CN218783004U - 一种质谱仪的入口狭缝 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及同位素检测技术领域，特别是涉及一种质谱仪的入口狭缝及质谱仪，用于解决现有技术中质谱仪入口狭缝较大，分辨率不足，较难实现目前国际新兴非传统稳定同位素的高精度测定等问题，所述入口狭缝包括：第一入口狭缝，所述第一入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形；第二入口狭缝，所述第二入口狭缝位于所述第一入口狭缝的一侧；第三入口狭缝，所述第三入口狭缝位于所述第一入口狭缝的另一侧，所述第二入口狭缝和所述第三入口狭缝的长边较所述第一入口狭缝的长边短，所述第二入口狭缝和所述第三入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形。
Description
技术领域
本实用新型涉及同位素检测技术领域，特别是涉及一种质谱仪的入口狭缝及质谱仪。
背景技术
质谱仪又称质谱计，是分离和检测不同同位素的仪器。即根据带电粒子在电磁场中能够偏转的原理，按物质原子、分子或分子碎片的质量差异进行分离和检测物质组成的一类仪器。
质谱仪的分辨率大小与入口狭缝和中间狭缝和出口狭缝的大小有关，对于多接收电感耦合等离子体质谱仪，其中出口狭缝是仪器的法拉第杯检测器的一部分，改造难度相对较大，而对入口狭缝和中间狭缝进行改造相比于出口狭缝更加易于实现。
入口狭缝大小不仅影响仪器的分辨率，而且影响仪器的灵敏度，现有的入口狭缝大小分别为250μm、50μm和25μm，对应的仪器分辨率分别为450、3000、8000，这虽然可以满足绝大多数情况下的试验需要，但是仍然有改造升级的空间。
实用新型内容
针对现有技术中的不足，本实用新型提供了一种质谱仪的入口狭缝及质谱仪。
本实用新型的实施例是这样实现的，第一方面，本实用新型提供了一种质谱仪的入口狭缝，所述入口狭缝包括：第一入口狭缝，所述第一入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形；第二入口狭缝，所述第二入口狭缝位于所述第一入口狭缝的一侧；第三入口狭缝，所述第三入口狭缝位于所述第一入口狭缝的另一侧，所述第二入口狭缝和所述第三入口狭缝的长边较所述第一入口狭缝的长边短，所述第二入口狭缝和所述第三入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形。
可选地，所述第一入口狭缝的宽度为50μm。其优点在于可以提高质谱仪分辨率。
可选地，所述第二入口狭缝的宽度为25μm。其优点在于可以提高质谱仪分辨率。
可选地，所述第三入口狭缝的宽度为16μm。其优点在于可以提高质谱仪分辨率。
可选地，所述第二入口狭缝与所述第一入口狭缝的形状相同。其优点在于可以使入口狭缝更加美观。
可选地，所述第三入口狭缝与所述第一入口狭缝的形状相同。其优点在于可以使入口狭缝更加美观。
可选地，所述第一入口狭缝与所述第二入口狭缝之间的夹角为锐角。其优点在于便于狭缝之间的相互切换。
可选地，所述第一入口狭缝与所述第三入口狭缝之间的夹角为锐角。其优点在于便于狭缝之间的相互切换。
可选地，还包括：
金属主体，所述第一入口狭缝、所述第二入口狭缝和所述第三入口狭缝位于所述金属主体上。
第二方面，本实用新型提供了一种质谱仪，所述质谱仪使用本实用新型提供的所述入口狭缝，包括：
进样系统，所述进样系统用于导入样品；
离子源，所述离子源与所述进样系统相连接，所述离子源用于把所述样品电离得到样品离子；
入口狭缝，所述入口狭缝与所述离子源相连接，所述入口狭缝包括第一入口狭缝、第二入口狭缝和第三入口狭缝，所述入口狭缝用于调节质谱仪的分辨率和为所述样品离子提供所述入口通道；
静电场分析器，所述静电场分析器与所述入口狭缝相连接，所述静电场分析器用于提供静电场，所述静电场用于对所述样品离子加速；
中间狭缝，所述中间狭缝与所述静电场分析器相连接，所述中间狭缝用于改变所述样品离子形成的离子束的高度，进而改变质谱仪的分辨率；
磁场分析器，所述磁场分析器与所述中间狭缝相连接，所述磁场分析器用于提供磁场，所述磁场用于分离不同荷质比的所述样品离子；
