CN218894165U - 卫浴设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种卫浴设备,包括:本体、水箱、电气组件及箱盖;本体具有收容腔;水箱容置于收容腔且水箱具有储水腔;电气组件容置于收容腔;箱盖设置于水箱的开口与电气组件之间且箱盖用于形成储水腔的上边界;箱盖连接有平衡气道,平衡气道连通于储水腔;平衡气道的外端口处于收容腔外,外端口处于箱盖背向电气组件的一侧。由于在电气组件与水箱之间设置箱盖,水箱内的储水受蒸发作用而形成水汽时,水汽受到箱盖的限制作用而无法在离开水箱的开口后与电气组件接触。由于平衡气道的外端口处于收容腔外或平衡气道的外端口处于箱盖背向电气组件的一侧,避免了水汽离开外端口后触到电气组件,从而能保证电气组件的可靠性或使用寿命。
Description
技术领域
本实用新型涉及卫浴技术领域,特别是涉及一种卫浴设备。
背景技术
卫浴设备是应用于卫生间或浴室的产品。部分卫浴设备,例如马桶,其内部设置储水结构,在补水状态下,外部水流的供应使储水结构内的储水量增加。在排水状态下,储水结构内的储水排出,以利用储水进行清洗或冲污等处理。
由于卫浴设备的智能化趋势,卫浴设备内的电气组件逐渐增加。同时,卫浴设备也正逐渐采用紧凑化设计,导致电气组件可能需要布置在储水结构附近。
然而,传统的储水机构一般利用直接向上敞开且连通收容腔的开口对储水机构补充气体,平衡液面上的气压。储水机构内的储水发生蒸发时,蒸发所产生的水汽直接地沿上升方向通过储水机构的开口而离开储水机构,水汽与在收容腔内处于储水机构开口上方的电气组件接触,导致电气组件在受潮而可靠性或使用寿命受到影响。
实用新型内容
基于此,有必要针对储水机构的水汽直接地沿上升方向通过储水机构的开口离开储水机构,在收容腔内处于储水机构开口上方的电气组件在接触水汽而可靠性下降或使用寿命下降的问题,提供一种卫浴设备。
一种卫浴设备,包括:
本体,具有收容腔;
水箱,容置于所述收容腔且所述水箱具有储水腔;
电气组件,容置于所述收容腔;及
箱盖,设置于所述水箱的开口与所述电气组件之间且所述箱盖用于形成所述储水腔的上边界;所述箱盖连接有平衡气道,所述平衡气道连通于所述储水腔;所述平衡气道的外端口处于所述收容腔外,和/或,所述外端口处于所述箱盖背向所述电气组件的一侧。
上述卫浴设备,将水箱及电气组件容置于收容腔后,水箱用于储水以及在需要对本体进行清洗或冲污时提供全部或部分水源。电气组件用于产生驱动信号、执行驱动的动作或进行相关状态信息的检测。由于在电气组件与水箱之间设置箱盖,水箱内的储水受蒸发作用而形成水汽时,水汽受到箱盖的限制作用而无法在离开水箱的开口后与电气组件接触。由于箱盖连接有平衡气道,在水箱的储水下降时,外部气体可以进入平衡气道的外端口,并沿平衡气道进入储水腔,以避免在储水的液面上形成负压,影响储水排出。又由于平衡气道的外端口处于收容腔外或平衡气道的外端口处于箱盖背向电气组件的一侧,避免了水汽离开外端口后触到电气组件,从而能保证电气组件的可靠性或使用寿命。
在其中一个实施例中,所述箱盖包括盖板部及连接于所述盖板部的盖仓部,所述盖仓部相对所述盖板部凸起设置;所述平衡气道连接于所述盖仓部。
在其中一个实施例中,所述平衡气道包括上管段及下管段;所述上管段设置于所述盖板部面向所述盖仓部的一侧;所述下管段设置于所述盖板部背向所述盖仓部的一侧;所述上管段连接于所述盖仓部的外壁。
在其中一个实施例中,所述水箱的侧壁设置沿水平方向凹陷的内凹槽,所述下管段容置于所述内凹槽。
在其中一个实施例中,所述盖仓部相对于所述盖板部的高度为所述上管段的长度为100%至120%。
在其中一个实施例中,所述下管段的长度为所述上管段的长度的10%至40%。
在其中一个实施例中,所述电气组件设置于所述盖板部的上侧;所述外端口低于所述盖板部的所在平面。
在其中一个实施例中,所述盖板部的面积大于或等于所述水箱的开口的面积。
在其中一个实施例中,所述平衡气道的内端口的最低边缘位于所述盖仓部的二分之一高度之上。
在其中一个实施例中,所述外端口处于所述箱盖靠近所述水箱的一侧;所述外端口的边缘与所述水箱的侧壁之间设有分隔间隙。
