CN218822771U - 一种荧光收集装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供应用于一种荧光收集装置，包括磁屏蔽外壳、原子干涉组件和光电探测器组件，原子干涉组件容纳于磁屏蔽外壳内，光电探测器组件设置于原子干涉组件的一侧，并连接于原子干涉组件，光电探测器组件包括安装座、遮光罩、聚焦透镜和光电探测器；安装座安装于原子干涉组件，遮光罩和聚焦透镜均安装于安装座，遮光罩设置于聚焦透镜的一侧，并罩设聚焦透镜；光电探测器安装于安装座，并朝向聚焦透镜，此时，聚焦透镜没有反射膜，并不会因水蒸气等环境因素的影响而逐渐变质，使得聚焦透镜的使用寿命较长，避免现有的荧光收集装置需要频繁更换聚焦透镜，并且聚焦透镜和遮光罩的成本相对于带通滤光片的成本较低。

Description

一种荧光收集装置

技术领域

本申请涉及荧光收集装置的技术领域，尤其涉及应用于一种荧光收集装置。

背景技术

随着科技的发展，荧光收集装置用于收集原子的相关信息，其原理是原子团吸收探测光之后被激发到激发态，然后通过自发辐射回到基态，同时向四周发射光子，通过荧光收集装置的光电探测器收集自发辐射产生的光子就能获取原子数目等相关信息。

在现有技术中，现有的荧光收集装置包括磁屏蔽外壳，原子干涉组件，光电探测器和带通滤光片，原子干涉组件容纳于磁屏蔽外壳，光电探测器连接于原子干涉组件，带通滤光片固定安装于光电探测器，带通滤光片由均匀间隔层分隔的两层反射膜组成，而这些反射膜会由于水蒸气等环境因素的影响而逐渐变质，带通滤光片随着使用时间过长而老化，使得带通滤光片的使用寿命较短，导致现有的荧光收集装置需要频繁更换带通滤光片。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供应用于一种荧光收集装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种荧光收集装置，包括：

磁屏蔽外壳；

原子干涉组件，容纳于所述磁屏蔽外壳内；

光电探测器组件，设置于所述原子干涉组件的一侧，并连接于所述原子干涉组件，所述光电探测器组件包括安装座、遮光罩、聚焦透镜和光电探测器；所述安装座连接于所述原子干涉组件，所述遮光罩和所述聚焦透镜均安装于所述安装座，所述遮光罩设置于所述聚焦透镜的一侧，并罩设所述聚焦透镜；所述光电探测器安装于所述安装座，并朝向所述聚焦透镜。

可选的，所述遮光罩设有容纳槽，所述聚焦透镜处于所述容纳槽内，所述遮光罩设有挡光部，所述有挡光部设置于所述聚焦透镜的一侧，以阻挡光线。

可选的，所述遮光罩的一端螺接于所述安装座，所述遮光罩的另一端抵接于所述原子干涉组件的窗片。

可选的，所述聚焦透镜插接于所述安装座的一端，所述光电探测器可移动地连接于所述安装座的另一端，并沿左右方向移动。

可选的，所述光电探测器的外侧壁设有外螺纹，所述安装座设有过孔，所述过孔设有内螺纹，所述外螺纹啮合于所述内螺纹。

可选的，所述过孔沿水平方向布置，所述聚焦透镜和所述光电探测器分别处于所述过孔的两端，所述聚焦透镜的轴线与所述光电探测器的轴线处于同一水平方向。

可选的，所述原子干涉组件包括机架、六通体、原子干涉区、光学系统和吸气剂，所述机架容纳于所述磁屏蔽外壳内，所述六通体连接于所述机架，所述原子干涉区连接于所述六通体的上端，所述光学系统连接于所述六通体的下端，所述吸气剂连接于所述六通体的左端；所述六通体的右端设有窗片

可选的，所述磁屏蔽外壳设有多个磁屏蔽片，多个所述磁屏蔽片依次连接，并围合屏蔽区域；所述原子干涉组件和所述光电探测器组件均处于所述屏蔽区域内。

可选的，一所述磁屏蔽片设有第一通孔，所述六通体设有第一连接管，所述第一连接管穿设于所述第一通孔，所述六通体通过所述第一连接管连通原子重力仪的离子泵。

可选的，另一所述磁屏蔽片设有第二通孔，所述六通体设有第二连接管，所述第二连接管穿设于所述第二通孔，所述六通体通过所述第二连接管连通原子重力仪的分子泵，所述第二通孔与所述第一通孔相对布置。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明提供应用于一种荧光收集装置，原子干涉组件容纳于磁屏蔽外壳内，光电探测器组件设置于原子干涉组件的一侧，并连接于原子干涉组件，光电探测器组件包括安装座、遮光罩、聚焦透镜和光电探测器；安装座安装于原子干涉组件，遮光罩和聚焦透镜均安装于安装座，遮光罩设置于聚焦透镜的一侧，并罩设聚焦透镜；光电探测器安装于安装座，并朝向聚焦透镜，此时，聚焦透镜没有反射膜，并不会因水蒸气等环境因素的影响而逐渐变质，使得聚焦透镜的使用寿命较长，避免现有的荧光收集装置需要频繁更换聚焦透镜，并且聚焦透镜和遮光罩的成本相对于带通滤光片的成本较低。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对本领域技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

