CN218900498U - 气体流量稳定的麻醉系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于麻醉医疗设备技术领域，具体是一种气体流量稳定的麻醉系统。技术方案包括：温度补偿件和蒸发室。温度补偿件设置于蒸发室的端口处，且温度补偿件和蒸发室之间密封设置。温度补偿件包括：第一旁路供气管路、第二旁路供气管路、载气供气管路和温度补偿阀。第一旁路供气管路一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；第二旁路供气管路一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；载气供气管路一端与气源连通，另一端与麻醉挥发罐连通；温度补偿阀设置于第二旁路供气管路和载气供气管路上，温度补偿阀被配置为根据麻醉挥发罐内的温度，加大载气供气管路的气流量，且同时等量的降低第二旁路供气管路的气流量。

Description

气体流量稳定的麻醉系统

技术领域

本实用新型属于麻醉医疗设备技术领域，具体是一种气体流量稳定的麻醉系统。

背景技术

麻醉挥发罐是麻醉机的重要组成部分，麻醉挥发罐包括蒸汽室、载气管路和旁路，载气管路和旁路均与气源连通，载气管路延伸至蒸汽室内，具体工作时，一部分气体自旁路至呼吸管路，另一部分气体通过载气管路进入蒸汽室，在经过蒸汽室进入呼吸管路。另一部分气体带走蒸汽室内的麻醉蒸汽，麻醉蒸汽与旁路中的气体以及载气管路中的气体混合后形成麻醉气体。为了确保病人安全，对麻醉气体的浓度控制要求极高，可以理解的是，麻醉气体的浓度与另一部分气体带走的麻醉蒸汽的量有直接关系，即另一部分气体的流速、以及蒸发室内的温度是影响麻醉气体浓度的因素，而随着麻醉蒸汽自蒸发室内被带走，蒸发室内的温度会明显下降。

为此，大部分麻醉挥发罐具有温度补偿装置，温度补偿装置可以随着蒸发室内温度降低，使气体导入蒸发室内的流速增大，从而使麻醉气体的浓度趋于恒定。

大部分温度补偿装置是通过金属杆受温度影响造成膨胀或者收缩，来控制载气管路的开启程度。但是，当载气管路开启幅度变化时，旁路的管径保持不变，而且气源的气压不能快速的跟随变化，实际麻醉挥发罐的气体管路的总管径扩大，即麻醉气体浓度保持稳定的前提下，麻醉气体总量增大，可能对人体造成其它伤害，而对于手术中的病人而言，可能影响手术正常进行。

实用新型内容

为克服上述相关技术中的缺陷，本实用新型提供一种气体流量稳定的麻醉系统，可以在确保麻醉气体浓度稳定的前提下，麻醉气体的流速和总量基本稳定。

本实用新型提供气体流量稳定的麻醉系统。所述的气体流量稳定的麻醉挥发罐包括：温度补偿件和蒸发室。所述温度补偿件设置于所述蒸发室的端口处，且所述温度补偿件和所述蒸发室之间密封设置。

所述温度补偿件包括：第一旁路供气管路、第二旁路供气管路、载气供气管路和温度补偿阀。第一旁路供气管路一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；第二旁路供气管路一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；载气供气管路一端与气源连通，另一端与麻醉挥发罐连通；温度补偿阀设置于所述第二旁路供气管路和所述载气供气管路上，所述温度补偿阀被配置为根据所述麻醉挥发罐内的温度，加大所述载气供气管路的气流量，且同时等量的降低所述第二旁路供气管路的气流量。

优选地，所述温度补偿阀包括：阀座、阀芯和阀杆。至少部分所述第二旁路供气管路和至少部分所述载气供气管路设置于所述阀座内。所述第二旁路供气管路和所述载气供气管路之间的阀座中设置有腔体，所述腔体内活动设置有阀芯，所述阀芯被配置为控制所述第二旁路供气管路或所述载气供气管路的导通或闭合。所述阀杆竖直设置，所述阀杆一端与所述阀芯固定连接，所述阀杆被配置为根据所述蒸发室内的温度，驱动所述阀芯向靠近所述第二旁路供气管路的方向运行，或者驱动所述阀芯向靠近所述载气供气管路的方向运行。

