CN218823954U - 可调超透镜成像系统、纳米结构及定量相位成像设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种可调超透镜成像系统、纳米结构及定量相位成像设备，包括：探测焦面以及在所述探测焦面的光路上游依次排列的起偏器、第一超透镜、第二超透镜和检偏器；第二超透镜为可调超透镜；起偏器远离探测焦面一侧设置检测样品；检测样品上反射的光束经过起偏器后得到具有不同偏振特性的第一线偏振光和第二线偏振光；第一线偏振光和第二线偏振光经过第一超透镜入射到第二超透镜；第二超透镜，能够分时进行相位调制，相位调制后的第一线偏振光和第二线偏振光经过检偏器后，被探测焦面接收。本申请利用可调超透镜实现光束的相移，实现光束能量以及光束能量利用率的提高。

Description

可调超透镜成像系统、纳米结构及定量相位成像设备

技术领域

本实用新型涉及相位成像技术领域，具体而言，涉及可调超透镜成像系统、纳米结构及定量相位成像设备。

背景技术

定量相位成像系统(Quantitative phase imaging，QPI)是在传统定性相位成像系统的基础上发展起来的定量相位成像技术，其定量的方式是将探测器平面记录的干涉强度信息，通过图像处理获取定量的相位信息。

现有的定量信息获取方式较为复杂。为了解决上述技术问题，对上述技术进行了相关改进，使用超透镜实现双折射棱镜的功能，可以使光路更加紧凑，从而实现缩小系统的体积。但由于超透镜上的一个微纳结构只能实现对一个方向的衍射，所以多个方向的衍射就需要多种微纳结构复用实现，这就导致微纳结构采样降低，导致每个方向上的光束能量降低，能量的利用率也下降。

实用新型内容

为解决上述问题，第一方面，本实用新型实施例提供了一种可调超透镜成像系统，包括：探测焦面以及在所述探测焦面的光路上游依次排列的起偏器、第一超透镜、第二超透镜和检偏器；

其中，所述第二超透镜为可调超透镜；

所述起偏器、所述第一超透镜、所述第二超透镜和所述检偏器为同光轴设置；

所述起偏器远离所述探测焦面一侧设置有检测样品；

所述检测样品上反射的光束经过所述起偏器后得到具有不同偏振特性的第一线偏振光和第二线偏振光；

所述第一线偏振光和所述第二线偏振光经过所述第一超透镜准直后，入射到所述第二超透镜；

所述第二超透镜，能够分时对所述第一线偏振光和所述第二线偏振光进行相位调制，相位调制后的所述第一线偏振光和所述第二线偏振光经过检偏器后，被所述探测焦面接收并形成相位差改变的、预设数量的偏振干涉图像。

