CN218887188U - 电路结构为半桥的单管igbt - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于半导体器件制造领域;具体涉及一种电路结构为半桥的单管IGBT,包括DBC基板、左IGBT芯片和右IGBT芯片,所述DBC基板正反两面均覆有铜层,DBC基板反面铜层为一片式,DBC基板正面铜层为分片式,左IGBT芯片和右IGBT芯片对称焊接在DBC基板正面的两块铜层上,两片IGBT芯片通过键合线连接为半桥结构,左IGBT芯片栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右IGBT芯片发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左IGBT芯片发射极和右IGBT芯片集电极共同引出端子J3。本实用新型在一颗单管IGBT内封装2颗IGBT芯片,成本低、可靠性和集成度高。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体器件制造领域;具体涉及一种电路结构为半桥的单管IGBT。
背景技术
绝缘栅双极型晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)是由双极型三极管(Bipolar Junction Transistor,BJT)和绝缘栅型场效应管(Metal OxideSemiconductor,MOS)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件,兼有MOSFET的高输入阻抗和GTR的低导通压降两方面的优点。GTR饱和压降低,载流密度大,但驱动电流较大;MOSFET驱动功率小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。IGBT综合了以上两种器件的优点,驱动功率小而饱和压降低,在电压为300V及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域广泛应用。
常规IGBT为了折衷通态压降(VCEsat)和关断损耗(Eoff),一般都具有缓冲层以获得更小的VCEsat和Eoff,由于缓冲层和集电极层的掺杂浓度都很高,同时芯片边缘由于晶格损伤和应力会引起较大的漏电流,所以普通IGBT不具备反向阻断能力,一般只有几十伏,在使用过程中,IGBT通常会反并联续流二极管(FRED)。近几年,一种新型的逆导型IGBT:RC-IGBT,在电动汽车领域崭露头角。RC-IGBT将IGBT与FRED流片在一个芯片内,节省了终端区面积,还节省了焊接芯片和键合绑定的成本,可大幅降低芯片生产制造成本及封装成本。虽然RC-IGBT有诸多的优势,但是该器件的缺点也同样是非常明显的,其中最主要的问题是IGBT通态压降的折回现象(Snap back),这限制了其应用范围。
单管封装的IGBT,即分立式IGBT,如TO-247、TO-3P等,作为一种标准封装尺寸的产品,具有优越的开关性能且价格低廉,应用广泛。常规的单管IGBT,由于其标准封装的体积限制,只能封装一颗IGBT芯片与一颗FRED芯片,且只能封装小电流的IGBT芯片,一般40A以内。为了封装大电流的IGBT芯片,开发出了更大封装容积的IGBT单管,比如TO-247PLUS,可以封装1200V、75A或600V、120A的IGBT芯片,且TO-247PLUS的封装背面热焊盘面积更大,具有更低的热阻,可以降低使用过程中芯片的结温。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种电路结构为半桥的单管IGBT,在一颗单管IGBT内封装2颗RC-IGBT芯片,成本低、可靠性和集成度高。
本实用新型所述电路结构为半桥的单管IGBT,包括DBC基板、左RC-IGBT芯片和右RC-IGBT芯片,所述DBC基板正反两面均覆有铜层,DBC基板反面铜层为一片式,并为DBC基板四周预留矩形陶瓷边框,DBC基板正面铜层为分片式,将DBC基板正面分隔成横向“日”字形陶瓷框架,左RC-IGBT芯片和右RC-IGBT芯片对称焊接在DBC基板正面的两块铜层上,两片RC-IGBT芯片通过键合线连接为半桥结构,左RC-IGBT芯片栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右RC-IGBT芯片发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左RC-IGBT芯片发射极和右RC-IGBT芯片集电极共同引出端子J3。