为了更完整地理解本申请及其有益效果，下面将结合附图来进行说明。其中，在下面的描述中相同的附图标号表示相同部分。

图1为本申请实施例提供荧光收集装置的示意图。

图2为本申请实施例提供荧光收集装置的剖视图

图3为图1中A向的局部放大图。

图4为本申请实施例提供荧光收集装置的主视图

图5为本申请实施例提供荧光收集装置的后视图

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参考附图1～5，本申请实施例提供应用于一种荧光收集装置100，荧光收集装置100用于对荧光收集，以便于后续对荧光进一步地分析，荧光收集装置100包括磁屏蔽外壳10、原子干涉组件20和光电探测器组件30。

磁屏蔽外壳10用于防止自然光射到光电探测器组件30，原子干涉组件20和光电探测器组件30容纳磁屏蔽外壳10内，并受到磁屏蔽外壳10的外层保护，避免自然光影响到光电探测器组件30。

磁屏蔽外壳10设有多个磁屏蔽片11，多个磁屏蔽片11依次连接，并围合屏蔽区域；原子干涉组件20和光电探测器组件30均处于屏蔽区域内。

此时，多个磁屏蔽片11沿竖直方向布置，多个磁屏蔽片11沿着原子干涉组件20和光电探测器组件30的外围依次连接，并围合形成一个屏蔽区域，原子干涉组件20和光电探测器组件30均处于屏蔽区域内，避免光线射到光电探测器组件30的区域。

原子干涉组件20容纳于磁屏蔽外壳10内；原子干涉组件20包括机架21、六通体22、原子干涉区23、光学系统24和吸气剂25，机架21容纳于磁屏蔽外壳10内，六通体22连接于机架21，原子干涉区23连接于六通体22的上端，光学系统24连接于六通体22的下端，吸气剂25连接于六通体22的左端；六通体22的右端设有窗片。

此时，机架21作为原子干涉组件20的支撑部件，并用于支撑六通体22、原子干涉区23、光学系统24和吸气剂25，六通体22呈立方体，共有六个面，原子干涉区23连接于六通体22的上端面，光学系统24连接于六通体22的下端面，吸气剂25连接于六通体22的左端面，六通体22用于容纳原子，六通体22的右端设有窗片，以便于光电探测器34透过窗片对荧光收集数据。

其中，一磁屏蔽片11设有第一通孔11a，六通体22设有第一连接管221，第一连接管221穿设于第一通孔11a，六通体22的前端面通过第一连接管221连通原子重力仪的离子泵，另一磁屏蔽片11设有第二通孔11b，六通体22设有第二连接管222，第二连接管222穿设于第二通孔11b，六通体22的后端面通过第二连接管222连通原子重力仪的分子泵，第二通孔11b与第一通孔11a相对布置。

光电探测器组件30设置于原子干涉组件20的一侧，并连接于原子干涉组件20，光电探测器组件30包括安装座31、遮光罩32、聚焦透镜33和光电探测器34；安装座31连接于原子干涉组件20，遮光罩32和聚焦透镜33均安装于安装座31，遮光罩32设置于聚焦透镜33的一侧，并罩设聚焦透镜33；光电探测器34安装于安装座31，并朝向聚焦透镜33。

此时，聚焦透镜33没有反射膜，并不会因水蒸气等环境因素的影响而逐渐变质，使得聚焦透镜33的使用寿命较长，避免现有的荧光收集装置100需要频繁更换聚焦透镜33，并且聚焦透镜33和遮光罩32的成本相对于带通滤光片的成本较低

遮光罩32设有容纳槽321，聚焦透镜33处于容纳槽321内，容纳槽321的开口朝向聚焦透镜33，此时，遮光罩32设有挡光部322，挡光部322设置于聚焦透镜33的一侧，挡光部322用于对光线射进行阻挡，避免光线射到聚焦透镜33，可选的，容纳槽321可以为曲面槽。

