CN218651691U - 表面清洁设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种表面清洁设备，包括：清洁基部，清洁基部包括被配置为与待清洁表面摩擦接触的搅拌件；主体部，主体部至少用于容纳清洁液体存储部及回收存储部；安装在清洁基部的底部的至少一部分的滚动检测器，用于检测清洁基部沿待清洁表面的移动动作；自调节的支撑组件，自调节的支撑组件被配置为以施加到滚动检测器的扭矩为参数而自动调节滚动检测器相对于所述清洁基部的高度。

Description

表面清洁设备

技术领域

本公开涉及清洁设备技术领域，本公开尤其涉及一种表面清洁设备。

背景技术

湿式表面清洁设备适用于清洁地板等表面，如瓷砖、硬木地板和柔软的地毯表面等。

在湿式表面清洁设备清洁待清洁表面时，先将清洁液体输送至清洁模块，并通过清洁模块将清洁液体施加至待清洁表面，当清洁模块与待清洁表面产生相对运动时，实现待清洁表面的清洁。

CN113243833A公开了清洁设备自动控制方法及清洁设备，其公开了在清洁设备的滚动轮上集成检测装置，检测滚动轮的移动方向和速率信号，并根据信号来对清洁设备进行反馈控制。

但是，表面清洁设备的滚动轮通常在使用过程中由固定旋转轴支撑，在一些地面光滑的场景下，会出现打滑，在此情况下，滚动轮的冗余转动就会给表面清洁设备的控制器反馈错误信号，导致表面清洁设备在使用过程中突然发生动作变化，给用户造成较大困扰。

实用新型内容

本公开提供一种表面清洁设备。本公开的表面清洁设备通过以下技术方案实现。

本公开的表面清洁设备，用于对待清洁表面进行湿式清洁，所述表面清洁设备能够将清洁液体分配到所述待清洁表面并且回收使用过的清洁液体及所述待清洁表面上的污垢，所述表面清洁设备包括：

清洁基部，所述清洁基部包括被配置为与待清洁表面摩擦接触的搅拌件，所述清洁基部能够相对于所述待清洁表面往复移动；

其中，所述清洁基部与所述清洁液体存储部连通，以接收所述清洁液体存储部提供的清洁液体，所述清洁基部能够在所述待清洁表面上移动，通过所述搅拌件将所述清洁液体存储部提供的清洁液体分配至所述待清洁表面，并且通过所述清洁基部的吸口部吸入使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢，以对使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢进行回收；

回收存储部，所述回收存储部与所述清洁基部连通，以接收并存储所述清洁基部回收的使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢；

抽吸源，所述抽吸源用于向所述回收存储部施加负压，并通过所述回收存储部将所述负压提供至所述吸口部，以便将使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢抽吸至所述回收存储部；

主体部，所述主体部至少用于容纳所述清洁液体存储部及所述回收存储部；

安装在所述清洁基部的底部的至少一部分的滚动检测器，用于检测所述清洁基部沿待清洁表面的移动动作；

自调节的支撑组件，所述自调节的支撑组件被配置为以施加到所述滚动检测器的扭矩为参数而自动调节所述滚动检测器相对于所述清洁基部的高度。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑组件包括容纳体，所述滚动检测器部分地容纳于所述容纳体之内，所述滚动检测器能够相对于所述支撑组件进行滚动动作。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述滚动检测器的扭矩变化包括所述滚动检测器受到的待清洁表面的摩擦力的扭矩变化。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑组件包括设置于所述支撑组件的第一端的枢转轴，所述枢转轴与所述清洁基部的底部枢转连接；

所述支撑组件响应于所述滚动检测器的扭矩变化时，所述支撑组件的与所述第一端相对的第二端能够绕所述枢转轴转动，以使得所述滚动检测器相对于所述清洁基部的高度发生变化。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述枢转轴平行于所述滚动检测器进行滚动动作时所绕的轴线。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑组件还包括与所述容纳体可拆卸安装的支撑体，所述支撑体用于将所述滚动检测器部分地支撑于所述容纳体之内。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述容纳体与所述支撑体基于卡接结构可拆卸地安装。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑体包括至少一个扣手部，通过操作所述扣手部使得所述支撑体能够与所述容纳体卡接或者脱离卡接。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述卡接结构包括设置于所述容纳体上的至少一个卡接槽，以及设置于所述支撑体上的至少一个卡接突起；