本实用新型中,先将RC-IGBT通过丝网印刷的方法粘贴到DBC上,然后将贴好RC-IGBT芯片的DBC基板放入真空回流焊接设备进行真空焊接,焊接完成后,再通过真空回流焊接设备将DBC基板焊接到金属板上,然后使用键合机,通过打线,将电路连接成半桥结构。
优选地,DBC基板及其附属电路通过环氧绝缘胶封装在金属板上。
优选地,端子JI、J2、J3、J4、J5均对应设有引脚,引脚与金属板封装为一体结构,封装后的电路元件可作为一个标准件直接使用。
本实用新型还提供另外一种电路结构为半桥的单管IGBT,包括DBC基板、左IGBT芯片、右IGBT芯片、左FRD芯片和右FRD芯片,所述DBC基板正反两面均覆有铜层,DBC基板反面铜层为一片式,并为DBC基板四周预留矩形陶瓷边框,DBC基板正面铜层为分片式,将DBC基板正面分隔成横向“日”字形陶瓷框架,左IGBT芯片、左FRD芯片和右IGBT芯片、右FRD芯片分别焊接在DBC基板正面的两块铜层上,焊接有IGBT芯片和FRD芯片的DBC基板固定在金属板上,左IGBT芯片通过键合线连接左FRD芯片,右IGBT芯片通过键合线连接右FRD芯片,两片IGBT芯片通过键合线连接为半桥结构,左IGBT芯片栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右IGBT芯片发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左IGBT芯片发射极和右IGBT芯片集电极共同引出端子J3。
先将IGBT和FRD芯片通过丝网印刷的方法粘贴在DBC上,然后将贴好IGBT芯片和RFD芯片的DBC基板放入真空回流焊接设备进行真空焊接,焊接完成后,再通过真空回流焊接设备将DBC基板焊接在金属板上,然后使用键合机,通过打线,将电路连接成半桥结构。
优选地,DBC基板及其附属电路通过环氧绝缘胶封装在金属板上。
优选地,端子JI、J2、J3、J4、J5均对应设有引脚,引脚与金属板封装为一体结构。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
1、一颗半桥的单管IGBT就可以实现两颗常规单管RC-IGBT的功能,成本更低。
2、一颗半桥的单管IGBT与两颗常规单管IGBT相比,体积缩小一半,更适合高密度的集成电路应用。
3、常规IGBT单管的硅芯片直接焊接到底部金属板上,硅芯片与铜底座之间热膨胀系数的差别限制了其可靠性,使用DBC改善了热膨胀问题,可靠性更高。
4、常规IGBT单管的硅芯片直接焊接到底部金属板上,因此没有内绝缘,使用DBC封装后,外壳不带电,实现内绝缘。
附图说明
图1IGBT芯片示意图。
图2实施例1中DBC基板正面示意图。
图3实施例1中DBC基板反面示意图。
图4实施例1内部结构示意图。
图5实施例1半桥结构电路图。
图6实施例1封装后结构示意图。
图7实施例2结构示意图。
图中:1、DBC基板;2、左IGBT芯片;3、右IGBT芯片;4、铜层;5、键合线;6、金属板;7、引脚;8、左FRD芯片;9、右FRD芯片。
具体实施方式
实施例1:
如图1-6所示,本实施例所述电路结构为半桥的单管IGBT,包括DBC基板1、左RC-IGBT芯片2和右RC-IGBT芯片3,所述DBC基板1正反两面均覆有铜层4,DBC基板反面铜层为一片式,并为DBC基板1四周预留矩形陶瓷边框,DBC基板1正面铜层为分片式,将DBC基板1正面分隔成横向“日”字形陶瓷框架,左RC-IGBT芯片2和右RC-IGBT芯片3对称焊接在DBC基板1正面的两块铜层上,两片IGBT芯片通过键合线5连接为半桥结构,左RC-IGBT芯片2栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右RC-IGBT芯片3发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左RC-IGBT芯片发射极和右RC-IGBT芯片集电极共同引出端子J3。
其中,DBC基板1及其附属电路通过环氧绝缘胶封装在金属板6上;端子JI、J2、J3、J4、J5均对应设有引脚7,引脚7与金属板6封装为一体结构,封装后的电路元件可作为一个标准件直接使用,图2中,端子7从左至右依次是JI、J2、J3、J4、J5。
本实用新型中,先将RC-IGBT通过丝网印刷的方法粘贴在DBC1上,然后将贴好左、右RC-IGBT芯片的DBC基板1放入真空回流焊接设备进行真空焊接,焊接完成后,再通过真空回流焊接设备将DBC基板1焊接在金属板6上,然后使用键合机,通过打线,将电路连接成半桥结构。
实施例2:
