CN218781199U

CN218781199U - 均光膜及包括该均光膜的光模组

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Publication number: CN218781199U
Application number: CN202223041040.XU
Authority: CN
Inventors: 李裕翔
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2022-11-15
Filing date: 2022-11-15
Publication date: 2023-03-31
Anticipated expiration: 2032-11-15

Abstract

本实用新型关于一种均光膜及包括该均光膜的光模组，该均光膜包括：一光学基材、至少一均光结构及一定位层。该光学基材包括相对的一第一面及一第二面；该至少一均光结构设于该第一面且包括一可透光的光学辅助材料及分散于该光学辅助材料中的复数个散射颗粒；该定位层设于该第二面且包括一相对远离该光学基材的位移抑制面，该位移抑制面供接触至少一发光元件。该光模组包括如上所述的均光膜，另包括：一基板及至少一发光元件。该至少一发光元件设于该基板上且与该位移抑制面相接触，各该发光元件于该均光膜的一厚度方向上与一该均光结构相对应。

Description

均光膜及包括该均光膜的光模组

技术领域

本实用新型有关于一种均光膜及包括该均光膜的光模组。

背景技术

近年来，现有技术的光模组(例如但不限荧屏显示器)开始使用微小化的点光源作为直下式背光模组的光源，例如次毫米发光二极体(Mini LED)及微发光二极体(MicroLED)，相较于传统尺寸的直下式LED光源可提供分区更细微的高对比度显示器。

然而，在强调薄型化与生产成本的考量下，使用微小化的点光源的荧屏显示器仍存在光源上方亮度高、光源与光源之间亮度低的明暗不均问题。此外，印刷式的均光元件的均光图案皆根据光源的间距与数量排列；当该光模组震动或移动时，容易发生该均光图案与该光源错位的问题，亦会造成该光模组所产生的光效不均匀，存在亟待改善的缺弊。

因此，有必要提供一种新颖且具有进步性的均光膜及包括该均光膜的光模组，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型主要目的在于提供一种均光膜及包括该均光膜的光模组，可有效防止光源错位且均光效果佳。

为达成上述目的，本实用新型提供一种均光膜，包括：一光学基材、至少一均光结构及一定位层。该光学基材包括相对的一第一面及一第二面；该至少一均光结构设于该第一面且包括一可透光的光学辅助材料及分散于该光学辅助材料中复数个散射颗粒；该定位层设于该第二面且包括一相对远离该光学基材的位移抑制面，该位移抑制面供接触至少一发光元件。

较佳地，其中该光学基材的折射率大于该至少一均光结构的折射率。

较佳地，其中该光学基材包括复数个相互层叠的层体，该复数个层体的折射率由该第二面朝该第一面递减。

较佳地，其中该至少一均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的厚度相同。

较佳地，其中该至少一均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的延伸面积朝远离该第一面的一侧递减。

较佳地，其中该至少一均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的折射率朝远离该第一面的一侧递减。

较佳地，其中该至少一均光结构至少部分设有一非平滑表面。

较佳地，其中该定位层由一光学弹性胶体构成，该光学弹性胶体的硬度不大于3H。

较佳地，其中该位移抑制面朝远离该光学基材的一侧凸设复数个抵凸，该复数个抵凸相互间隔排列且供抵接该至少一发光元件。

较佳地，其中该位移抑制面包括至少一供接触该至少一发光元件的接触面，该至少一接触面的算术平均粗糙度介于0.01微米至30.00微米之间。

较佳地，其中该位移抑制面包括至少一供对应该至少一发光元件的定位凹部。

较佳地，其中各该定位凹部包括至少一供接触该至少一发光元件的接触面，该至少一接触面的算术平均粗糙度介于0.01微米至30.00微米之间。

较佳地，其中该均光膜包括复数个该均光结构，各该均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的延伸面积朝远离该第一面的一侧递减，该复数个均光层的折射率朝远离该第一面的一侧递减，该复数个均光层的厚度相同；各该均光结构的一延伸面积大于一该发光元件的一径向尺寸；该至少一均光结构至少部分设有一非平滑表面；该定位层由一光学弹性胶体构成，该光学弹性胶体的硬度不大于3H；该位移抑制面朝远离该光学基材的一侧凸设复数个抵凸，该复数个抵凸相互间隔排列且供抵接该至少一发光元件。

本实用新型另提供一种光模组，包括如上所述的均光膜，另包括：一基板及至少一发光元件。该至少一发光元件设于该基板上且与该位移抑制面相接触，各该发光元件于该均光膜的一厚度方向上与一该均光结构相对应。

