CN218933324U - 一种花洒托架连接结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种花洒托架连接结构,包括支撑主体和花洒托架;所述花洒托架包括用于挂接花洒的托架主体和与所述托架主体连接的滑动座;所述滑动座具有用于所述支撑主体穿过的滑动座通孔,所述支撑主体间隙穿过所述滑动座通孔;所述滑动座与所述支撑主体通过磁吸附结构连接。本实用新型公开的花洒托架连接结构,其滑动座与支撑主体通过磁吸附结构连接,用户单手即可调节花洒托架的高低,方便操作,提升了用户使用体验。
Description
技术领域
本实用新型涉及卫浴花洒技术领域,尤其涉及一种花洒托架连接结构。
背景技术
0花洒为卫浴用品,其用于用户淋浴冲洗用。现有技术中,花洒通过花
洒托架安装在淋浴柱的出水管或升降杆上。花洒托架的一端具有通孔,出水管或升降杆穿过通孔。花洒托架具有通孔的端部具有按钮锁止机构。用户在调节高度时,一般需要双手操作,一只手按压按钮,另一只手调节花
洒托架的高低。如用户一只手里已经握持有物品(例如,衣物、洗漱用品5等)时,则单手无法实现花洒托架的高低,只能先放下手里的物品,再去调节。现有的花洒托架的安装方式还有待改进,以提升用户使用体验。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种花洒托架连接0结构,其滑动座与支撑主体通过磁吸附结构连接,用户单手即可调节花洒托架的高低,方便操作,提升了用户使用体验。
本实用新型技术方案提供一种花洒托架连接结构,包括支撑主体和花洒托架;
所述花洒托架包括用于挂接花洒的托架主体和与所述托架主体连接5的滑动座;
所述滑动座具有用于所述支撑主体穿过的滑动座通孔,所述支撑主体间隙穿过所述滑动座通孔;
所述滑动座与所述支撑主体通过磁吸附结构连接。
在其中一项可选技术方案中,所述磁吸附结构包括第一磁铁和能够与0所述第一磁铁吸附的磁吸附元件;
所述磁吸附元件安装在所述支撑主体中,所述磁吸附元件沿着所述支撑主体的长度方向延伸;
所述第一磁铁安装在所述滑动座中,所述滑动座与所述支撑主体夹紧。
在其中一项可选技术方案中,所述第一磁铁为环绕着所述滑动座通孔布置的磁环;
所述支撑主体中沿着周向均匀地布置有两个以上的所述磁吸附元件。
在其中一项可选技术方案中,所述磁吸附结构包括内衬、第二磁铁和能够与所述第二磁铁吸附的第三磁铁;
所述第二磁铁安装在所述内衬中,所述第三磁铁安装在所述滑动座中;
所述内衬至少部分处于所述滑动座通孔中,在所述第三磁铁与所述第二磁铁的作用下,所述内衬与所述支撑主体夹紧。
在其中一项可选技术方案中,所述内衬具有内衬通孔;
所述滑动座中具有第一安装槽,所述内衬安装在所述第一安装槽中,所述支撑主体间隙穿过所述内衬通孔;
所述第二磁铁与所述第三磁铁处于所述支撑主体的同一侧,所述内衬通孔的孔壁与所述支撑主体夹紧。
在其中一项可选技术方案中,所述内衬中具有与所述内衬通孔连通的第二安装槽,所述第二安装槽朝向所述托架主体侧延伸,所述第二磁铁安装在所述第二安装槽中;
所述滑动座朝向所述托架主体的一端具有第三安装槽,所述第三磁铁安装在所述第三安装槽中。
在其中一项可选技术方案中,所述支撑主体包括主板,所述主板朝向所述托架主体的一侧具有连接板;
所述主板及所述连接板均穿过所述滑动座通孔;
所述内衬包括内衬主体和与所述内衬主体连接的内衬插接端,所述第二磁铁安装在所述内衬插接端中;
所述内衬主体安装在所述滑动座通孔的外侧,所述内衬插接端插入所述滑动座通孔中,并处于连接板的一侧;
所述第三磁铁与所述第二磁铁处于所述连接板的相对两侧,所述内衬插接端与所述连接板夹紧。
在其中一项可选技术方案中,所述主板上设置有两块所述连接板;