其中，至少一个卡接突起配置或形成在所述扣手部上。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑组件还包括止挡部，基于所述止挡部，所述支撑组件的第二端绕所述枢转轴沿第一方向进行转动的转动范围被限制。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述止挡部设置在所述支撑组件的所述第二端。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑组件还包括缓冲结构，所述缓冲结构用于所述支撑组件的第二端绕所述枢转轴沿第二方向进行转动的最大行程进行缓冲，以减小或避免所述支撑组件与所述清洁基部的底部的震动。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述缓冲结构设置在所述支撑组件的所述第二端。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述滚动检测器包括：

辅助轮；

磁盘编码器；

辅助轮轴，所述辅助轮及所述磁盘编码器均固定套设在所述辅助轮轴上，所述辅助轮与所述磁盘编码器能够同步转动，以使得所述辅助轮的转动方向和/或转速能够基于所述磁盘编码器的检测信号被检测。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述辅助轮包括凹进区，所述磁盘编码器以嵌入的方式配置在所述凹进区之内。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述辅助轮的外周设置有防滑材料。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述滚动检测器还包括：

轴承组件，所述辅助轮轴基于所述轴承组件被所述支撑组件的支撑体可转动地支撑。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：

设置在所述支撑组件上的PCB电路板，所述PCB电路板至少基于所述磁盘编码器的检测信号生成指示所述辅助轮的转动方向和/或转速的信号。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述清洁基部包括具有容纳空间的底部壳体，所述支撑组件枢转结合地安装在所述底部壳体的容纳空间之中。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述底部壳体的容纳空间内形成有枢转孔，所述支撑组件的枢转轴与所述枢转孔配合以实现所述支撑组件与所述底部壳体的枢转结合安装。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述底部壳体的容纳空间之内还形成有止挡槽，所述止挡部在所述止挡槽内运动，以使得所述支撑组件的第二端绕所述枢转轴沿第一方向的转动范围被限制。

附图说明

附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的整体结构示意图。

图2是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的整体结构示意图。

图3是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部的一个视角的整体结构示意图。

图4是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部的另一个视角的整体结构示意图。

图5是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部去除了底部的一部分之后的结构示意图。

图6是本公开的一个实施方式的清洁基部的底部壳体的结构示意图。

图7是本公开的一个实施方式的清洁基部的底部壳体的另一个视角的结构示意图。

图8是本公开的一个实施方式的检测子系统的结构示意图。

图9是本公开的一个实施方式的检测子系统的另一个视角的结构示意图。

图10是本公开的一个实施方式的检测子系统的又一个视角的结构示意图。

图11是本公开的一个实施方式的支撑组件的局部结构示意图。

图12是本公开的一个实施方式的支撑组件的支撑体的结构示意图。

图13和图14是本公开的一个实施方式的滚动检测器的结构示意图。

图15是本公开的一个实施方式的辅助轮的结构示意图。

图16是本公开的一个实施方式的检测子系统的又一个视角的结构示意图。

附图标记说明

100 清洁基部

110 搅拌件

120 吸口部

130 滚轮

140 检测子系统

141 支撑组件

142 滚动检测器

143 PCB电路板

150 底部壳体

200 主体部

220 清洁液体存储部

230 回收存储部

280 显示屏组件

281 第一子壳体

282 第二子壳体

300 手柄组件

1000 表面清洁设备

1411 容纳体

1412 枢转轴

1413 支撑体

1415 扣手部

1416 止挡部

1417 缓冲结构

1418 卡接突起

1419 支撑滚槽

1421 辅助轮

1422 磁盘编码器

1423 辅助轮轴

1424 轴承组件

1425 防滑材料

1501 枢转孔

1502 止挡槽

2822 气流排出口。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。

除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。

在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。

当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。

为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如，在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。