较佳地，其中该基板与该位移抑制在该厚度方向上保持一间距。

本实用新型有益效果在于：

本实用新型提供的一种均光膜及包括该均光膜的光模组，可有效防止光源错位且均光效果佳。

附图说明

图1为本实用新型一较佳实施例的侧视示意图。

图2为图1的A区域的局部放大图。

图3为图1的B区域的局部放大图。

图4为本实用新型一较佳实施例的光路示意图。

图5为本实用新型另一较佳实施例的侧视示意图。

图6为图5的局部放大图。

附图标记

1：均光膜；2：光模组；10,10a：光学基材；11：第一面；12：第二面；13：层体；20：均光结构；21：光学辅助材料；22：散射颗粒；23：均光层；24：非平滑表面；30：定位层；31,31a：位移抑制面；311：抵凸；312：接触面；313：定位凹部；40：发光元件；50：基板；D：间距。

具体实施方式

以下仅以实施例说明本实用新型可能的实施形式，然并非用以限制本实用新型所要保护的范畴，合先叙明。

请参考图1至4，其显示本实用新型的一较佳实施例，本实用新型均光膜1包括一光学基材10、至少一均光结构20及一定位层30。

该光学基材10包括相对的一第一面11及一第二面12；该至少一均光结构20设于该第一面11且包括一可透光的光学辅助材料21及分散于该光学辅助材料21中的复数个散射颗粒22；该定位层30设于该第二面12且包括一相对远离该光学基材10的位移抑制面31，该位移抑制面31供接触至少一发光元件40以提供一摩擦阻力，借以防止该至少一发光元件40相对该光学基材10错位，且该至少一均光结构20可均匀分散来自该至少一发光元件40的光线，进而提供良好的均光效果。

该光学基材10由压克力、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate)，PMMA)及玻璃至少其中一者制成，具有良好的透光性。较佳地，该光学基材10的一折射率大于该至少一均光结构20的一折射率，借以发散该至少一发光元件40的光线，均光效果佳。

该光学辅助材料21由一光固化或热固化的光学胶体构成，可通过印刷、UV转印等方式设于该第一面11，加工便利且可应用于该至少一发光元件40不等距的光模组；该复数个散射颗粒22包括二氧化硅颗粒及二氧化钛颗粒至少其中一者，其中二氧化硅颗粒可提供光扩散效果，二氧化钛颗粒可反射光线以降低该至少一发光元件40的主光线的强度，可依需求调整比例以产生所欲达到的光效。该至少一均光结构20包括复数个相互层叠的均光层23，该复数个均光层23的厚度相同，该复数个均光层23的延伸面积朝远离该第一面11的一侧递减，该复数个均光层23的折射率朝远离该第一面11的一侧递减，进而可逐步分散光线，如图4所示，均光效果佳。该复数个散射颗粒22的体积百分浓度为0.01％至80.00％，可依需求调整浓度，例如朝远离该第一面11的一侧渐减。较佳地，该至少一均光结构20至少部分设有一非平滑表面24，该非平滑表面24可例如为不规则凹凸的粗糙表面(如图2所示)或包括复数个凸点、凸脊、波浪状延伸面等，增加光线扩散效果。于本实施例中，该均光膜1包括复数个该均光结构20，各该均光结构20的一延伸面积大于一该发光元件40的一径向尺寸，以确保有效分散该至少一发光元件40的主光线；各该均光层23远离该第一面11的一侧皆设有一该非平滑表面24，各该非平滑表面24的算术平均粗糙度(Ra)较佳不大于5微米，均光效果佳。在其他实施例中，各该均光结构亦可仅具有一均光层；该至少一均光结构亦可为一全面地覆设于该第一面的均光层；该复数个均光层的厚度可朝该第一面渐增或渐减，可依所要达到的光效调整。

详细说，该定位层30由一光学弹性胶体构成，该光学弹性胶体的硬度不大于3H(其中H是指ISO15184标准的铅笔试验测定漆膜硬度方法内的硬度单位)，借以提供摩擦阻力，避免相对该至少一发光元件40位移。该定位层30的可见光穿透率不小于80％，避免遮蔽光线以保持良好的出光效果。该光学弹性胶体可包括离子型聚烯类材料、非离子型聚烯类材料、丙烯酸系树脂及含硅材料至少其中一者，可依结构需求选用。较佳地，该位移抑制面31朝远离该光学基材10的一侧凸设复数个抵凸311，该复数个抵凸311相互间隔排列且供抵接该至少一发光元件40，如图3所示，接触稳定性佳。各该抵凸311可例如但不限为圆柱状、立方体、半圆凸起或其他任意形状；该复数个抵凸311可全面地分布于该位移抑制面31，亦可局部地分布于该位移抑制面31并对应于该至少一发光元件40，皆可达到定位效果。在本实施例中，该定位层30全面地延伸分布于该第二面12，便于加工、定位。在其他实施例中，该定位层亦可依据该至少一光源的位置局部地分布于该第二面，减少材料成本。

