CN218585173U - 一种用于光刻机的下沉式防微振基座 - Google Patents
一种用于光刻机的下沉式防微振基座 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种用于光刻机的下沉式防微振基座；用化学锚栓将L角钢和凹形角钢水平面固定在地面，同时L角钢竖直面用化学锚栓固定住混凝土立板，并在底部倒入环氧灌注胶。混凝土立板侧面使用侧钢板固定。防微振基座和混凝土立板之间使用粘钢胶+调平板连接。技术效果：在地面与高架地板距离过大时，也能满足光刻机的动刚度和防微振的高要求。并且由于设备安装在一楼地面，没有下夹楼层，本实用新型的结构也能给光刻机提供足够的管线布局空间。对于这种下沉式的半导体工厂结构，高架地板距离地面很高，超过了1200mm还多，采用混凝土立板这种形式的结构是首创。最重要的是，这种结构在便于安装的情况下，还能满足光刻机对防微振的高要求。
Description
技术领域
本实用新型涉及防微振基座领域，具体来讲涉及的是一种用于光刻机的下沉式防微振基座。
背景技术
随着半导体工厂和面板厂的生产技术要求不断提高，一些精密设备要求的防微振等级也随之提高，尤其是光刻机对底部基座的防微振需求。
在半导体或面板的无尘洁净车间生产过程中，对精度有严格的要求。部分设备运行时，随着机械硬件的运行移动，难免会产生一些振动，而精密设备对其周围振动非常敏感，若无法控制振动等级，则会对精密设备造成严重的影响。
然而部分半导体工厂的生产车间是在一层的地面，在考虑到地面的结构，以及管线的布置后，需要往下挖出很深的空间。这就导致高架地板到地面的高度达到1200mm以上，这样的距离导致在混凝土基座下加型钢的传统方案没有办法达到光刻机对基座动刚度和防微振的要求。
实用新型内容
因此，为了解决上述不足，本实用新型在此提供一种用于光刻机的下沉式防微振基座；解决光刻机安装在半导体工厂下沉式地面结构对的振动高需求。
本实用新型是这样实现的，构造一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；用化学锚栓（1）将L角钢（4）和凹形角钢（3）水平面固定在地面，同时L角钢（4）竖直面用化学锚栓（1）固定住混凝土立板（5），混凝土立板（5）的上部为防微振基座（8）。
根据本实用新型所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；混凝土立板（5）侧面使用侧钢板（6）固定。
根据本实用新型所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；防微振基座（8）和混凝土立板（5）之间使用粘钢胶+调平板（7）连接。
根据本实用新型所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；混凝土立板（5）底部倒入环氧灌注胶（2）。
根据本实用新型所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；防微振基座（8）底部用化学锚栓通过L角钢加固混凝土立板（5）。
本实用新型具有如下优点：在地面与高架地板距离过大时，也能满足光刻机的动刚度和防微振的高要求。并且由于设备安装在一楼地面，没有下夹楼层，本实用新型的结构也能给光刻机提供足够的管线布局空间。对于这种下沉式的半导体工厂结构，高架地板距离地面很高，超过了1200mm还多，采用混凝土立板这种形式的结构是首创。最重要的是，这种结构在便于安装的情况下，还能满足光刻机对防微振的高要求。
附图说明
图1是本实用新型实施结构示意图；
图2是本实用新型实施结构整体示意图。
其中：化学锚栓1（M16化学锚栓），环氧灌注胶2，凹形角钢3，L角钢4，混凝土立板5，侧钢板6，粘钢胶+调平板7，防微振基座8。
具体实施方式
下面将结合附图1-图2对本实用新型进行详细说明，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型通过改进在此提供一种用于光刻机的下沉式防微振基座，解决光刻机安装在半导体工厂下沉式地面结构对的振动高需求，具体实施如下；用化学锚栓1将L角钢4和凹形角钢3水平面固定在地面，同时L角钢4竖直面用化学锚栓1固定住混凝土立板5，混凝土立板5的上部为防微振基座8。
本实用新型实施时；混凝土立板5侧面使用侧钢板6固定。
本实用新型实施时；防微振基座8和混凝土立板5之间使用粘钢胶+调平板7连接。
本实用新型实施时；混凝土立板5底部倒入环氧灌注胶2。
本实用新型实施时；防微振基座8底部用化学锚栓通过L角钢加固混凝土立板5。
如附图-1-图2所示，实施时用化学锚栓1将L角钢4和凹形角钢3水平面固定在地面，同时L角钢4竖直面用化学锚栓1固定住混凝土立板5，并在底部倒入环氧灌注胶2。混凝土立板5侧面使用侧钢板6固定。防微振基座8和混凝土立板8之间使用粘钢胶+调平板7连接。
安装说明：将L角钢与混凝土立板固定后，移动到照画好的区域，通过化学锚栓固定在地面。3块混凝土立板固定完成后，在侧面安装上部侧钢板，底部倒入环氧灌注胶固定。将防微振基座安装在混凝土立板上，中间通过调平板调整水面和高度，然后使用粘钢胶固定。在防微振基座底部再用化学锚栓通过L角钢加固混凝土立板和基座的连接，最后固定侧面下部侧钢板。
技术效果：在地面与高架地板距离过大时，也能满足光刻机的动刚度和防微振的高要求。并且由于设备安装在一楼地面，没有下夹楼层，本实用新型的结构也能给光刻机提供足够的管线布局空间。对于这种下沉式的半导体工厂结构，高架地板距离地面很高，超过了1200mm还多，采用混凝土立板这种形式的结构是首创。最重要的是，这种结构在便于安装的情况下，还能满足光刻机对防微振的高要求。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (5)
1.一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；用化学锚栓（1）将L角钢（4）和凹形角钢（3）水平面固定在地面，同时L角钢（4）竖直面用化学锚栓（1）固定住混凝土立板（5），混凝土立板（5）的上部为防微振基座（8）。
2.根据权利要求1所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；混凝土立板（5）侧面使用侧钢板（6）固定。
3.根据权利要求1所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；防微振基座（8）和混凝土立板（5）之间使用粘钢胶+调平板（7）连接。
4.根据权利要求1所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；混凝土立板（5）底部倒入环氧灌注胶（2）。
5.根据权利要求1所述一种用于光刻机的下沉式防微振基座，其特征在于；防微振基座（8）底部用化学锚栓通过L角钢加固混凝土立板（5）。
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| CN202222244039.0U CN218585173U (zh) | 2022-08-25 | 2022-08-25 | 一种用于光刻机的下沉式防微振基座 |
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2022
- 2022-08-25 CN CN202222244039.0U patent/CN218585173U/zh active Active
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