可选地，所述第一线偏振光沿着x方向穿过所述第一超透镜和所述第二超透镜；

所述第二线偏振光沿着y方向穿过所述第一超透镜和所述第二超透镜，所述x方向与所述y方向正交且均垂直于光轴。

可选地，所述第一超透镜，包括：第一衬底和设置在所述第一衬底上的多个微纳结构。

可选地，所述第一超透镜相位分布满足：

其中，R为第一超透镜半径，a_n为系数，n为整数；

i为上述多项式中的项数；

Δs为第一线偏振光的聚焦点和第二线偏振光的聚焦点在所述y方向上两者之间的距离；

为第一超透镜对第一线偏振光的相位分布；

为第一超透镜对第二线偏振光的相位分布；

(x，y)表示第一超透镜上的任意微纳结构的位置坐标。

可选地，所述第二超透镜，包括：第二衬底和设置在所述第二衬底上的多个纳米结构；

所述纳米结构，包括：相互垂直的第一纳米柱结构和第二纳米柱结构；

所述第一纳米柱结构和所述第二纳米柱结构，具有不同的相变特性。

可选地，所述第二超透镜相位分布满足：

其中，R₁为第二超透镜半径，a_n为系数，n为整数；

i为上述多项式中的项数；

为第二超透镜对x方向的线偏振光加上的附加相位；

ΔS₁为x方向的线偏振光的聚焦点和y方向的线偏振光的聚焦点，在所述y方向上两者之间的距离

为第二超透镜对第一线偏振光的相位分布；

为第二超透镜对第二线偏振光的相位分布；

(x，y)表示第二超透镜上的任意纳米结构的位置坐标。

可选地，所述第二超透镜还包括：填充材料；所述填充材料填充于多个所述纳米结构之间。

可选地，在不同时刻下，所述预设数量为2到6之间的任意数量。

可选地，在不同时刻下，所述第二超透镜能够按照与不同时刻中的各时刻对应的调制相位，对所述第一线偏振光或者所述第二线偏振光进行相位调制，得到各时刻的相位差不同的所述第一线偏振光和所述第二线偏振光，所述探测焦面接收各时刻的相位差不同的所述第一线偏振光和所述第二线偏振光，形成预设数量的偏振干涉图像。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种纳米结构，用于上述第一方面所述的可调超透镜成像系统，所述纳米结构，包括：相互垂直的第一纳米柱结构和第二纳米柱结构；

所述第一纳米柱结构和所述第二纳米柱结构，具有不同的相变特性。

可选地，所述第一纳米柱结构和所述第二纳米柱结构为非旋转对称。

第三方面，本实用新型实施例提供了定量相位成像设备，包括上述第一方面所述的可调超透镜成像系统。

本实用新型上述第一方面至第三方面提供的方案中，通过设置可调的第二超透镜，分时对第一线偏振光和第二线偏振光进行相位调制，相位调制后的第一线偏振光和第二线偏振光经过检偏器后，被探测焦面接收并形成相位差改变的、预设数量的偏振干涉图像；与相关技术中需要在超透镜中设置至少三种微纳结构才能得到多个偏振干涉图像的方式相比，通过可调的第二超透镜，分时对第一线偏振光和第二线偏振光进行相位调制，无需在超透镜中设置至少三种微纳结构，就可以使不同时刻下的第一线偏振光和第二线偏振光具有不同的相位差，进而可以形成多个偏振干涉图像，在实现设备小型化的同时，还提高了光束能量的利用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或背景技术中的技术方案，下面将对本实用新型实施例或背景技术中所需要使用的附图进行说明。

图1示出了本实用新型实施例所提供的可调超透镜成像系统结构示意图；

图2a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈十字形排布俯视示意图一；

图2b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈十字形排布侧视示意图一；

图3a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈十字形排布俯视示意图二；

图3b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈十字形排布侧视示意图二；

图4a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈L形排布俯视示意图一；

图4b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈L形排布侧视示意图一；

图5a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈L形排布俯视示意图二；

图5b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈L形排布侧视示意图二；

图6a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置T形排布俯视示意图一；

图6b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置T形排布侧视示意图一；

图7a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置T形排布俯视示意图二；

图7b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置T形排布侧视示意图二；

图8a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置门字形排布俯视示意图一；

图8b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置门字形排布侧视示意图一；

图9a示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置门字形排布俯视示意图二；

图9b示出了本实用新型实施例所提供的第一纳米柱结构与第二纳米柱结构呈倒置门字形排布侧视示意图二；

图10示出了本实用新型实施例所提供的超透镜上纳米结构不同的排布示意图。

附图标记：

110、探测焦面；111、起偏器；112、第一超透镜；113、第二超透镜；114、检偏器；115、检测样品；117、第一纳米柱结构；118、第二纳米柱结构。

具体实施方式

为了更好地理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案做详细的说明。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

定量相位成像系统是一种在现有的定性的相位成像技术(如相称显微技术、微分干涉相称显微成像技术)的基础上发展的定量的相位成像技术，定量的方式是将探测器平面记录的干涉强度信息通过图像处理获取定量的相位信息。

定量相位成像系统的成像原理：光源发射的光经过起偏器、分光镜后为线偏振光，打在双折射诺马斯基棱镜(以下简称棱镜)上，经过棱镜以后形成偏振态相互垂直的两束光，两束光作用于检测样品，反射光携带检测样品的相位信息，经过棱镜、分光镜、透镜、相位延迟器和检偏器形成的干涉强度由相机记录。通过控制相位延迟器，控制两束光的相位差，进而影响相机记录的强度图，从不同相位差的多幅强度图中解出相位。

针对定量相位成像，有用显微镜加上相位延迟器做定量成像的方法，但该方案需要的元件除了传统的透镜、起偏器、检偏器，还有诺马斯基或沃拉斯顿棱镜(一种双折射棱镜)去实现将入射线偏振光分为o光(寻常光)和e光(非常光)，即偏振态互相垂直的两个线偏振光。体积大，元件多且复杂。所以出现了现有技术，用两片超透镜实现定量成像。