附图说明
图1为本实用新型的一实施例的卫浴设备的立体示意图;
图2为图1所示的卫浴设备的局部示意图;
图3为图1所示的卫浴设备的局部示意图,其中,本体已隐藏;
图4为图3所示的卫浴设备的局部示意图;
图5为图4所示的卫浴设备的A处放大图。
附图标记:
100、卫浴设备;20、本体;21、收容腔;211、侧开口;22、便池;23、虹吸管;24、排污口;30、水箱;31、储水腔;32、内凹槽;33、泵体;34、洗刷管道;35、喷射管道;40、电气组件;41、保护盒;50、箱盖;51、平衡气道;511、外端口;512、分隔间隙;513、上管段;514、下管段;515、内端口;516、最低边缘;52、盖板部;53、盖仓部;60、进液控制件。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接地接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接地接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
下面结合附图介绍本实用新型实施例提供的技术方案。
本实用新型提供一种卫浴设备100。
具体地,结合图1及图2所示,卫浴设备100包括本体20、水箱30及电气组件40。本体20具有收容腔21。水箱30及电气组件40于容置收容腔21。
在一些实施方式中,结合图2及图3所示,水箱30具有储水腔31。更具体地,外部水源能向水箱30注水,以补充储水。在对本体20进行清洗或冲污时,水箱30内的储水提供全部或部分水源,在一个实施方式中,可以是自来水与水箱30内的储水汇合后并一同流向卫浴设备100需要用水的位置。在一个实施方式中,卫浴设备100为马桶,本体20设有便池22及虹吸管23,便池22与虹吸管23之间通过排污口24连通,且便池22可以至少部分地与收容腔21共处于同一水平面。水箱30内的储水在排出后流向本体20的便池22内壁或虹吸管23,更具体地,本体20为陶瓷体。进一步地,卫浴设备100还可以包括泵体33、洗刷管道34及喷射管道35。水箱30内的储水可以在泵体33的驱动下,经洗刷管道34流向便池22的内壁。进一步地,卫浴设备100还可以设置用于覆盖本体 20上边缘的垫圈,以在用户使用卫浴设备100时避免用户身体直接地接触本体 20。水箱30内的储水还可以在泵体33的驱动下,经喷射管道35注入至虹吸管 23且水流经过排污口24的下方。在另外一些实施方式中,卫浴设备100还可以是洗手盆或浴缸。
在一些实施方式中,电气组件40用于产生驱动信号、执行驱动的动作、进行相关状态信息的检测、执行数据信号的分析或数据信号的传输交互。具体地,电气组件40可用于控制卫浴设备100内的阀体、泵体33或其他驱动器件的动作。
在一些实施方式中,结合图2及图4所示,卫浴设备100还包括箱盖50,箱盖50设置于水箱30的开口与电气组件40之间且箱盖50用于形成储水腔31 的上边界。箱盖50连接有平衡气道51,平衡气道51连通于储水腔31。平衡气道51的外端口511为用于排出水汽的端口。在水箱30内的储水排出至本体20 时,外部气体可以进入平衡气道51的外端口511,并沿平衡气道51进入储水腔 31,以避免在储水的液面上形成负压,影响储水排出。
在一些实施方式中,平衡气道51的外端口511处于收容腔21外,从而在水汽由外端口511排出时,能避免水汽排放到收容腔21内,确保收容腔21处于干燥的状态,避免电气组件40的可靠性或使用寿命受到潮湿环境的影响。
在一些实施方式中,结合图4所示,平衡气道51的外端口511处于箱盖50 背向电气组件40的一侧,由于箱盖50处于电气组件40与水箱30之间,箱盖 50在收容腔21内起到空间分隔作用,在水汽由外端口511排出时,箱盖50能限制水汽流动至电气组件40所处的空间部分,确保收容腔21容置电气组件40 的空间部分处于干燥的状态,避免电气组件40的可靠性或使用寿命受到潮湿环境的影响。