优选地，所述第二旁路供气管路的内径与所述载气供气管路内径相同。

优选地，所述腔体的上方设置有第二旁路供气管路，所述腔体与所述第二旁路供气管路通过第一间隙连通。所述腔体的下方设置有载气供气管路，所述腔体与所述载气供气管路通过第二间隙连通。所述阀芯包括第一阀块，所述第一阀块活动设置于所述第一间隙内，所述第一阀块被配置为控制所述第二旁路供气管路的导通或闭合。所述阀芯包括第二阀块，所述第二阀块活动设置于所述第二间隙内，所述第二阀块被配置为控制所述载气供气管路的导通或闭合。

优选地，所述温度补偿件还包括载气排气管路，所述载气排气管路的一端与蒸发室连通，另一端与呼吸回路连通。

优选地，所述阀座包括低温度膨胀系数的金属材料。

优选地，所述阀杆包括高温度膨胀系数的金属材料。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型通过温度补偿阀，将载气供气管路中增加的气流量在第二旁路供气管路中等量的减少，实现麻醉气体的浓度提高的同时，麻醉气体总量不变的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型的结构图；

图2为本实用新型的温度补偿件的结构图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

以下通过实施例具体阐述：

本实用新型的一些实施例提供气体流量稳定的麻醉系统。如图1和图2所示，所述气体流量稳定的麻醉挥发罐包括：温度补偿件1和蒸发室2，所述温度补偿件1设置于所述蒸发室2的端口处，且所述温度补偿件1和所述蒸发室2之间密封设置。

示例性地，蒸发室2可以是上部具有开口的瓶体结构，温度补偿件1固定于蒸发室2的瓶口处，温度补偿件1的部分结构延伸至瓶内部，用于接触麻醉药液并采集蒸发室2内的温度。可以理解的是，为防止麻醉蒸汽逃逸，蒸发室2与温度补偿件1之间可以采用密封设置。

在本实施例中，所述温度补偿件1包括：第一旁路供气管路11、第二旁路供气管路12、载气供气管路13和温度补偿阀14。第一旁路供气管路11一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；第二旁路供气管路12一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；载气供气管路13一端与气源连通，另一端与麻醉挥发罐连通；温度补偿阀14设置于所述第二旁路供气管路12和所述载气供气管路13上，所述温度补偿阀14被配置为根据所述麻醉挥发罐内的温度，加大所述载气供气管路13的气流量，且同时等量的降低所述第二旁路供气管路12的气流量。

示例性地，温度补偿件1整体可以是金属块或者塑料块，第一旁路供气管路11可以是金属块或者塑料块上的通气管路。第二旁路供气管路12可以是金属块或者塑料块上的通气管路，一般地，第一旁路供气管路11可以与第二旁路供气管路12平行设置。

载气供气管路13设置于温度补偿件1上，载气供气管路13的另一端可以向下朝向蒸发室2内部。

在第二旁路供气管路12和载气供气管路13上，设置有温度补偿阀14，温度补偿阀14的一部分设置于蒸发室2内，用于采集蒸发室2内的温度，温度补偿阀14可以随着蒸发室2内的温度降低，控制载气供气管路13上的阀门开启量增大，使载气供气管路13提供的气体流量增大，同时控制第二旁路供气管路12阀门开启量减小，使第二旁路供气管路12提供的气体流量减小，且第二旁路供气管路12的气体减小量与载气供气管路13的气体增加量一致。

温度补偿件1例如可以包括两个电磁流量阀、温度传感器以及微处理器，载气供气管路13和第二旁路供气管路12上各设置一个电磁流量阀，温度传感器被配置为采集蒸发室2内的温度并上传至微处理器，微处理器根据温度传感器上传的温度控制对应的电磁流量阀的开启量或闭合量。

温度补偿件1可以增大进入蒸发室2内的气体流量，对蒸发室2内温度降低导致的麻醉蒸汽量减少造成的麻醉气体浓度进行补偿。同时第二旁路供气管路12可以同步减少气体流量，且减少的气体流量与蒸发室2内增加的气体流量相同，如此实现呼吸管路中的麻醉气体浓度上升，且麻醉气体总量平稳，不会出现明显的波动和总量增加的情况。