这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。

图1和图2从两个不同的角度示出了本公开的一个实施方式的表面清洁设备的整体结构示意图。

图3是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部的一个视角的整体结构示意图。

图4是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部的另一个视角的整体结构示意图。

图5是本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部去除了底部的一部分之后的结构示意图。

首先参考图1至图5对本公开的表面清洁设备1000进行说明。

参考图1至图5，本公开的表面清洁设备1000，用于对待清洁表面进行湿式清洁，表面清洁设备1000能够将清洁液体分配到待清洁表面并且回收使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢，表面清洁设备1000包括：

清洁液体存储部220，清洁液体存储部220用于存储清洁液体；

清洁基部100，清洁基部100包括被配置为与待清洁表面摩擦接触的搅拌件110(例如可以是滚刷)，清洁基部100能够相对于待清洁表面往复移动；

其中，清洁基部100与清洁液体存储部220连通，以接收清洁液体存储部220提供的清洁液体，清洁基部100能够在待清洁表面上移动，通过搅拌件110将清洁液体存储部220提供的清洁液体分配至待清洁表面，并且通过清洁基部100的吸口部120吸入使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢，以对使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢进行回收；

回收存储部230，回收存储部230与清洁基部100连通，以接收并存储清洁基部100回收的使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢；

抽吸源，抽吸源用于向回收存储部230施加负压，并通过回收存储部230将负压提供至吸口部120，以便将使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢抽吸至回收存储部230；

主体部200，主体部200至少用于容纳清洁液体存储部220及回收存储部230；

安装在清洁基部1000的底部的至少一部分的滚动检测器142，用于检测清洁基部140沿待清洁表面的移动动作；

自调节的支撑组件141，自调节的支撑组件141被配置为以施加到滚动检测器142的扭矩为参数而自动调节滚动检测器142相对于清洁基部100的高度。

在本公开的一些实施方式中，表面清洁设备1000还包括至少一个滚轮130(优选为两个)，滚轮130设置于清洁基部100，滚轮130便于清洁基部100相对于待清洁表面往复移动。

在表面清洁设备1000的一些使用场景中，清洁基部100被用户操作进行往复移动，滚动检测器142受到的扭矩将发生变化(受到的静摩擦力方向发生变化)，如果滚动检测器142相对于清洁基部100具有固定的高度(例如滚动检测器142由清洁基部的底部露出固定的尺寸)，滚动检测器142可能发生打滑现象，进而导致清洁基部100的移动方向等的检测出现失误。

本公开的表面清洁设备1000，通过设置滚动检测器142，能够对清洁基部100的移动方向(前后方向)等进行准确检测，通过设置与清洁基部100的底部枢转结合安装的支撑组件141，当滚动检测器142受到的扭矩发生变化时，支撑组件141能够响应于滚动检测器142受到的扭矩的变化而自动操作/自动动作，从而使得滚动检测器142相对于清洁基部100的高度发生相应的变化，避免滚动检测器142受到的扭矩发生变化时而发生的滚动检测器142打滑等问题。

在本公开的一些实施方式中，本公开的滚动检测器142包括与待清洁表面滚动接触的滚动体(例如下文描述的辅助轮)，及至少能够检测滚动体的滚动方向的检测器(例如下文描述的磁盘编码器)。

图1和图2均从整体上示出了本公开的一个实施方式的表面清洁设备1000的结构，表面清洁设备1000包括清洁基部100、主体部200及手柄组件300。

图1和图2均示出了清洁液体存储部220、回收存储部230、显示屏组件280。

在本公开的一些实施方式中，主体部200与清洁基部100枢转地连接，使得主体部200能够处于平行于或者垂直于待清洁表面的姿态，即使得表面清洁设备1000可以工作在躺式清洁模式和直立清洁模式等。

在本公开的一些实施方式中，表面清洁设备1000的抽吸源设置在主体部200的第一子壳体281之内，抽吸源可以是抽吸马达等，本公开对抽吸源不做特别限定，本领域技术人员在本公开技术方案的启示下对抽吸源的类型/配置方式等进行调整，均落入本公开的保护范围。