出口狭缝，所述出口狭缝用于为所述磁场分析器中的所述样品离子提供出口；
检测器，所述检测器包括所述出口狭缝，所述检测器所述磁场分析器相连接，所述检测器用于接收所述样品离子并根据所述样品离子获取质谱信号。
其优点在于使用本实用新型提供的入口狭缝的质谱仪分辨率更高。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它相关的附图。
图1为本实用新型实施例的一种质谱仪的入口狭缝示意图；
图2为本实用新型实施例的质谱仪结构示意图。
图中：1-第一入口狭缝、2-第二入口狭缝、3-第三入口狭缝。
具体实施方式
下面将详细描述本实用新型的具体实施例，应当注意，这里描述的实施例只用于举例说明，并不用于限制本实用新型。在以下描述中，为了提供对本实用新型的透彻理解，阐述了大量特定细节。然而，对于本领域普通技术人员显而易见的是：不必采用这些特定细节来实行本实用新型。在其他实例中，为了避免混淆本实用新型，未具体描述公知的电路，软件或方法。
在整个说明书中，对“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”或“示例”的提及意味着：结合该实施例或示例描述的特定特征、结构或特性被包含在本实用新型至少一个实施例中。因此，在整个说明书的各个地方出现的短语“在一个实施例中”、“在实施例中”、“一个示例”或“示例”不一定都指同一实施例或示例。此外，可以以任何适当的组合和、或子组合将特定的特征、结构或特性组合在一个或多个实施例或示例中。此外，本领域普通技术人员应当理解，在此提供的示图都是为了说明的目的，并且示图不一定是按比例绘制的。
需要提前说明的是，在一个可选地实施例当中，除了做出独立的说明之外，其它的在所有公式中出现的相同的符号或字母带表的含义相同，所述的用于表示空间位置关系的“垂直”、“水平”、“平行”、“上”或“下”等都是以水平面为参考系。
请参见图1，在一个可选地实施例当中，本实用新型提供了一种质谱仪的入口狭缝，包括第一入口狭缝1、第二入口狭缝2和第三入口狭缝3。
第一入口狭缝1，所述第一入口狭缝1至少有一个截面的形状为长方形，所述第一入口狭缝1处于真空环境当中。
具体的，所述第一入口狭缝的宽度为50μm；进一步的，在其他可选地实施例当中，所述第一入口狭缝1的宽度也可以是其它大小，但为了提高质谱仪的分辨率，所述第一入口狭缝1的宽度应当小于250μm。
第二入口狭缝2，所述第二入口狭缝2处于真空环境当中，所述第二入口狭缝2位于所述第一入口狭缝1的一侧，所述第二入口狭缝2至少有一个截面的形状为长方形，所述第二入口狭缝2的长边较所述第一入口狭缝1的长边短。
具体的，所述第二入口狭缝2的宽度为25μm，所述第二入口狭缝2与所述第一入口狭缝1的形状相同，所述第一入口狭缝1与所述第二入口狭缝2之间的夹角为锐角。
进一步的，在其他可选地实施例当中，所述第二入口狭缝2的宽度也可以是其它大小，但为了提高质谱仪的分辨率，所述第二入口狭缝2的宽度应当小于50μm。
第三入口狭缝3，所述第三入口狭缝3处于真空环境当中，所述第三入口狭缝3位于所述第一入口狭缝1的另一侧，所述第三入口狭缝3至少有一个截面的形状为长方形，所述第三入口狭缝3的长边较所述第一入口狭缝1的长边短。
具体的，所述第三入口狭缝3的宽度为16μm，所述第三入口狭缝3与所述第一入口狭缝1的形状相同，所述第一入口狭缝1与所述第三入口狭缝3之间的夹角为锐角。
进一步的，在其他可选地实施例当中，所述第三入口狭缝3的宽度也可以是其它大小，但为了提高质谱仪的分辨率，所述第三入口狭缝3的宽度应当小于25μm。
其优点在于，相较与现有的入口狭缝，本实用新型提供的入口狭缝尺寸更小，可以大大提高质谱仪的分辨率，同时，合理的狭缝大小、形状和分布也减小了狭缝占用的空间，使入口狭缝更加美观，而且便于狭缝之间的相互切换。
在本实施例当中，所述第一入口狭缝1、所述第二入口狭缝2和所述第三入口狭缝3位于所述金属主体上。
其中，所述金属主体可采用多种类型的金属主体，所述第一入口狭缝1、所述第二入口狭缝2和所述第三入口狭缝3在所述金属主体上的具体位置以及所述金属主体的类型可参考现有技术。