样品采用线偏振光照明，放置在超透镜的前焦面上，线偏振光可以矢量分解为x方向与y方向的两束光，经过超透镜后。本应该平行出射，由于超透镜的相位设计还考虑了分光，所以分为三个方向的光出射到另一个超透镜上。经过另一个超透镜的三束光每一束光都进行成像，即可获取三幅强度图像。

本实用新型实施例提供一种可调超透镜成像系统、纳米结构及定量相位成像设备，参见图1所示，可调超透镜成像系统，包括：探测焦面110以及位于探测焦面110的光路上游依次排列的起偏器111、第一超透镜112、第二超透镜113和检偏器114；本实用新型实施例中，第二超透镜113为可调超透镜；起偏器111、第一超透镜112、第二超透镜113和检偏器114为同光轴设置。

本实用新型实施例中，整个可调超透镜成像系统的工作原理如下，检测样品115反射的物光经过起偏器111后成为第一线偏振光和第二线偏振光，第一超透镜112对第一线偏振光和第二线偏振光进行准直。第一线偏振光和第二线偏振光在经过第一超透镜112的准直后平行出射到可调的第二超透镜113，第二超透镜113在被施加的不同电压控制下，可以在不同时刻分别对第一线偏振光和第二线偏振光进行相位调制，使得第一线偏振光与第二线偏振光在穿过第二超透镜113时相位差发生一定改变，从而实现相移。发生相移后的第一线偏振光与第二线偏振光穿过检偏器114后聚焦至探测焦面110上。检偏器114将偏振方向与检偏器114的同光轴方向一致的第一线偏振光和第二线偏振光分量进行干涉成像。

具体地，在不同时刻下，第二超透镜113能够按照与不同时刻中的各时刻对应的调制相位匹配的电压值，对第二超透镜113施加电压，第二超透镜113对第一线偏振光或者第二线偏振光进行相位调制，得到各时刻的相位差不同的第一线偏振光和第二线偏振光，探测焦面110接收各时刻的相位差不同的第一线偏振光和第二线偏振光，形成预设数量的偏振干涉图像。

进一步地，预设数量取值范围为2到6之间的任意数量。

再进一步地，预设数量优选值为3。

上述的可调超透镜成像系统整体工作原理已描述完毕，下面开始对可调超透镜成像系统中的第一超透镜112和第二超透镜113细节进行原理描述。

本实用新型实施例中，第一超透镜112与可调第二超透镜113的相位分布是不同的。

第一线偏振光沿着x方向穿过第一超透镜112和第二超透镜113；

第二线偏振光沿着y方向穿过第一超透镜112和第二超透镜113，x方向与y方向正交且均垂直于光轴。

具体地，该第一超透镜112的相位分布满足：

其中，R为第一超透镜112的半径，a_n为系数,n为整数，i为上述多项式中的项数，i的取值范围为1-200之间的任意整数，Δs为x方向的偏振光的聚焦点和y方向的偏振光的聚焦点，在y方向上两者之间的距离；为第一超透镜112对第一线偏振光的相位分布；为第一超透镜112对第二线偏振光的相位分布；(x，y)表示第一超透镜112上的任意微纳结构的位置坐标。

本实用新型实施例中，该第二超透镜113的相位分布满足：

其中，R₁为第二超透镜113半径，a_n为系数，n为整数，i为上述多项式中的项数，i的取值范围为1-200之间的任意整数，为第二超透镜113对x方向的偏振光加上的附加相位；ΔS₁为x方向的偏振光的聚焦点和y方向的偏振光的聚焦点，在y方向上两者之间的距离；

为第二超透镜113对第一线偏振光的相位分布；为第二超透镜113对第二线偏振光的相位分布；(x，y)表示第二超透镜113上的任意纳米结构的位置坐标。

进一步地，对第二超透镜113实现相移的原理进行具体描述。

相变材料由于摆放的方向只能对其中一个偏振光起作用(例如第一线偏振光)，而非相变材料只对另一偏振光起作用(例如第二线偏振光)。当还没有对第二超透镜113进行通电时，第一线偏振光与第二线偏振光之间的相位差为此时表面相位差只有检测样品115表征的相位当第二超透镜113接通电源后，若相变材料对第一线偏振光作用，则第一线偏振光与第二线偏振光之间的相位差变为在对第二超透镜施加不同的电压的情况下，就会不同，从而实现第一线偏振光与第二线偏振光在第二超透镜113上的相移，最终在不分光的情况下获取多幅图像，根据上述的第二超透镜113满足的公式得出相位。