在本公开的一些实施方式中，表面清洁设备1000还包括分离装置，分离装置设置在主体部200上，分离装置的一部分位于主体部的第二子壳体282之内，另一部分位于回收存储部230之内，通过设置分离装置，可以对回收存储部230中的流体进行固体/液体/固液混合物与气体的分离，使得排至表面清洁设备1000之外的气流中不含有固体/液体/固液混合物(图1中示出了气流排出口2822)，避免表面清洁设备在对待清洁表面进行清洁过程中对周围环境造成二次污染。

清洁液体存储部220及回收存储部230均可以可拆卸地安装在表面清洁设备1000的主体部200上。

本公开的清洁液体存储部220、回收存储部230、抽吸源、分离装置等均可以采用中国专利CN114376459A中的相应结构或类似结构，本公开对此不做特别限定，本领域技术人员在本公开技术方案的启示下，对清洁液体存储部220、回收存储部230、抽吸源、分离装置等的具体类型/结构等进行调整，均落入本公开的保护范围。

参考图3和图4，本公开的清洁基部100适于与待清洁表面进行接触以执行对待清洁表面的湿式清洁操作或者干式清洁操作。

本公开的清洁基部100的搅拌件110可以采用滚刷结构，清洁基部100还可以包括对搅拌件110进行驱动的驱动机构、向搅拌件110的外表面分配清洁液体的流体分配器，均可以采用中国专利CN114376459A中的相应结构或类似结构，本公开对此不做特别限定，本领域技术人员在本公开技术方案的启示下，对搅拌件、驱动机构、流体分配器等的具体类型/结构等进行调整，均落入本公开的保护范围。

参考图5，清洁基部100的底部壳体被去除，示出了清洁基部100的吸口部120以及上文描述的检测子系统140。

图5中，检测子系统140设置在吸口部120的右侧位置，本领域技术人员在本公开技术方案的启示下，可以对检测子系统140的设置位置进行调整，均落入本公开的保护范围。

图6是本公开的一个实施方式的清洁基部100的底部壳体150的结构示意图。

参考图6，在本公开的一些实施方式中，本公开的清洁基部100包括具有容纳空间的底部壳体150，支撑组件141枢转结合地安装在底部壳体150的容纳空间之中。

图7是本公开的一个实施方式的清洁基部的底部壳体150的另一个视角的结构示意图。

图8是本公开的一个实施方式的检测子系统的结构示意图。

参考图8，在本公开的一些实施方式中，检测子系统140的支撑组件141包括容纳体1411，滚动检测器142部分地容纳于容纳体1411之内，滚动检测器142能够相对于支撑组件141进行滚动动作。

参考图8，滚动检测器142包括滚动体，滚动体能够与待清洁表面接触。

在本公开的一些实施方式中，检测子系统140的滚动检测器142的扭矩变化包括滚动检测器142的滚动体受到的待清洁表面的摩擦力的扭矩变化。

继续参考图8，在本公开的一些实施方式中，本公开的检测子系统140的支撑组件141包括设置于支撑组件141的第一端(图示的右端)的枢转轴1412，枢转轴1412与清洁基部100的底部枢转连接。

图8中从一个视角示出了枢转轴1412，需要说明的是，检测子系统140的另一侧也具有枢转轴，两个枢转轴1412具有相同的枢转轴线。

在本公开的一些实施方式中，容纳体1411优选地具有半开放结构，且其具有与滚动体向匹配的形状，参考图8。

参考图4和图8，在本公开的一些实施方式中，本公开的检测子系统140的支撑组件141响应于滚动检测器142的扭矩变化时，支撑组件141的与第一端(图8中的右端)相对的第二端(图8中的左端)能够绕枢转轴1412转动，以使得滚动检测器142相对于清洁基部100的高度发生变化。

在本公开的一些实施方式中，本公开的支撑组件141上的枢转轴1412平行于滚动检测器142进行滚动动作时所绕的轴线。

继续参考图8，在本公开的一些实施方式中，检测子系统140的支撑组件141还包括与容纳体1411可拆卸安装的支撑体1413，支撑体1413用于将滚动检测器142部分地支撑于容纳体1411之内。