在一个可选地实施例当中，请参见图2，本实用新型还提供了一种质谱仪，所述质谱仪使用本实用新型提供的所述入口狭缝，包括进样系统A1、离子源A2、入口狭缝A3、静电场分析器A4、中间狭缝A5、磁场分析器A6、出口狭缝A7和检测器A8。
进样系统A1，所述进样系统A1用于导入样品。
具体的，在本实施例当中，使用微流雾化器自动提升液态的所述样品，将所述样品送入所述离子源A2中，然后利用所述离子源A2将所述样品离子化得到样品离子。
在其他可选地实施例当中，还可以根据所述样品的状态选择其它的进样系统A1，例如当所述样品为固体时，可以选用激光剥蚀进样系统A1，当所述待测样品为液态且含量较低时，可以选用膜去溶进样系统A1。
离子源A2，所述离子源A2与所述进样系统A1相连接，所述离子源A2用于把所述样品电离得到样品离子。
具体的，在本实施例当中，使用ICP作为质谱仪的离子源A2，所述离子源A2可以使所述样品在高频等离子体高温的作用下，电离形成所述样品离子。
入口狭缝A3，所述入口狭缝A3与所述离子源A2相连接，所述入口狭缝A3处于真空环境当中，所述入口狭缝A3包括第一入口狭缝1、第二入口狭2缝和第三入口狭缝3，所述入口狭缝A3用于调节质谱仪的分辨率和为所述样品离子提供所述入口通道。
进一步的，所述入口狭缝A3还包括金属主体，所述第一入口狭缝1、所述第二入口狭缝2和所述第三入口狭缝3位于所述金属主体上。
更进一步的，所述金属主体可采用多种类型的金属主体，所述第一入口狭缝1、所述第二入口狭缝2和所述第三入口狭缝3在所述金属主体上的具体位置以及所述金属主体的类型可参考现有技术。
在本实施例中，所述第一入口狭缝1至少有一个截面的形状为长方形，所述第一入口狭缝1的宽度为50μm；进一步的，在其他可选地实施例当中，所述第一入口狭缝1的宽度也可以是其它大小，但为了提高质谱仪的分辨率，所述第一入口狭缝1的宽度应当小于250μm。
所述第二入口狭缝2位于所述第一入口狭缝1的一侧，所述第二入口狭缝2与所述第一入口狭缝1具有相同的形状，所述第二入口狭缝2至少有一个截面的形状为长方形，所述第二入口狭缝2的宽度为25μm，所述第二入口狭缝2的长边较所述第一入口狭缝1的长边短，所述第二入口狭缝2与所述第一入口狭缝1之间的夹角为锐角。
进一步的，在其他可选地实施例当中，所述第二入口狭缝2的宽度也可以是其它大小，但为了提高质谱仪的分辨率，所述第二入口狭缝2的宽度应当小于50μm。
所述第三入口狭缝3位于所述第一入口狭缝1的另一侧，所述第三入口狭缝3与所述第二入口狭缝2的形状相同，所述第三入口狭缝3至少有一个截面的形状为长方形，所述第三入口狭缝3的宽度为16μm，所述第三入口狭缝3的长边较所述第一入口狭缝1的长边短，所述第三入口狭缝3与所述第一入口狭缝1之间的夹角为锐角。
进一步的，在其他可选地实施例当中，所述第三入口狭缝3的宽度也可以是其它大小，但为了提高质谱仪的分辨率，所述第三入口狭缝3的宽度应当小于25μm。
相比于现有的质谱仪中的入口狭缝，所述第一入口狭缝1、所述第二入口狭缝2和所述第三入口狭缝3的宽度更小，可以有效的提高质谱仪的分辨率。
静电场分析器A4，所述静电场分析器A4与所述入口狭缝A3相连接，所述静电场分析器A4设有静电场，当所述样品离子通过所述入口狭缝进入所述静电场分析器A4中后，所述静电场将对所述样品离子加速。
中间狭缝A5，所述中间狭缝A5与所述静电场分析器A4相连接，所述中间狭缝A5用于改变所述样品离子形成的离子束的高度，进而改变质谱仪的分辨率，同时经过加速后的所述样品离子会通过所述中间狭缝A5进入磁场分析器A6中。
磁场分析器A6，所述磁场分析器A6与所述中间狭缝A5相连接，所述磁场分析器A6用于提供磁场，所述磁场会将不同荷质比的所述样品离子分离；
出口狭缝A7，所述出口狭缝A7用于接收所述样品离子，并为所述磁场分析器A6中的所述样品离子提供出口。
检测器A8，所述检测器A8包括所述出口狭缝A7，所述检测器A8与所述磁场分析器A6相连接，所述检测器A8接收从所述出口狭缝A7出来的所述样品离子并根据所述样品离子获取质谱信号。
综上所述，本实用新型通过对现有的质谱仪的入口狭缝的升级改造，减小了入口狭缝的宽度，进而大大提高了质谱仪的分辨率。同时，使用本实用新型提供的入口狭缝的质谱仪的分辨率也得到了显著提高。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。