因此,通过在电气组件40与水箱30之间设置箱盖50,水箱30内的储水受蒸发作用而形成水汽时,水汽受到箱盖50的限制作用而无法在离开水箱30的开口后与电气组件40接触。由于箱盖50连接有平衡气道51,在水箱30的储水下降时,由于平衡气道51的外端口511处于收容腔21外或平衡气道51的外端口511处于箱盖50靠近水箱30的一侧,避免了水汽离开外端口511后触到电气组件40,从而能保证电气组件40的可靠性或使用寿命。
具体地,可以是本体20的侧壁设置收容腔21的侧开口211,平衡气道51 的外端口511处于侧开口211所在的平面或弧面外,从而避免从外端口511排出的水汽积聚到收容腔21内。在另一实施方式中,结合图2所示,平衡气道51 的外端口511可以是处于收容腔21内,但由于平衡气道51的外端口511处于箱盖50靠近水箱30的一侧,而电气组件40处于箱盖50背向水箱30的一侧,箱盖50起到阻隔的作用,从而防止了从外端口511排出的水汽与电气组件40 接触。
在一些实施方式中,电气组件40可以包括控制模块,控制模块可以用于向泵体33发出运行控制信号,即控制泵体33的启动、运转频率或停止等。进一步地,结合图1所示,电气组件40还包括保护盒41,控制模块容置于保护盒 41内。
在一些实施方式中,结合图3及图4所示,箱盖50包括盖板部52及连接于盖板部52的盖仓部53,盖仓部53相对盖板部52凸起设置。平衡气道51连接于盖仓部53。由于盖仓部53相对盖板部52凸起设置,盖仓部53能用于容纳水箱30内垂直长度较大的部件。具体地,结合图3至图5所示,卫浴设备100 还包括部分容置于水箱30的进液控制件60,盖仓部53用于至少局部收容进液控制件60。更具体地,进液控制件60为进水阀,且以竖直方案安装于水箱30内,进水阀的上端外凸于水箱30的开口。
具体地,水汽向上流动时,由于盖仓部53的内部空间的高度大于盖板部52,水汽汇集于盖仓部53内并凝结成水滴。平衡气道51能同时引导水汽及水滴排出。另外,由于平衡气道51连接于盖仓部53,盖仓部53的内部空间的高度大于盖板部52,相对于平衡气道51连通至水箱30的情况,能避免平衡气道51的内端口515造成水箱30的容积限制。
在一些实施方式中,结合图4及图5所示,平衡气道51包括上管段513及下管段514。平衡气道51的上管段513设置于盖板部52面向盖仓部53的一侧。平衡气道51的下管段514设置于盖板部52背向盖仓部53的一侧。上管段513 连接于盖仓部53的外壁。由于上管段513连接于盖仓部53的外壁,从而避免在上管段513与盖仓部53之间形成间隙,有效控制平衡气道51与盖仓部53之间的整体的体积。进一步地,可以是上管段513与盖仓部53之间一体化设置。具体地,上管段513的连通方向平行于盖仓部53的表面,水汽在上管段513内的流通方向平行于上管段513的连通方向。
在一些实施方式中,盖仓部53相对于盖板部52的高度为上管段513的长度为100%至120%。通过使盖仓部53的高度与上管段513的长度相接近,从而能增大水汽在平衡气道51的上管段513内的流动时间,使更多的水汽在平衡气道51内凝结为水滴。更具体地,盖仓部53相对于盖板部52的高度可以是与上管段513的长度相一致。在其他实施方式中,盖仓部53相对于盖板部52的高度可以是上管段513的长度的1.1倍或1.2。
在一些实施方式中,平衡气道51的下管段514的长度为上管段513的长度的10%至40%。结合图4所示,由于下管段514设置于盖板部52背向盖仓部53 的一侧,外端口511对应于下管段514背向盖板部52的一端。由于下管段514 的长度为上管段513的长度的10%至40%,从而能避免从外端口511流出的水滴附着到盖板部52的下表面,同时避免由于下管段514的过长而影响箱盖50的安装。在其中一个实施方式中,下管段514的长度可以是上管段513的长度的 10%,在其他实施方式中,下管段514的长度可以是上管段513的长度的20%或 40%。
在一些实施方式中,结合图4所示,电气组件40设置于盖板部52的上侧。平衡气道51的外端口511低于盖板部52的所在平面。由于电气组件40处于盖板部52上方,水汽附着到盖仓部53的内壁,并沿平衡气道51的内壁流下时,由外端口511排出的水滴受到盖板部52的阻隔,防止水汽接触到电气组件40。进一步地,电气组件40至少部分与盖仓部53共处于同一水平面,从而能减少电气组件40与箱盖50所构成的整体所占用的垂直空间。