如图8所示，支撑体1413优选地具有框架结构，使得滚动检测器142能够嵌入在支撑体1413的框架结构形成的框架空间之内，并部分地位于容纳体1411之中。

图9是本公开的一个实施方式的检测子系统140的另一个视角的结构示意图。图10是本公开的一个实施方式的检测子系统140的又一个视角的结构示意图。

在本公开的一些实施方式中，本公开的检测子系统140的支撑组件141的容纳体1411与支撑体1413基于卡接结构可拆卸地安装。

参考图8至图10，在本公开的一些实施方式中，本公开的检测子系统140的支撑组件141的支撑体1413包括一个扣手部1415，通过操作扣手部1415使得支撑体1413能够与容纳体1411卡接或者脱离卡接。

在本公开的一些实施方式中，上文描述的卡接结构包括设置于容纳体1411上的至少一个卡接槽，以及设置于支撑体1413上的至少一个卡接突起；

其中，至少一个卡接突起配置或形成在扣手部1415上。

参考图9和图10，在本公开的一些实施方式中，支撑体1413包括两个卡接槽，容纳体1411包括两个卡接突起1418，每个卡接槽与一个卡接突起1418互相配合以实现卡接功能。

根据本公开的优选实施方式，其中一个卡接突起1418形成在扣手部1415上。

其中，扣手部1415与上文描述的枢转轴1412设置在支撑组件141的同一端(即上文描述的第二端)。

通过将容纳体1411与支撑体1413设置为可拆卸地安装，能够从容纳体1411上拆卸下支撑体1413，从而将滚动检测器142从容纳体1411释放，可以对缠绕在滚动检测器142上的缠绕物(例如毛发)进行清除。

图11是本公开的一个实施方式的支撑组件的局部结构示意图。图11示出了通过从容纳体1411上拆卸下支撑体1413，从而将滚动检测器142从容纳体1411释放下来的状态。

继续参考图9，在本公开的一些实施方式中，本公开的支撑组件141还包括止挡部1416，基于止挡部1416，支撑组件141的第二端(图9中的左端)绕枢转轴1412沿第一方向(即检测子系统140的支撑组件141的第二端绕枢转轴1412转动，支撑组件141升起后回落时的方向)进行转动的转动范围被限制。

参考图9和图11，本公开的支撑组件141的止挡部1416设置在支撑组件141的第二端。

在本公开的一些实施方式中，止挡部1416设置在支撑组件141的支撑体1413上，例如设置在支撑体1413的第二端的卡接槽的上方，上文描述的扣手部1415设置在支撑体1413的第一端。

需要说明的是，本公开上文描述的“第二端”与“第一端”相比较，“第二端”更靠近搅动件110，参考图5。

在本公开的一些实施方式中，本公开的检测子系统140的支撑组件141还包括缓冲结构1417，参考图9，缓冲结构1417用于支撑组件141的第二端绕枢转轴1412沿第二方向(上升方向)进行转动的最大行程进行缓冲，以减小或避免支撑组件141与清洁基部100的底部(底部壳体150)的震动。

缓冲结构1417可以是缓冲柱体的形式，其具有适当的柔性，例如可以使用橡胶材质作为缓冲结构1417的材质。

上文描述的第一方向与第二方向为相反的方向。

参考图9，在本公开的一些实施方式中，优选地，缓冲结构1417设置在支撑组件141的第二端。本领域技术人员在本公开技术方案的启示下，可以对缓冲结构1417的设置位置/具体类型/材质等进行调整，均落入本公开的保护范围。

图12是本公开的一个实施方式的支撑组件141的支撑体1413的结构示意图。

参考图12，可以在支撑体1413上设置支撑滚槽1419，使得支撑体1413能够对滚动检测器142进行滚动支撑。

参考图12，当扣手部1415被按压时，图12中示出的卡接突起1418能够从卡接卡接槽中脱出，从而解除支撑体1413与容纳体1411的卡接。

图13和图14是本公开的一个实施方式的滚动检测器的结构示意图。

图13和图14从两个不同的角度示出了滚动检测器142的结构。

参考图13和图14，在本公开的一些实施方式中，检测子系统140的滚动检测器142包括：

辅助轮1421；

磁盘编码器1422；

辅助轮轴1423，辅助轮1421及磁盘编码器1422均固定套设在辅助轮轴1423上，辅助轮1421与磁盘编码器1422能够同步转动，以使得辅助轮1421的转动方向和/或转速能够基于磁盘编码器1422的检测信号被检测。