如图7所示,本实施例提供另外一种电路结构为半桥的单管IGBT,包括DBC基板1、左IGBT芯片2、右IGBT芯片3、左FRD芯片8和右FRD芯片9,所述DBC基板1正反两面均覆有铜层4,DBC基板1反面铜层为一片式,并为DBC基板1四周预留矩形陶瓷边框,DBC基板1正面铜层为分片式,将DBC基板1正面分隔成横向“日”字形陶瓷框架,左IGBT芯片2、左FRD芯片8和右IGBT芯片3、右FRD芯片9分别焊接在DBC基板1正面的两块铜层4上,焊接有IGBT芯片和FRD芯片的DBC基板1固定在金属板6上,左IGBT芯片3通过键合线5连接左FRD芯片8,右IGBT芯片3通过键合线5连接右FRD芯片9,两片IGBT芯片通过键合线5连接为半桥结构,左IGBT芯片栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右IGBT芯片发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左IGBT芯片发射极和右IGBT芯片集电极共同引出端子J3。
其中,DBC基板及其附属电路通过环氧绝缘胶封装在金属板上;端子JI、J2、J3、J4、J5均对应设有引脚,引脚与金属板封装为一体结构;左FRD芯片设置在左IGBT芯片上方,右FRD芯片设置在右IGBT芯片上方,电路元件排列规整有序,便于键合机打线。
本实施例中,先将IGBT和FRD芯片通过丝网印刷的方法粘贴在DBC1上,然后将贴好IGBT芯片和RFD芯片的DBC1放入真空回流焊接设备进行真空焊接,焊接完成后,再通过真空回流焊接设备将DBC1焊接在金属板6上,然后使用键合机,通过打线,将电路连接成半桥结构,封装后电路结构同实施例1。
Claims (6)
1.一种电路结构为半桥的单管IGBT,其特征在于,包括金属板(6)、DBC基板(1)、左RC-IGBT芯片(2)和右RC-IGBT芯片(3),所述DBC基板(1)正反两面均覆有铜层(4),DBC基板(1)反面铜层为一片式,并为DBC基板(1)四周预留矩形陶瓷边框,DBC基板(1)正面铜层(4)为分片式,将DBC基板(1)正面分隔成横向“日”字形陶瓷框架,左RC-IGBT芯片(2)和右RC-IGBT芯片(3)对称焊接在DBC基板(1)正面的两块铜层(4)上,焊接有IGBT芯片的DBC基板(1)固定在金属板(6)上,两片IGBT芯片通过键合线(5)连接为半桥结构,左RC-IGBT芯片栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右RC-IGBT芯片发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左RC-IGBT芯片发射极和右RC-IGBT芯片集电极共同引出端子J3。
2.根据权利要求1所述的电路结构为半桥的单管IGBT,其特征在于,DBC基板(1)及其附属电路通过环氧绝缘胶封装在金属板(6)上。
3.根据权利要求1或2所述的电路结构为半桥的单管IGBT,其特征在于,端子JI、J2、J3、J4、J5均对应设有引脚,引脚(7)与金属板(6)封装为一体结构。
4.一种电路结构为半桥的单管IGBT,其特征在于,包括DBC基板(1)、左IGBT芯片(2)、右IGBT芯片(3)、左FRD芯片(8)和右FRD芯片(9),所述DBC基板(1)正反两面均覆有铜层(4),DBC基板(1)反面铜层(4)为一片式,并为DBC基板(1)四周预留矩形陶瓷边框,DBC基板(1)正面铜层(4)为分片式,将DBC基板(1)正面分隔成横向“日”字形陶瓷框架,左IGBT芯片(2)、左FRD芯片(8)和右IGBT芯片(3)、右FRD芯片(9)分别焊接在DBC基板(1)正面的两块铜层(4)上,焊接有IGBT芯片和FRD芯片的DBC基板(1)焊接在金属板(6)上,左IGBT芯片(2)通过键合线(5)连接左FRD芯片(8),右IGBT芯片(3)通过键合线(5)连接右FRD芯片,两片IGBT芯片通过键合线(5)连接为半桥结构,左IGBT芯片栅极、集电极分别引出端子J1、J2,右IGBT芯片发射极、栅极分别引出端子J4、J5,左IGBT芯片发射极和右IGBT芯片集电极共同引出端子J3。
5.根据权利要求4所述的电路结构为半桥的单管IGBT,其特征在于,DBC基板(1)及其附属电路通过环氧绝缘胶封装在金属板(6)上。
6.根据权利要求4或5所述的电路结构为半桥的单管IGBT,其特征在于,端子JI、J2、J3、J4、J5均对应设有引脚(7),引脚(7)与金属板(6)封装为一体结构。
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CN118448401A (zh) * | 2024-04-30 | 2024-08-06 | 江苏易矽科技有限公司 | 一种插件封装SiC MOSFET半桥结构及制备方法 |
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