本实用新型另提供一光模组2，其包括如上所述的均光膜1，另包括：一基板50及该至少一发光元件40。该至少一发光元件40设于该基板50上且与该位移抑制面31相接触，各该发光元件40于该均光膜1的一厚度方向上与一该均光结构20相对应，均光效果佳。该基板50与该位移抑制面31于该厚度方向上较佳保持一间距D，借以提供适度的变形空间，利于加工且有助于散热及光线传递。于其他实施例中，该光模组亦可依需求包括复数个沿该厚度方向相层叠的该均光膜，相邻的二该均光膜之间具有一空气间隙，借此该空气间隙可提供异材质的折射效果，均光效果佳。

另请参考如图5及图6所示的另一较佳实施例，该光学基材10a包括复数个相互层叠的层体13，该复数个层体13的折射率由该第二面12朝该第一面11递减，亦可达到扩散光线的效果。该位移抑制面31a包括至少一供接触该至少一发光元件40的接触面312，该至少一接触面312的算术平均粗糙度(Ra)介于0.01微米至30.00微米之间。于本实施例中，该位移抑制面31a包括至少一供对应该至少一发光元件40的定位凹部313；各该定位凹部313包括一该接触面312，进而可与该至少一发光元件40相定位连接，稳定性佳。

综上，通过该光学基材及该至少一均光结构，本实用新型的均光膜可均匀化该光模组的该至少一发光元件的光线，同时该定位层可有效避免该至少一发光元件因外力而位移，进而提供较佳的均光效果。

Claims

1.一种均光膜，其特征在于，包括：

一光学基材，包括相对的一第一面及一第二面；

至少一均光结构，设于该第一面，包括一可透光的光学辅助材料及分散于该光学辅助材料中的复数个散射颗粒；

及一定位层，设于该第二面，包括一相对远离该光学基材的位移抑制面，该位移抑制面供接触至少一发光元件。

2.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该光学基材的折射率大于该至少一均光结构的折射率。

3.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该光学基材包括复数个相互层叠的层体，该复数个层体的折射率由该第二面朝该第一面递减。

4.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该至少一均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的厚度相同。

5.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该至少一均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的延伸面积朝远离该第一面的一侧递减。

6.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该至少一均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的折射率朝远离该第一面的一侧递减。

7.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该至少一均光结构至少部分设有一非平滑表面。

8.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该定位层由一光学弹性胶体构成，该光学弹性胶体的硬度不大于3H。

9.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该位移抑制面朝远离该光学基材的一侧凸设复数个抵凸，该复数个抵凸相互间隔排列且供抵接该至少一发光元件。

10.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该位移抑制面包括至少一供接触该至少一发光元件的接触面，该至少一接触面的算术平均粗糙度介于0.01微米至30.00微米之间。

11.如权利要求1所述的均光膜，其特征在于，该位移抑制面包括至少一供对应该至少一发光元件的定位凹部。

12.如权利要求11所述的均光膜，其特征在于，各该定位凹部包括至少一供接触该至少一发光元件的接触面，该至少一接触面的算术平均粗糙度介于0.01微米至30.00微米之间。

13.如权利要求2所述的均光膜，其特征在于，该均光膜包括复数个该均光结构，各该均光结构包括复数个相互层叠的均光层，该复数个均光层的延伸面积朝远离该第一面的一侧递减，该复数个均光层的折射率朝远离该第一面的一侧递减，该复数个均光层的厚度相同；各该均光结构的一延伸面积大于一该发光元件的一径向尺寸；该至少一均光结构至少部分设有一非平滑表面；该定位层由一光学弹性胶体构成，该光学弹性胶体的硬度不大于3H；该位移抑制面朝远离该光学基材的一侧凸设复数个抵凸，该复数个抵凸相互间隔排列且供抵接该至少一发光元件。

14.一种光模组，包括如权利要求1至13任一项所述的均光膜，其特征在于，另包括：

一基板；

及至少一发光元件，设于该基板上且与该位移抑制面相接触，各该发光元件于该均光膜的一厚度方向上与一该均光结构相对应。

15.如权利要求14所述的光模组，其特征在于，该基板与该位移抑制在该厚度方向上保持一间距。