辅助轮1421即本公开上文描述的滚动体。

其中，磁盘编码器1422可以采用现有技术中的磁编码器结构，本公开对此不做特别限定。

在本公开的一些实施方式中，优选地，本公开的滚动检测器142的辅助轮1421包括凹进区，磁盘编码器1422以嵌入的方式配置在凹进区之内，参考图15，图15示出了本公开的一个实施方式的辅助轮的结构示意图，其示出了辅助轮1421的凹进区。

在本公开的一些实施方式中，滚动检测器142的辅助轮1421的外周设置有防滑材料1425，防滑材料1425可以包覆在辅助轮1421的外周。防滑材料可以是橡胶材料等，本公开对此不做特别限定。

在本公开的一些实施方式中，参考图13，滚动检测器142还包括：

轴承组件1424，辅助轮轴1423基于轴承组件1424被支撑组件141的支撑体1413可转动地支撑。

轴承组件1424可以被上文描述的支撑体1413上设置的支撑滚槽1419支撑。

在本公开的一些实施方式中，本公开的表面清洁设备1000还包括：

设置在支撑组件141上的PCB电路板143，PCB电路板143至少基于磁盘编码器1422的检测信号生成指示辅助轮1421的转动方向和/或转速的信号。本公开不对PCB电路板的具体电路结构进行特别限定。

在本公开的一些实施方式中，PCB电路板143固定设置在支撑组件141上，例如可以固定设置在容纳体1411的一个侧壁上，本领域技术人员可以对PCB电路板143的设置位置/安装方式等进行调整，均落入本公开的保护范围。

再次参考图6和图7，在本公开的一些实施方式中，本公开的清洁基部100的底部壳体150的容纳空间内形成有枢转孔1501(两个相对设的枢转孔1501)，支撑组件141的枢转轴1412与枢转孔1501配合以实现支撑组件141与底部壳体150的枢转结合安装。

在本公开的一些实施方式中，参考图7，本公开的清洁基部100的底部壳体150的容纳空间之内还形成有止挡槽1502，止挡部1416在止挡槽1502内运动，以使得支撑组件141的第二端绕枢转轴1412沿第一方向的转动的转动范围被限制。

在本公开的一些实施方式中，止挡部1416向上运动时，止挡槽1502的尺寸有余量，止挡部1416向下运动时，被止挡槽1502的下边缘限制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (21)

1.一种表面清洁设备，用于对待清洁表面进行湿式清洁，所述表面清洁设备能够将清洁液体分配到所述待清洁表面并且回收使用过的清洁液体及所述待清洁表面上的污垢，其特征在于，所述表面清洁设备包括：

清洁液体存储部，所述清洁液体存储部用于存储清洁液体；

清洁基部，所述清洁基部包括被配置为与待清洁表面摩擦接触的搅拌件，所述清洁基部能够相对于所述待清洁表面往复移动；

其中，所述清洁基部与所述清洁液体存储部连通，以接收所述清洁液体存储部提供的清洁液体，所述清洁基部能够在所述待清洁表面上移动，通过所述搅拌件将所述清洁液体存储部提供的清洁液体分配至所述待清洁表面，并且通过所述清洁基部的吸口部吸入使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢，以对使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢进行回收；

回收存储部，所述回收存储部与所述清洁基部连通，以接收并存储所述清洁基部回收的使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢；

抽吸源，所述抽吸源用于向所述回收存储部施加负压，并通过所述回收存储部将所述负压提供至所述吸口部，以便将使用过的清洁液体及待清洁表面上的污垢抽吸至所述回收存储部；

主体部，所述主体部至少用于容纳所述清洁液体存储部及所述回收存储部；

安装在所述清洁基部的底部的至少一部分的滚动检测器，用于检测所述清洁基部沿待清洁表面的移动动作；以及

自调节的支撑组件，所述自调节的支撑组件被配置为以施加到所述滚动检测器的扭矩为参数而自动调节所述滚动检测器相对于所述清洁基部的高度。

2.根据权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑组件包括容纳体，所述滚动检测器部分地容纳于所述容纳体之内，所述滚动检测器能够相对于所述支撑组件进行滚动动作。