可调超透镜成像系统与可调超透镜本身已描述完毕，下面再进一步细化，对可调超透镜上的纳米结构不同的排布方式进行举例描述。

本实用新型实施例中，第二超透镜113，包括：基底和纳米结构，纳米结构之间填充有填充材料。纳米结构包括：第一纳米柱结构117和第二纳米柱结构118，第一纳米柱结构117和第二纳米柱结构118之间相互垂直，第一纳米柱结构117和第二纳米柱结构118具有不同的相变特性。

第一纳米柱结构117和第二纳米柱结构118具有不同的相变特性是指：若第一纳米柱结构117由相变材料制成，那么第二纳米柱结构118由非相变材料制成。

或者，若第一纳米柱结构117由非相变材料制成，那么第二纳米柱结构118由相变材料制成。

进一步地，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118为非旋转对称结构。

进一步地，参见图2和图3所示，当第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118相互插接时，形成十字架纳米结构；或者，第一纳米柱结构117固定在第二纳米柱结构118上，形成十字架纳米结构；或者，第二纳米柱结构118固定在第一纳米柱结构117上，形成十字架纳米结构。

进一步地，参见图4和图5所示，当第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118，形成L字型的纳米结构时：

第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118位于同一平面，竖直放置的第一纳米柱结构117的一端靠近横向放置的第二纳米柱结构118的一端，且第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118之间存在间隙。

或者，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118位于不同平面，第一纳米柱结构117所在平面高于第二纳米柱结构118所在平面，第一纳米柱结构117靠近第二纳米柱结构118的端部摆放，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118之间存在间隙。

进一步地，参见图6和图7所示，当第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118呈倒置的T字形时：

第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118位于同一平面，竖直放置的第一纳米柱结构117固定于横向放置的第二纳米柱结构118中心处。

或者，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118位于不同平面，第一纳米柱结构117所在平面高于第二纳米柱结构118所在平面，第一纳米柱结构117摆放在第二纳米柱结构118的中心处。

再进一步地，参见图8和图9所示，当第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118呈倒置的门字形，且第一纳米柱结构117数量为两个，第二纳米柱结构118数量为一个时：

第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118位于同一平面，两个第一纳米柱结构117分布在第二纳米柱结构118的两端，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118之间存在间隙。

或者，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118位于不同平面，第一纳米柱结构117所在平面高于第二纳米柱结构118所在平面，两个第一纳米柱结构117摆放在第二纳米柱结构118的两端，第一纳米柱结构117与第二纳米柱结构118之间存在间隙。

参见图10所示，超透镜是一种超表面。超表面是一层亚波长的人工纳米结构膜，可根据其上的超表面结构单元来调制入射光。其中超表面结构单元包含全介质或等离子的纳米天线，可直接调控光的相位、幅度和偏振等特性。其中纳米结构单元呈阵列排布，所述超表面结构单元为正六边形和/或正方形，每个超表面结构单元的中心位置，或者每个超表面结构单元的中心位置和顶点位置分别设有一个纳米结构。图10给出正六边形、正方形的超表面结构单元排布图。

本实用新型实施例中，定量相位成像设备包括上述的可调超透镜成像系统。

综上所述，本实施例提出一种可调超透镜成像系统、纳米结构以及定量相位成像设备提供的方案中，通过设置可调的第二超透镜，分时对第一线偏振光和第二线偏振光进行相位调制，相位调制后的第一线偏振光和第二线偏振光经过检偏器后，被探测焦面接收并形成相位差改变的、预设数量的偏振干涉图像；与相关技术中需要在超透镜中设置至少三种微纳结构才能得到多个偏振干涉图像的方式相比，通过可调的第二超透镜，分时对第一线偏振光和第二线偏振光进行相位调制，无需在超透镜中设置至少三种微纳结构，就可以使不同时刻下的第一线偏振光和第二线偏振光具有不同的相位差，进而可以形成多个偏振干涉图像，在实现设备小型化的同时，还提高了光束能量的利用。