在一些实施例中，所述温度补偿阀14包括：阀座、阀芯143和阀杆144。至少部分所述第二旁路供气管路12和至少部分所述载气供气管路13设置于所述阀座内。所述第二旁路供气管路12和所述载气供气管路13之间的阀座中设置有腔体，所述腔体内活动设置有阀芯143，所述阀芯143被配置为控制所述第二旁路供气管路12或所述载气供气管路13的导通或闭合。所述阀杆144竖直设置，所述阀杆144一端与所述阀芯143固定连接，所述阀杆144被配置为根据所述蒸发室2内的温度，驱动所述阀芯143向靠近所述第二旁路供气管路12的方向运行，或者驱动所述阀芯143向靠近所述载气供气管路13的方向运行。

所述腔体的上方设置有第二旁路供气管路12，所述腔体与所述第二旁路供气管路12通过第一间隙连通；

所述腔体的下方设置有载气供气管路13，所述腔体与所述载气供气管路13通过第二间隙连通；

所述阀芯143包括第一阀块145，所述第一阀块145活动设置于所述第一间隙内，所述第一阀块145被配置为控制所述第二旁路供气管路12的导通或闭合；

所述阀芯143包括第二阀块146，所述第二阀块146活动设置于所述第二间隙内，所述第二阀块146被配置为控制所述载气供气管路13的导通或闭合。

在一些实施例中，所述阀座包括低温度膨胀系数的金属材料。

在一些实施例中，所述阀杆144包括高温度膨胀系数的金属材料。

示例性地，温度补偿阀14包括阀座，其中阀座可以包括上阀座141和下阀座142，上阀座141和下阀座142均可以为低温度膨胀系数金属，所谓低温度膨胀系数金属是指：至少在0℃~50℃的范围内，低温度膨胀系数金属的体积不会随温度的变化而变化，例如，低温度膨胀系数金属可以为殷钢。

载气供气管路13可以设置于下阀座142中，下阀座142的上端面设置有第二凹槽，第二凹槽通过第二间隙与载气供气管路13连通，第一旁路供气管路11和第二旁路供气管路12可以设置于上阀座141中，其中，第一旁路供气管路11和第二旁路供气管路12可以平行设置，且第一旁路供气管路11设置于第二旁路供气管路12上方。上阀座141的下端面设置有第一凹槽，第一凹槽通过第一间隙与载气供气管路13连通。上阀座141和下阀座142可以扣合在一起，第一凹槽与第二凹槽合拢形成腔体，腔体内设置有阀芯143，例如，第一凹槽和第二凹槽可以为圆形槽，阀芯143可以为圆柱结构，阀芯143的侧面与腔体内侧壁之间设置有密封圈，避免第二旁路供气管路12与载气供气管路13之间出现气体泄露的现象。

阀芯143的上端面上还固定有第一阀块145，第一阀块145活动设置于第一间隙内，阀芯143的下端面上还固定有第二阀块146，第二阀块146活动设置于第二间隙内。当阀芯143被驱动向上方运行时，第一阀块145自第一间隙内运行至第二旁路供气管路12中，可以减小第二旁路供气管路12的截面大小，进而减小第二旁路供气管路12的气流量。同时，第二阀块146自载气供气管路13运行至第二间隙中，使第二旁路供气管路12减小的截面与载气供气管路13增加的截面大小一致。

第二凹槽的下端面还设置有用于安置阀杆144的盲孔，阀杆144可以采用高温度膨胀系数金属，所述高温度膨胀系数金属是指：至少在0℃~50℃的范围内，高温度膨胀系数金属的体积随温度的变化而等比例变化，例如高温度膨胀系数金属可以采用铜。