3.根据权利要求1或2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述滚动检测器的扭矩变化包括所述滚动检测器受到的待清洁表面的摩擦力的扭矩变化。

4.根据权利要求1或2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑组件包括设置于所述支撑组件的第一端的枢转轴，所述枢转轴与所述清洁基部的底部枢转连接；

所述支撑组件响应于所述滚动检测器的扭矩变化时，所述支撑组件的与所述第一端相对的第二端能够绕所述枢转轴转动，以使得所述滚动检测器相对于所述清洁基部的高度发生变化。

5.根据权利要求4所述的表面清洁设备，其特征在于，所述枢转轴平行于所述滚动检测器进行滚动动作时所绕的轴线。

6.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑组件还包括与所述容纳体可拆卸安装的支撑体，所述支撑体用于将所述滚动检测器部分地支撑于所述容纳体之内。

7.根据权利要求6所述的表面清洁设备，其特征在于，所述容纳体与所述支撑体基于卡接结构可拆卸地安装。

8.根据权利要求7所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑体包括至少一个扣手部，通过操作所述扣手部使得所述支撑体能够与所述容纳体卡接或者脱离卡接。

9.根据权利要求8所述的表面清洁设备，其特征在于，所述卡接结构包括设置于所述容纳体上的至少一个卡接槽，以及设置于所述支撑体上的至少一个卡接突起；

其中，至少一个卡接突起配置或形成在所述扣手部上。

10.根据权利要求4所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑组件还包括止挡部，基于所述止挡部，所述支撑组件的第二端绕所述枢转轴沿第一方向进行转动的转动范围被限制。

11.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，所述止挡部设置在所述支撑组件的所述第二端。

12.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑组件还包括缓冲结构，所述缓冲结构用于所述支撑组件的第二端绕所述枢转轴沿第二方向进行转动的最大行程进行缓冲，以减小或避免所述支撑组件与所述清洁基部的底部的震动。

13.根据权利要求12所述的表面清洁设备，其特征在于，所述缓冲结构设置在所述支撑组件的所述第二端。

14.根据权利要求6所述的表面清洁设备，其特征在于，所述滚动检测器包括：

辅助轮；

磁盘编码器；

辅助轮轴，所述辅助轮及所述磁盘编码器均固定套设在所述辅助轮轴上，所述辅助轮与所述磁盘编码器能够同步转动，以使得所述辅助轮的转动方向和/或转速能够基于所述磁盘编码器的检测信号被检测。

15.根据权利要求14所述的表面清洁设备，其特征在于，所述辅助轮包括凹进区，所述磁盘编码器以嵌入的方式配置在所述凹进区之内。

16.根据权利要求14所述的表面清洁设备，其特征在于，所述辅助轮的外周设置有防滑材料。

17.根据权利要求14所述的表面清洁设备，其特征在于，所述滚动检测器还包括：

轴承组件，所述辅助轮轴基于所述轴承组件被所述支撑组件的支撑体可转动地支撑。

18.根据权利要求14所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：

设置在所述支撑组件上的PCB电路板，所述PCB电路板至少基于所述磁盘编码器的检测信号生成指示所述辅助轮的转动方向和/或转速的信号。

19.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，所述清洁基部包括具有容纳空间的底部壳体，所述支撑组件枢转结合地安装在所述底部壳体的容纳空间之中。

20.根据权利要求19所述的表面清洁设备，其特征在于，所述底部壳体的容纳空间内形成有枢转孔，所述支撑组件的枢转轴与所述枢转孔配合以实现所述支撑组件与所述底部壳体的枢转结合安装。

21.根据权利要求20所述的表面清洁设备，其特征在于，所述底部壳体的容纳空间之内还形成有止挡槽，所述止挡部在所述止挡槽内运动，以使得所述支撑组件的第二端绕所述枢转轴沿第一方向的转动的转动范围被限制。

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