所述内衬插接端处于两块所述连接板之间,所述第三磁铁与所述第二磁铁处于其中一块所述连接板的相对两侧,所述内衬插接端与一块所述连接板夹紧。
在其中一项可选技术方案中,所述内衬插接端中具有第四安装槽,所述第二磁铁安装在所述第四安装槽中;
所述第四安装槽面向所述第三磁铁的一侧的槽壁上具有槽壁通孔。
在其中一项可选技术方案中,所述托架主体的一端具有容纳槽和与所述容纳槽连通的导向孔;
所述滑动座安装在所述容纳槽中,所述支撑主体穿过所述导向孔。
采用上述技术方案,具有如下有益效果:
本实用新型提供的花洒托架连接结构由支撑主体和花洒托架组成,花洒托架包括托架主体和滑动座,托架主体用于悬挂花洒,滑动座与支撑主体滑动连接,支撑主体穿过滑动座的滑动座通孔,滑动座与支撑主体通过磁吸附结构连接。在花洒托架不受外力作用时,花洒托架与支撑主体通过磁吸附结构保持相对固定。当用户需要调节花洒托架的高低时,可单手作用花洒托架,克服磁吸附结构的作用力,使得花洒托架相对于支撑主体移动,以实现花洒托架的位置调节。在调节完成后,用户释放作用力,则在磁吸附结构的作用下,花洒托架与支撑主体再次通过磁吸附结构保持相对固定。
综上所述,本实用新型提供的花洒托架连接结构,其滑动座与支撑主体通过磁吸附结构连接,用户单手即可调节花洒托架的高低,方便操作,提升了用户使用体验。
附图说明
参见附图,本实用新型的公开内容将变得更易理解。应当理解:这些附图仅仅用于说明的目的,而并非意在对本实用新型的保护范围构成限制。图中:
图1为本实用新型第一实施例提供的花洒托架连接结构的立体图;
图2为图1所示的花洒托架连接结构的爆炸图;
图3为图1所示的花洒托架连接结构沿着支撑主体的高度方向的剖视图;
图4为图1所示的花洒托架连接结构沿着托架主体的长度方向的剖视图;
图5为图1所示的花洒托架连接结构的托架主体沿着长度方向的剖视图;
图6为本实用新型第二实施例提供的花洒托架连接结构的立体图;
图7为图6所示的花洒托架连接结构的爆炸图;
图8为图6所示的花洒托架连接结构沿着支撑主体的高度方向的剖视图;
图9为图6所示的花洒托架连接结构沿着托架主体的长度方向的剖视图;
图10为图6所示的花洒托架连接结构的托架主体沿着长度方向的剖视图;
图11为图7所示的花洒托架连接结构的滑动座的立体图;
图12为图9所示的花洒托架连接结构的第三磁铁安装在滑动座中的剖视图;
图13为图7所示的花洒托架连接结构的内衬的立体图;
图14为图9所示的花洒托架连接结构的第二磁铁安装在内衬中的剖视图;
图15为本实用新型第三实施例提供的花洒托架连接结构的立体图;
图16为图15所示的花洒托架连接结构的爆炸图;
图17为图15所示的花洒托架连接结构沿着托架主体的长度方向的剖视图;
图18为图16所示的花洒托架连接结构的托架主体的立体图;
图19为图18所示的托架主体沿着长度方向的剖视图;
图20为图17所示的花洒托架连接结构的第三磁铁安装在滑动座中的剖视图;
图21为图17所示的花洒托架连接结构的第二磁铁安装在内衬插接端中的剖视图;
图22为图17的局部放大图;
图23为图16所示的花洒托架连接结构的滑动座的立体图;
图24为图16所示的花洒托架连接结构的内衬的立体图。
具体实施方式
下面结合附图来进一步说明本实用新型的具体实施方式。其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是,下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向,词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
本实用新型中,图1-5为本实用新型第一实施例提供的一种花洒托架连接结构;图6-14为本实用新型第二实施例提供的另一种花洒托架连接结构;图15-24为本实用新型第三实施例提供的再一种花洒托架连接结构。