以上所述，仅为本实用新型实施例的具体实施方式，但本实用新型实施例的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型实施例披露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型实施例的保护范围之内。因此，本实用新型实施例的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种可调超透镜成像系统，其特征在于，包括：探测焦面(110)以及在所述探测焦面(110)的光路上游依次排列的起偏器(111)、第一超透镜(112)、第二超透镜(113)和检偏器(114)；

其中，所述第二超透镜(113)为可调超透镜；

所述起偏器(111)、所述第一超透镜(112)、所述第二超透镜(113)和所述检偏器(114)为同光轴设置；

所述起偏器(111)远离所述探测焦面(110)一侧设置有检测样品(115)；

所述检测样品(115)上反射的光束经过所述起偏器(111)后得到具有不同偏振特性的第一线偏振光和第二线偏振光；

所述第一线偏振光和所述第二线偏振光经过所述第一超透镜(112)准直后，入射到所述第二超透镜(113)；

所述第二超透镜(113)，能够分时对所述第一线偏振光和所述第二线偏振光进行相位调制，相位调制后的所述第一线偏振光和所述第二线偏振光经过检偏器(114)后，被所述探测焦面(110)接收并形成相位差改变的、预设数量的偏振干涉图像。

2.根据权利要求1所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述第一线偏振光沿着x方向穿过所述第一超透镜(112)和所述第二超透镜(113)；

所述第二线偏振光沿着y方向穿过所述第一超透镜(112)和所述第二超透镜(113)，所述x方向与所述y方向正交且均垂直于光轴。

3.根据权利要求2所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述第一超透镜(112)，包括：第一衬底和设置在所述第一衬底上的多个微纳结构。

4.根据权利要求3所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述第一超透镜(112)相位分布满足：

其中，R为第一超透镜(112)半径，a_n为系数，n为整数；

i为上述多项式中的项数；

Δs为第一线偏振光的聚焦点和第二线偏振光的聚焦点在所述y方向上两者之间的距离；

为第一超透镜对第一线偏振光的相位分布；

为第一超透镜对第二线偏振光的相位分布；

(x，y)表示第一超透镜(112)上的任意微纳结构的位置坐标。

5.根据权利要求2所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述第二超透镜(113)，包括：第二衬底和设置在所述第二衬底上的多个纳米结构；

所述纳米结构，包括：相互垂直的第一纳米柱结构(117)和第二纳米柱结构(118)；

所述第一纳米柱结构(117)和所述第二纳米柱结构(118)，具有不同的相变特性。

6.根据权利要求5所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述第二超透镜(113)相位分布满足：

其中，R₁为第二超透镜(113)半径，a_n为系数，n为整数；

i为上述多项式中的项数；

为第二超透镜(113)对x方向的线偏振光加上的附加相位；

ΔS₁为x方向的线偏振光的聚焦点和y方向的线偏振光的聚焦点，在所述y方向上两者之间的距离；

为第二超透镜对第一线偏振光的相位分布；

为第二超透镜对第二线偏振光的相位分布；

(x，y)表示第二超透镜(113)上的任意纳米结构的位置坐标。

7.根据权利要求5所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述第二超透镜(113)还包括填充材料；所述填充材料填充在纳米结构之间。

8.根据权利要求1所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，在不同时刻下，所述预设数量为2到6之间的任意数量。

9.根据权利要求1所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，在不同时刻下，所述第二超透镜(113)能够按照与不同时刻中的各时刻对应的调制相位，对所述第一线偏振光或者所述第二线偏振光进行相位调制，得到各时刻的相位差不同的所述第一线偏振光和所述第二线偏振光，所述探测焦面(110)接收各时刻的相位差不同的所述第一线偏振光和所述第二线偏振光，形成偏振干涉图像，时刻的数量即为干涉图像的数量。

10.一种纳米结构，用于上述权利要求1-9任一项所述的可调超透镜成像系统，其特征在于，所述纳米结构，包括：相互垂直的第一纳米柱结构(117)和第二纳米柱结构(118)；

所述第一纳米柱结构(117)和所述第二纳米柱结构(118)，具有不同的相变特性。

11.根据权利要求10所述的纳米结构，其特征在于，所述第一纳米柱结构(117)和所述第二纳米柱结构(118)为非旋转对称。

12.一种定量相位成像设备，其特征在于，包括上述权利要求1-9任一项所述的可调超透镜成像系统。

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