遮光罩32的一端螺接于安装座31，遮光罩32的另一端抵接于原子干涉组件20的窗片，此时，遮光罩32的右侧设有内螺纹，安装座31的左侧设有外螺纹，内螺纹啮合于外螺纹，以使遮光罩32啮合于安装座31，以便于遮光罩32在外力的作用下进行位置调整，以便于调整遮光罩32相对于安装座31的位置，遮光罩32的左端抵接于原子干涉组件20。

光电探测器34的外侧壁设有外螺纹，安装座31设有过孔311，过孔311设有内螺纹，外螺纹啮合于内螺纹，此时，光电探测器34的外侧壁设有外螺纹，过孔311设有内螺纹，外螺纹啮合于内螺纹，以使光电探测器34啮合于安装座31，以便于光电探测器34在外力的作用下沿左右方向移动，以便于调整光电探测器34相对于安装座31的位置，从而调整光电探测器34相对于聚焦透镜33的焦距

过孔311沿水平方向布置，聚焦透镜33和光电探测器34分别处于过孔311的两端，聚焦透镜33的轴线与光电探测器34的轴线处于同一水平方向，以便于光电探测器34的输出端照射到聚焦透镜33。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明提供应用于一种荧光收集装置100装置，原子干涉组件20容纳于磁屏蔽外壳10内；光电探测器组件30设置于原子干涉组件20的一侧，并连接于磁屏蔽外壳10，光电探测器组件30包括安装座31、遮光罩32、聚焦透镜33和光电探测器34；安装座31安装于磁屏蔽外壳10，遮光罩32和聚焦透镜33均安装于安装座31，遮光罩32设置于聚焦透镜33的一侧，并罩设聚焦透镜33；光电探测器34安装于安装座31，并朝向聚焦透镜33，此时，聚焦透镜33没有反射膜，并不会因水蒸气等环境因素的影响而逐渐变质，使得聚焦透镜33的使用寿命较长，避免现有的荧光收集装置100需要频繁更换聚焦透镜33，并且聚焦透镜33和遮光罩32的成本相对于带通滤光片的成本较低。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个特征。

本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种荧光收集装置，其特征在于，包括：

磁屏蔽外壳；

原子干涉组件，容纳于所述磁屏蔽外壳内；

光电探测器组件，设置于所述原子干涉组件的一侧，并连接于所述原子干涉组件，所述光电探测器组件包括安装座、遮光罩、聚焦透镜和光电探测器；所述安装座连接于所述原子干涉组件，所述遮光罩和所述聚焦透镜均安装于所述安装座，所述遮光罩设置于所述聚焦透镜的一侧，并罩设所述聚焦透镜；所述光电探测器安装于所述安装座，并朝向所述聚焦透镜。

2.根据权利要求1所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述遮光罩设有容纳槽，所述聚焦透镜处于所述容纳槽内，所述遮光罩设有挡光部，所述有挡光部设置于所述聚焦透镜的一侧，以阻挡光线。

3.根据权利要求2所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述遮光罩的一端螺接于所述安装座，所述遮光罩的另一端抵接于所述原子干涉组件的窗片。

4.根据权利要求1所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述聚焦透镜插接于所述安装座的一端，所述光电探测器可移动地连接于所述安装座的另一端，并沿左右方向移动。

5.根据权利要求4所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述光电探测器的外侧壁设有外螺纹，所述安装座设有过孔，所述过孔设有内螺纹，所述外螺纹啮合于所述内螺纹。

6.根据权利要求5所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述过孔沿水平方向布置，所述聚焦透镜和所述光电探测器分别处于所述过孔的两端，所述聚焦透镜的轴线与所述光电探测器的轴线处于同一水平方向。

7.根据权利要求3所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述原子干涉组件包括机架、六通体、原子干涉区、光学系统和吸气剂，所述机架容纳于所述磁屏蔽外壳内，所述六通体连接于所述机架，所述原子干涉区连接于所述六通体的上端，所述光学系统连接于所述六通体的下端，所述吸气剂连接于所述六通体的左端；所述六通体的右端设有窗片。

8.根据权利要求7所述的一种荧光收集装置，其特征在于，所述磁屏蔽外壳设有多个磁屏蔽片，多个所述磁屏蔽片依次连接，并围合屏蔽区域；所述原子干涉组件和所述光电探测器组件均处于所述屏蔽区域内。

9.根据权利要求8所述的一种荧光收集装置，其特征在于，一所述磁屏蔽片设有第一通孔，所述六通体设有第一连接管，所述第一连接管穿设于所述第一通孔，所述六通体通过所述第一连接管连通原子重力仪的离子泵。

10.根据权利要求9所述的一种荧光收集装置，其特征在于，另一所述磁屏蔽片设有第二通孔，所述六通体设有第二连接管，所述第二连接管穿设于所述第二通孔，所述六通体通过所述第二连接管连通原子重力仪的分子泵，所述第二通孔与所述第一通孔相对布置。

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