的钻机线束表面，从而配合施工，可通过打开固定抱箍10将钻井操作平台6的钻机线束放置于固定抱箍10内后进行关闭；需要调节线束固定抱箍10的水平位置时，可启动电动伸缩杆18带动齿板17进行延伸移动，由于齿板17与齿轮16的啮合，使得齿板17受力推动L型支架14在轴套的作用下进行转轴，以此来达到对连接杆15的调节，通过连接杆15同步带动线束固定抱箍10进行水平位置上的调节。

综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，通过钻机稳定组件与线束固定抱箍10的配合设计，液压缸8的运行通过壳体9带动线束固定抱箍10进行高度上的调节，将线束固定抱箍10套设于钻井操作平台6的钻机线束表面，从而配合施工；而调节组件与线束固定抱箍10的配合设计，则能够实现不移动基座7而调节线束固定抱箍10水平上的角度，以此对钻机线束位置的适应，提高施工效率。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种防渗墙施工平台，包括导墙(1)，所述导墙(1)的两侧分别均设有基层(2)，其特征在于，所述导墙(1)沿着防渗墙外立面延伸方向布置，其中一个所述基层(2)的顶端开设有排浆沟(3)，另一个所述基层(2)的顶端设有钻机轨枕(4)，所述钻机轨枕(4)的顶部设有对称设置的轨道(5)，所述轨道(5)的顶端设有钻井操作平台(6)；

所述排浆沟(3)的一侧且位于所述基层(2)的顶端设有钻机稳定组件，所述钻机稳定组件包括位于所述基层(2)顶端的基座(7)，所述基座(7)的顶端设有液压缸(8)，所述液压缸(8)的顶端设有壳体(9)，所述壳体(9)的一侧设有套设于所述钻井操作平台(6)线束上的线束固定抱箍(10)，所述线束固定抱箍(10)通过调节组件与所述壳体(9)相连接。

2.根据权利要求1所述的一种防渗墙施工平台，其特征在于，所述调节组件包括位于所述壳体(9)内的机架(11)，所述机架(11)的一侧横向设置的转轴(12)，所述转轴(12)上设有呈十字设置的连接轴(13)，所述连接轴(13)的顶端设有L型支架(14)，所述L型支架(14)的一侧设有延伸至所述壳体(9)外并与所述线束固定抱箍(10)相连接的连接杆(15)。

3.根据权利要求2所述的一种防渗墙施工平台，其特征在于，所述调节组件还包括位于所述连接轴(13)底端的齿轮(16)，所述齿轮(16)的一侧设有与其相啮合的齿板(17)，所述齿板(17)的一端与位于所述L型支架(14)一侧的电动伸缩杆(18)相连接。

4.根据权利要求3所述的一种防渗墙施工平台，其特征在于，所述L型支架(14)通过轴套(19)与所述连接轴(13)相连接。

5.根据权利要求4所述的一种防渗墙施工平台，其特征在于，所述壳体(9)的一侧开设有与所述连接杆(15)相匹配的行程孔。

6.根据权利要求5所述的一种防渗墙施工平台，其特征在于，所述导墙(1)采用混凝土浇筑而成，混凝土的强度不低于C20。

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