如图1-2、图6-7和图15-16所示,本实用新型实施例提供的一种花洒托架连接结构,包括支撑主体1和花洒托架2。
花洒托架2包括用于挂接花洒的托架主体21和与托架主体21连接的滑动座22。
滑动座22具有用于支撑主体1穿过的滑动座通孔221,支撑主体1间隙穿过滑动座通孔221。
滑动座22与支撑主体1通过磁吸附结构3连接。
本实用新型提供的花洒托架连接结构主要由支撑主体1和花洒托架2组成。支撑主体1可为管、柱、板、型材、升降杆、淋浴柱的出水管等。花洒托架2用于挂接花洒。支撑主体1可竖直布置,也可倾斜布置。
花洒托架2包括托架主体21和滑动座22。滑动座22与托架主体21连接。托架主体21远离滑动座22的一端具有主体夹槽211,用于挂接花洒的手柄。滑动座22与支撑主体1滑动连接,滑动座22可沿着支撑主体1滑动以调节位置。滑动座22具有滑动座通孔221,支撑主体1穿过滑动座通孔221,支撑主体1与滑动座通孔221间隙配合。
滑动座22与支撑主体1通过磁吸附结构3连接。磁吸附结构3可为磁铁与磁铁组件,也可为磁铁与铁片/杆组件等。
一种装配方式:支撑主体1上可设置磁铁条、或铁片/杆,滑动座22上可配置磁铁块、磁铁环等、磁铁块、磁铁环与磁铁条、铁片/杆吸附连接,使得滑动座22固定在支撑主体1上。
另装配一种方式:在滑动座22中配置内衬、夹块等,在内衬/夹块中配置一块磁铁,在滑动座22中配置另一块磁铁,通过两块磁铁的吸附使得内衬/夹块夹紧支撑主体1,从而将滑动座22固定在支撑主体1上。
关于磁吸附结构3的其他装配方式,在此不再赘述。
本实用新型提供的花洒托架连接结构,滑动座22与支撑主体1通过磁吸附结构3连接。在花洒托架2不受外力作用时,花洒托架2与支撑主体1通过磁吸附结构3保持相对固定。当用户需要调节花洒托架2的高低时,可单手作用花洒托架2,克服磁吸附结构3的作用力,使得花洒托架2相对于支撑主体1移动,以实现花洒托架2的位置调节。在调节完成后,用户释放作用力,则在磁吸附结构3的作用下,花洒托架2与支撑主体1再次通过磁吸附结构3保持相对固定。
综上,本实用新型提供的花洒托架连接结构,其滑动座22与支撑主体1通过磁吸附结构3连接,用户单手即可调节花洒托架2的高低,方便操作,提升了用户使用体验。
在其中一个实施例中,如图2-4所示,磁吸附结构3包括第一磁铁31和能够与第一磁铁31吸附的磁吸附元件32。
磁吸附元件32安装在支撑主体1中,磁吸附元件32沿着支撑主体1的长度方向延伸。
第一磁铁31安装在滑动座22中,滑动座22与支撑主体1夹紧。
本实施例中,磁吸附结构3采用第一磁铁31和磁吸附元件32,磁吸附元件32能够与第一磁铁31相互吸附。磁吸附元件32可为铁杆、铁片、磁性杆、磁性片等。支撑主体1可为支撑管,磁吸附元件32安装在支撑主体1中。磁吸附元件32呈长条状,其沿着支撑主体1的长度/高度方向延伸。第一磁铁31安装在滑动座22中。在第一磁铁31与磁吸附元件32相互吸附的作用下,滑动座22与支撑主体1夹紧,从而将滑动座22固定在支撑主体1上,花洒托架2与支撑主体1保持相对固定。
当用户需要调节花洒托架2的高低时,可单手作用花洒托架2,克服第一磁铁31与磁吸附元件32的吸附力,使得滑动座22相对于支撑主体1移动,以实现花洒托架2的位置调节。在调节完成后,用户释放作用力,则在第一磁铁31与磁吸附元件32的吸附力作用下,花洒托架2与支撑主体1再次保持相对固定。
在其中一个实施例中,如图2-4所示,第一磁铁31为环绕着滑动座通孔221布置的磁环。
支撑主体1中沿着周向均匀地布置有两个以上的磁吸附元件32。
本实施例中,第一磁铁31为磁环,其沿着滑动座通孔221布置。两个以上的磁吸附元件32布置在支撑主体1中,两个以上的磁吸附元件32在支撑主体1中沿着圆周方向均匀布置,每个磁吸附元件32都可与磁环吸附,提升了磁吸附的稳定性。