Claims (9)
1.一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于，包括：
第一入口狭缝，所述第一入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形；
第二入口狭缝，所述第二入口狭缝位于所述第一入口狭缝的一侧，所述第二入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形，所述第二入口狭缝的长边较所述第一入口狭缝的长边短；
第三入口狭缝，所述第三入口狭缝位于所述第一入口狭缝的另一侧，所述第三入口狭缝至少有一个截面的形状为长方形，所述第三入口狭缝的长边较所述第一入口狭缝的长边短。
2.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第一入口狭缝的宽度为50μm。
3.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第二入口狭缝的宽度为25μm。
4.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第三入口狭缝的宽度为16μm。
5.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第二入口狭缝与所述第一入口狭缝的形状相同。
6.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第三入口狭缝与所述第一入口狭缝的形状相同。
7.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第一入口狭缝与所述第二入口狭缝之间的夹角为锐角。
8.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于：
所述第一入口狭缝与所述第三入口狭缝之间的夹角为锐角。
9.根据权利要求1所述的一种质谱仪的入口狭缝，其特征在于，还包括：
金属主体，所述第一入口狭缝、所述第二入口狭缝和所述第三入口狭缝位于所述金属主体上。
Priority Applications (1)
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| CN202223426063.2U CN218783004U (zh) | 2022-12-21 | 2022-12-21 | 一种质谱仪的入口狭缝 |
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Publications (1)
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|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116390324A (zh) * | 2023-05-25 | 2023-07-04 | 之江实验室 | 狭缝波导加速结构和基于狭缝波导加速结构的加速器 |
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2022
- 2022-12-21 CN CN202223426063.2U patent/CN218783004U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116390324A (zh) * | 2023-05-25 | 2023-07-04 | 之江实验室 | 狭缝波导加速结构和基于狭缝波导加速结构的加速器 |
| CN116390324B (zh) * | 2023-05-25 | 2023-08-29 | 之江实验室 | 狭缝波导加速结构和基于狭缝波导加速结构的加速器 |
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