为使阀杆144可以直接被蒸发室2内的温度影响，下阀座142可以向下延伸至蒸发室2内，例如下阀座142可以延伸至蒸发室2的麻醉药剂中，阀杆144设置于下阀座142内，且阀杆144下端与下阀座142接触，当蒸发室2内的温度降低，阀杆144受温度影响而收缩，可以驱动阀芯143相对阀座向上运行，使载气供气管路13的内径截面增大，同时第二旁路供气管路12的内径截面相应减小，且载气供气管路13的内径截面和第二旁路供气管路12的内径截面的变化相同。可以增大载气供气管路13的气流量，增大的气流量可以对因蒸发室2内温度降低造成的麻醉气体浓度降低进行补偿。

可以理解的是，在初期使用时，蒸发室2内温度较高，第二阀块146在初始时插接至载气供气管路13内，随着麻醉挥发罐的正常运行，蒸发室2内的温度持续下降，阀杆144随温度降低而驱动阀芯143相对阀座向上运行。

第二旁路供气管路12内壁中间与第一间隙的内侧壁相切，第二旁路供气管路12上半部分可以是半圆形截面，第一阀块145是与第二旁路供气管路12的上半部分和第一间隙相适应的金属块或橡胶材质。同理，载气供气管路13的内壁中间与第二间隙的内侧壁相切，载气供气管路13下半部分可以是半圆形截面，第二阀块146是与载气供气管路13的下半部分和第二间隙相适应的金属块或橡胶材质。

当第一阀块145完全插接至第二旁路供气管路12中时，第二阀块146完全离开载气供气管路13内；反之，第二阀块146完全插接至载气供气管路13中时，第一阀块145完全离开第二旁路供气管路12内。实现，载气供气管路13的增大或减小的截面面积与第二旁路供气管路12减小或增大的截面面积大小一致。

在一些实施例中，所述温度补偿件1还包括载气排气管路，所述载气排气管路的一端与蒸发室2连通，另一端与呼吸回路连通。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，包括：温度补偿件和蒸发室，所述温度补偿件设置于所述蒸发室的端口处，且所述温度补偿件和所述蒸发室之间密封设置；

所述温度补偿件包括：

第一旁路供气管路，一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；

第二旁路供气管路，一端与气源连通，另一端与呼吸回路连通；

载气供气管路，一端与气源连通，另一端与麻醉挥发罐连通；

温度补偿阀，设置于所述第二旁路供气管路和所述载气供气管路上，所述温度补偿阀被配置为根据所述麻醉挥发罐内的温度，加大所述载气供气管路的气流量，且同时等量的降低所述第二旁路供气管路的气流量。

2.根据权利要求1所述的气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，所述温度补偿阀包括：

阀座，至少部分所述第二旁路供气管路和至少部分所述载气供气管路设置于所述阀座内；

阀芯，所述第二旁路供气管路和所述载气供气管路之间的阀座中设置有腔体，所述腔体内活动设置有阀芯，所述阀芯被配置为控制所述第二旁路供气管路或所述载气供气管路的导通或闭合；

阀杆，所述阀杆竖直设置，所述阀杆一端与所述阀芯固定连接，所述阀杆被配置为根据所述蒸发室内的温度，驱动所述阀芯向靠近所述第二旁路供气管路的方向运行，或者驱动所述阀芯向靠近所述载气供气管路的方向运行。

3.根据权利要求2所述的气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，所述第二旁路供气管路的内径与所述载气供气管路内径相同。

4.根据权利要求3所述的气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，所述腔体的上方设置有第二旁路供气管路，所述腔体与所述第二旁路供气管路通过第一间隙连通；

所述腔体的下方设置有载气供气管路，所述腔体与所述载气供气管路通过第二间隙连通；

所述阀芯包括第一阀块，所述第一阀块活动设置于所述第一间隙内，所述第一阀块被配置为控制所述第二旁路供气管路的导通或闭合；

所述阀芯包括第二阀块，所述第二阀块活动设置于所述第二间隙内，所述第二阀块被配置为控制所述载气供气管路的导通或闭合。

5.根据权利要求4所述的气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，所述温度补偿件还包括载气排气管路，所述载气排气管路的一端与蒸发室连通，另一端与呼吸回路连通。

6.根据权利要求5所述的气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，所述阀座包括低温度膨胀系数的金属材料。

7.根据权利要求6所述的气体流量稳定的麻醉系统，其特征在于，所述阀杆包括高温度膨胀系数的金属材料。

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