在其中一个实施例中,如图7-9和图16-17所示,磁吸附结构3包括内衬33、第二磁铁34和能够与第二磁铁34吸附的第三磁铁35。
第二磁铁34安装在内衬33中,第三磁铁35安装在滑动座22中。
内衬33至少部分处于滑动座通孔221中,在第三磁铁35与第二磁铁34的作用下,内衬33与支撑主体1夹紧。
本实施例中,磁吸附结构3包括内衬33、第二磁铁34和第三磁铁35。第二磁铁34装配在内衬33中,第三磁铁35装配在滑动座22中,第三磁铁35能够与第二磁铁34相互吸附。内衬33至少部分处于滑动座通孔221中,以夹紧支撑主体1,从而将滑动座22固定在支撑主体1上,花洒托架2与支撑主体1保持相对固定。
当用户需要调节花洒托架2的高低时,可单手作用花洒托架2,克服第二磁铁34和第三磁铁35的吸附力,使得滑动座22相对于支撑主体1移动,以实现花洒托架2的位置调节。在调节完成后,用户释放作用力,则在第二磁铁34和第三磁铁35的吸附力作用下,花洒托架2与支撑主体1再次保持相对固定。
在其中一个实施例中,如图7-9和图11所示,内衬33具有内衬通孔331。
滑动座22中具有第一安装槽222,内衬33安装在第一安装槽222中,支撑主体1间隙穿过内衬通孔331。
第二磁铁34与第三磁铁35处于支撑主体1的同一侧,内衬通孔331的孔壁与支撑主体1夹紧。
本实施例中,内衬33呈块状,其具有用于支撑主体1间隙穿过的内衬通孔331。滑动座22中具有用于安装内衬33的第一安装槽222,第一安装槽222与滑动座通孔221连通。
内衬33安装在第一安装槽222中,内衬通孔331与滑动座通孔221对齐,支撑主体1间隙穿过内衬通孔331和滑动座通孔221。第二磁铁34与第三磁铁35处于支撑主体1的同一侧。在第二磁铁34与第三磁铁35的吸附力作用下,拉动内衬33朝向第三磁铁35侧移动,使得内衬通孔331远离第三磁铁35侧的孔壁与支撑主体1夹紧,从而将滑动座22固定在支撑主体1上,花洒托架2与支撑主体1保持相对固定。
在其中一个实施例中,如图9和图11-14所示,内衬33中具有与内衬通孔331连通的第二安装槽332,第二安装槽332朝向托架主体21侧延伸,第二磁铁34安装在第二安装槽332中。
滑动座22朝向托架主体21的一端具有第三安装槽223,第三磁铁35安装在第三安装槽223中。
本实施例中,内衬33中具有第二安装槽332,第二安装槽332朝向托架主体21侧延伸,第二安装槽332与内衬通孔331连通,第二磁铁34安装在第二安装槽332中。
滑动座22与托架主体21相接一端具有第三安装槽223,第三安装槽223朝向第二安装槽332延伸,第三磁铁35安装在第三安装槽223中,减小了第三磁铁35与第二磁铁34之间的距离,提高了第三磁铁35与第二磁铁34的吸附能力。
在其中一个实施例中,如图15-17和图22所示,支撑主体1包括主板11,主板11朝向托架主体21的一侧具有连接板12。
主板11及连接板12均穿过滑动座通孔221。
内衬33包括内衬主体333和与内衬主体333连接的内衬插接端334,第二磁铁34安装在内衬插接端334中。
内衬主体333安装在滑动座通孔221的外侧,内衬插接端334插入滑动座通孔221中,并处于连接板12的一侧。
第三磁铁35与第二磁铁34处于连接板12的相对两侧,内衬插接端334与连接板12夹紧。
本实施例中,支撑主体1包括主板11和连接板12,连接板12连接在主板11面向托架主体21的一侧。主板11和连接板12都穿过滑动座通孔221。
内衬33包括内衬主体333和内衬插接端334,内衬插接端334连接在内衬主体333远离托架主体21的一端,内衬插接端334与内衬主体333一体成型。内衬主体333呈筒状或柱状,内衬插接端334呈扁平状。
第二磁铁34安装在内衬插接端334中。内衬插接端334处于连接板12的内侧。