在一些实施方式中,盖板部52的面积大于或等于水箱30的开口的面积。从而能充分阻隔水蒸气绕过盖板部52而流动至与位于箱盖50上方的电气组件 40接触。具体地,在一个实施方式中,盖板部52的面积等于水箱30的开口的面积时,盖板部52的边缘与水箱30的开口边缘相连接或相抵靠设置。在另一实施方式中,盖板部52的面积大于水箱30的开口的面积时,可以是使水箱30 开口的上边缘相对于盖板部52的下表面设置。
在一些实施方式中,平衡气道51的内端口515的最低边缘516位于盖仓部53的二分之一高度之上。具体地,平衡气道51的内端口515为盖仓部53与平衡气道51之间的过渡位置。由于水汽相对于凝结后的水滴更容易散发并导致电气组件40受潮,内端口515的最低边缘516位于盖仓部53的二分之一高度之上,从而能增大水汽在平衡气道51内的最小流动距离,让更多的水汽在平衡气道51内流动的过程中凝结为水滴,以减少水汽排出后所产生的影响。
在一些实施方式中,结合图5所示,平衡气道51的外端口511处于箱盖50 靠近水箱30的一侧且外端口511的边缘与水箱30的侧壁之间设有间隙。对于从平衡气道51留下的水滴,外端口511与水箱30的侧壁之间的间隙能避免水滴附着到水箱30的侧壁外,避免水箱30的侧壁表面滋生细菌。进一步地,外端口511的开口方向竖直向下设置,以加快水滴在平衡气道51内的流动,避免异物落入平衡气道51并引发堵塞。
在一些实施方式中,结合图5所示,水箱30的侧壁设置沿水平方向凹陷的内凹槽32,平衡气道51的下管段514容置于内凹槽32。具体地,内凹槽32的凹陷方向背向收容腔21的水平外侧,由于平衡气道51的下管段514容置于内凹槽32,因而能避免平衡气道51的下管段514沿水平方向外凸于水箱30,避免收容腔21需要调整形状,有利于箱盖50的装配。更具体地,内凹槽32沿竖向延伸,以避免水滴下落时附着到水箱30外壁。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种卫浴设备,其特征在于,包括:
本体,具有收容腔;
水箱,容置于所述收容腔且所述水箱具有储水腔;
电气组件,容置于所述收容腔;及
箱盖,设置于所述水箱的开口与所述电气组件之间且所述箱盖用于形成所述储水腔的上边界;所述箱盖连接有平衡气道,所述平衡气道连通于所述储水腔;所述平衡气道的外端口处于所述收容腔外,和/或,所述外端口处于所述箱盖背向所述电气组件的一侧。
2.根据权利要求1所述的卫浴设备,其特征在于,所述箱盖包括盖板部及连接于所述盖板部的盖仓部,所述盖仓部相对所述盖板部凸起设置;所述平衡气道连接于所述盖仓部。
3.根据权利要求2所述的卫浴设备,其特征在于,所述平衡气道包括上管段及下管段;所述上管段设置于所述盖板部面向所述盖仓部的一侧;所述下管段设置于所述盖板部背向所述盖仓部的一侧;所述上管段连接于所述盖仓部的外壁。
4.根据权利要求3所述的卫浴设备,其特征在于,所述水箱的侧壁设置沿水平方向凹陷的内凹槽,所述下管段容置于所述内凹槽。
5.根据权利要求3所述的卫浴设备,其特征在于,所述盖仓部相对于所述盖板部的高度为所述上管段的长度为100%至120%。
6.根据权利要求3所述的卫浴设备,其特征在于,所述下管段的长度为所述上管段的长度的10%至40%。
7.根据权利要求2所述的卫浴设备,其特征在于,所述电气组件设置于所述盖板部的上侧;所述外端口低于所述盖板部的所在平面。
8.根据权利要求2所述的卫浴设备,其特征在于,所述盖板部的面积大于或等于所述水箱的开口的面积。
9.根据权利要求2所述的卫浴设备,其特征在于,所述平衡气道的内端口的最低边缘位于所述盖仓部的二分之一高度之上。
10.根据权利要求1所述的卫浴设备,其特征在于,所述外端口处于所述箱盖靠近所述水箱的一侧;所述外端口的边缘与所述水箱的侧壁之间设有分隔间隙。
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