滑动座22处于连接板12的外侧具有安装孔224,第三磁铁35安装在安装孔224中。第三磁铁35处于连接板12的外侧,第二磁铁34处于连接板12的内侧。在第三磁铁35与第二磁铁34的吸附作用下,内衬插接端334夹紧连接板12,从而将滑动座22固定在支撑主体1上,花洒托架2与支撑主体1保持相对固定。
当用户需要调节花洒托架2的高低时,可单手作用花洒托架2,克服第二磁铁34和第三磁铁35的吸附力,使得滑动座22相对于支撑主体1移动,以实现花洒托架2的位置调节。在调节完成后,用户释放作用力,则在第二磁铁34和第三磁铁35的吸附力作用下,花洒托架2与支撑主体1再次保持相对固定。
在其中一个实施例中,如图15-17和图22所示,主板11上设置有两块连接板12。
内衬插接端334处于两块连接板12之间,第三磁铁35与第二磁铁34处于其中一块连接板12的相对两侧,内衬插接端334与一块连接板12夹紧。
本实施例中,用户可根据需要,选择将第三磁铁35放置在左侧或右侧的安装孔224中。
在其中一个实施例中,如图20-24所示,内衬插接端334中具有第四安装槽335,第二磁铁34安装在第四安装槽335中。
第四安装槽335面向第三磁铁35的一侧的槽壁上具有槽壁通孔336。
本实施例中,内衬插接端334具有第四安装槽335,第四安装槽335沿着内衬插接端334的宽度方向延伸。第四安装槽335的槽口处于远离第三磁铁35的一侧,第二磁铁34安装在第四安装槽335面向第三磁铁35侧的槽壁上,该侧槽壁上具有槽壁通孔336,槽壁通孔336的面积小于第二磁铁34的面积,第二磁铁34的部分从槽壁通孔336露出,以便与第三磁铁35吸附,使得第四安装槽335面向第三磁铁35侧的槽壁与滑动座22夹紧连接板12。
在其中一个实施例中,如图1-10和图15-19所示,托架主体21的一端具有容纳槽213和与容纳槽213连通的导向孔212。
滑动座22安装在容纳槽213中,支撑主体1穿过导向孔212。
本实施例中,托架主体21朝向支撑主体1的一端具有容纳槽213和与导向孔212,导向孔212与容纳槽213连通。导向孔212用于支撑主体1穿过。滑动座22装配在容纳槽213中,支撑主体1在穿过滑动座通孔221后再穿出导向孔212,缩短了支撑主体1与主体夹槽211之间的距离,利于连接结构稳定。
如图2和图7所示,当支撑主体1为圆柱或圆管时,则导向孔212为圆孔。当支撑主体1为方管或方柱时,则导向孔212为方形孔。如图16和图18所示,当支撑主体1包括主板11和连接板12时,则导向孔212包括长条形的第一导向孔2121和长条形的第二导向孔2122,第二导向孔2122与第一导向孔2121连通。第一导向孔2121用于主板11穿过,第二导向孔2122用于连接板12穿过。
在其中一个实施例中,如图19-22所示,滑动座22面向容纳槽213的槽底的一侧具有装配槽225,装配槽225的槽底具有豁口226。内衬主体333处于装配槽225中,由装配槽225的槽底和容纳槽213的槽底限制衬主体333的移动。内衬插接端334经豁口226插入滑动座通孔221中。
根据需要,可以将上述各技术方案进行结合,以达到最佳技术效果。
以上的仅是本实用新型的原理和较佳的实施例。应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在本实用新型原理的基础上,还可以做出若干其它变型,也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种花洒托架连接结构,其特征在于,包括支撑主体和花洒托架;
所述花洒托架包括用于挂接花洒的托架主体和与所述托架主体连接的滑动座;
所述滑动座具有用于所述支撑主体穿过的滑动座通孔,所述支撑主体间隙穿过所述滑动座通孔;
所述滑动座与所述支撑主体通过磁吸附结构连接。
2.根据权利要求1所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述磁吸附结构包括第一磁铁和能够与所述第一磁铁吸附的磁吸附元件;
所述磁吸附元件安装在所述支撑主体中,所述磁吸附元件沿着所述支撑主体的长度方向延伸;
所述第一磁铁安装在所述滑动座中,所述滑动座与所述支撑主体夹紧。
3.根据权利要求2所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述第一磁铁为环绕着所述滑动座通孔布置的磁环;
所述支撑主体中沿着周向均匀地布置有两个以上的所述磁吸附元件。
4.根据权利要求1所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述磁吸附结构包括内衬、第二磁铁和能够与所述第二磁铁吸附的第三磁铁;
所述第二磁铁安装在所述内衬中,所述第三磁铁安装在所述滑动座中;
所述内衬至少部分处于所述滑动座通孔中,在所述第三磁铁与所述第二磁铁的作用下,所述内衬与所述支撑主体夹紧。
5.根据权利要求4所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述内衬具有内衬通孔;
所述滑动座中具有第一安装槽,所述内衬安装在所述第一安装槽中,所述支撑主体间隙穿过所述内衬通孔;
所述第二磁铁与所述第三磁铁处于所述支撑主体的同一侧,所述内衬通孔的孔壁与所述支撑主体夹紧。
6.根据权利要求5所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述内衬中具有与所述内衬通孔连通的第二安装槽,所述第二安装槽朝向所述托架主体侧延伸,所述第二磁铁安装在所述第二安装槽中;
所述滑动座朝向所述托架主体的一端具有第三安装槽,所述第三磁铁安装在所述第三安装槽中。
7.根据权利要求4所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述支撑主体包括主板,所述主板朝向所述托架主体的一侧具有连接板;
所述主板及所述连接板均穿过所述滑动座通孔;
所述内衬包括内衬主体和与所述内衬主体连接的内衬插接端,所述第二磁铁安装在所述内衬插接端中;
所述内衬主体安装在所述滑动座通孔的外侧,所述内衬插接端插入所述滑动座通孔中,并处于连接板的一侧;
所述第三磁铁与所述第二磁铁处于所述连接板的相对两侧,所述内衬插接端与所述连接板夹紧。
8.根据权利要求7所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述主板上设置有两块所述连接板;
所述内衬插接端处于两块所述连接板之间,所述第三磁铁与所述第二磁铁处于其中一块所述连接板的相对两侧,所述内衬插接端与一块所述连接板夹紧。
9.根据权利要求7所述的花洒托架连接结构,其特征在于,所述内衬插接端中具有第四安装槽,所述第二磁铁安装在所述第四安装槽中;
所述第四安装槽面向所述第三磁铁的一侧的槽壁上具有槽壁通孔。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的花洒托架连接结构,其特征在于,
所述托架主体的一端具有容纳槽和与所述容纳槽连通的导向孔;
所述滑动座安装在所述容纳槽中,所述支撑主体穿过所述导向孔。
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2022
- 2022-12-26 CN CN202223482760.XU patent/CN218933324U/zh active Active
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |