CN218498027U - 一种半导体清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及半导体技术领域，且公开了一种半导体清洗设备，包括箱体；本实用新型通过按动按压杆使活塞移动，活塞移动将管体内部的空气从单向阀中排出，然后松开按压杆，按压杆在弹簧的作用下复位使管体内部的压强减小，使清洗液从吸液管中经过单向阀进入管体，然后按动按压杆使活塞将清洗剂排出管体的方式，能够达到定量添加清洗剂的目的，保证了添加的精准度，避免了添加过多或者过少，方便使用，通过打开阀门使箱体中的水通过回流管流进处理箱中，然后经过沉淀后，在经过活性炭和过滤网过滤后，水泵将水通过连接管输送进箱体内的方式，能够达到对清洗水循环使用的目的，节省了水资源，降低了清洗成本，保护了环境。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域，具体为一种半导体清洗设备。
背景技术
半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，在半导体生产时，需要对半导体进行清洗，而现有的清洗设备，不能定量添加清洗剂，一般清洗设备在添加清洗剂时，都是根据人的经验进行添加，添加不精准，添加的过多，造成添加剂浪费，增加生产成本，添加的过少，清洗不干净，难以掌握添加量，不方便使用，也不能对清洗水循环使用，一般清洗设备的清洗水，在清洗后直接排放掉，这样不仅污染了环境，而且浪费了大量的水资源，不环保，增加了清洗成本，为了解决上述所存在的问题，我们提出一种半导体清洗设备。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体清洗设备，具备能定量添加清洗剂和能对清洗水循环使用的优点，解决了现有的清洗设备不能定量添加清洗剂和不能对清洗水循环使用的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体清洗设备，包括箱体，所述箱体的内壁栓接有清洗剂箱，所述清洗剂箱的顶部连通有加料口，所述清洗剂箱的内部固定套接有管体，且管体的一端延伸至箱体的外部，所述管体的内部滑动套接有活塞，所述活塞与管体的内壁之间设置有弹簧，所述活塞的一侧栓接有按压杆，所述管体的内壁连通有单向阀，位于底部所述单向阀连通有吸液管，所述箱体的内部设置有清洗机构，所述箱体的内部栓接有处理箱，所述处理箱的内部设置有回流机构，所述处理箱的内壁栓接有隔板和过滤网，所述过滤网与隔板之间填充有活性炭，所述处理箱的内壁栓接有水泵，所述水泵的输出端连通有连接管，且连接管的另一端与箱体的内壁连通，通过按动按压杆使活塞移动，活塞移动将管体内部的空气从单向阀中排出，然后松开按压杆，按压杆在弹簧的作用下复位使管体内部的压强减小，使清洗液从吸液管中经过单向阀进入管体，然后按动按压杆使活塞将清洗剂排出管体的方式，能够达到定量添加清洗剂的目的，保证了添加的精准度，避免了添加过多或者过少，方便使用，通过打开阀门使箱体中的水通过回流管流进处理箱中，然后经过沉淀后，在经过活性炭和过滤网过滤后，水泵将水通过连接管输送进箱体内的方式，能够达到对清洗水循环使用的目的，节省了水资源，降低了清洗成本，保护了环境。
优选的，所述清洗机构包括换能器，所述换能器的表面与箱体的内壁固定套接，所述箱体的表面栓接有超声波发生器，通过设置清洗机构，方便清洗。
优选的，所述回流机构包括回流管，所述回流管的一端与箱体的内壁连通，且回流管的另一端延伸至处理箱的内部，所述回流管的表面连通有阀门，通过设置回流机构，方便控制水回流进处理箱中。
优选的，所述处理箱的表面连通有排污阀，通过设置排污阀，排出处理箱中的污水。
优选的，所述箱体的底部栓接有万向轮，通过设置万向轮，便于移动装置。
优选的，所述箱体的内部设置有清洗篮，通过设置清洗篮，便于清洗。
与现有技术相比，本实用新型提供了一种半导体清洗设备，具备以下有益效果：
1、本实用新型通过按动按压杆使活塞移动，活塞移动将管体内部的空气从单向阀中排出，然后松开按压杆，按压杆在弹簧的作用下复位使管体内部的压强减小，使清洗液从吸液管中经过单向阀进入管体，然后按动按压杆使活塞将清洗剂排出管体的方式，能够达到定量添加清洗剂的目的，保证了添加的精准度，避免了添加过多或者过少，方便使用；
2、本实用新型通过打开阀门使箱体中的水通过回流管流进处理箱中，然后经过沉淀后，在经过活性炭和过滤网过滤后，水泵将水通过连接管输送进箱体内的方式，能够达到对清洗水循环使用的目的，节省了水资源，降低了清洗成本，保护了环境。
附图说明
图1为本实用新型结构立体图；
图2为本实用新型结构剖面图；
图3为本实用新型图2中A处结构放大图。
图中：1、箱体；2、清洗剂箱；3、加料口；4、管体；5、活塞；6、弹簧；7、按压杆；8、单向阀；9、吸液管；10、清洗机构；11、处理箱；12、回流机构；13、隔板；14、过滤网；15、活性炭；16、水泵；17、连接管；18、换能器；19、超声波发生器；20、回流管；21、阀门；22、排污阀；23、万向轮；24、清洗篮。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1、图2、和图3，一种半导体清洗设备，包括箱体1，箱体1的内壁栓接有清洗剂箱2，清洗剂箱2的顶部连通有加料口3，清洗剂箱2的内部固定套接有管体4，且管体4的一端延伸至箱体1的外部，管体4的内部滑动套接有活塞5，活塞5与管体4的内壁之间设置有弹簧6，活塞5的一侧栓接有按压杆7，管体4的内壁连通有单向阀8，位于底部单向阀8连通有吸液管9，箱体1的内部设置有清洗机构10，箱体1的内部栓接有处理箱11，处理箱11的内部设置有回流机构12，处理箱11的内壁栓接有隔板13和过滤网14，过滤网14与隔板13之间填充有活性炭15，处理箱11的内壁栓接有水泵16，水泵16的输出端连通有连接管17，且连接管17的另一端与箱体1的内壁连通，通过按动按压杆7使活塞5移动，活塞5移动将管体4内部的空气从单向阀8中排出，然后松开按压杆7，按压杆7在弹簧6的作用下复位使管体4内部的压强减小，使清洗液从吸液管9中经过单向阀8进入管体4，然后按动按压杆7使活塞5将清洗剂排出管体4的方式，能够达到定量添加清洗剂的目的，保证了添加的精准度，避免了添加过多或者过少，方便使用，通过打开阀门21使箱体1中的水通过回流管20流进处理箱11中，然后经过沉淀后，在经过活性炭15和过滤网14过滤后，水泵16将水通过连接管17输送进箱体1内的方式，能够达到对清洗水循环使用的目的，节省了水资源，降低了清洗成本，保护了环境。
进一步的，清洗机构10包括换能器18，换能器18的表面与箱体1的内壁固定套接，箱体1的表面栓接有超声波发生器19，通过设置清洗机构10，方便清洗。
进一步的，回流机构12包括回流管20，回流管20的一端与箱体1的内壁连通，且回流管20的另一端延伸至处理箱11的内部，回流管20的表面连通有阀门21，通过设置回流机构12，方便控制水回流进处理箱11中。
进一步的，处理箱11的表面连通有排污阀22，通过设置排污阀22，排出处理箱11中的污水。
进一步的，箱体1的底部栓接有万向轮23，通过设置万向轮23，便于移动装置。
进一步的，箱体1的内部设置有清洗篮24，通过设置清洗篮24，便于清洗。
使用时，按动按压杆7使活塞5移动，活塞5移动将管体4内部的空气从单向阀8中排出，然后松开按压杆7，按压杆7在弹簧6的作用下复位使管体4内部的压强减小，使清洗液从吸液管9中经过单向阀8进入管体4，然后按动按压杆7使活塞5将清洗剂排出管体4，反复按动按压杆7，可以调节定量添加的量，从而达到定量添加清洗剂的目的；
打开阀门21使箱体1中的水通过回流管20流进处理箱11中，然后经过沉淀后，在经过活性炭15和过滤网14过滤后，水泵16将水通过连接管17输送进箱体1内，从而达到对水循环使用的目的。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种半导体清洗设备，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)的内壁栓接有清洗剂箱(2)，所述清洗剂箱(2)的顶部连通有加料口(3)，所述清洗剂箱(2)的内部固定套接有管体(4)，且管体(4)的一端延伸至箱体(1)的外部，所述管体(4)的内部滑动套接有活塞(5)，所述活塞(5)与管体(4)的内壁之间设置有弹簧(6)，所述活塞(5)的一侧栓接有按压杆(7)，所述管体(4)的内壁连通有单向阀(8)，位于底部所述单向阀(8)连通有吸液管(9)，所述箱体(1)的内部设置有清洗机构(10)，所述箱体(1)的内部栓接有处理箱(11)，所述处理箱(11)的内部设置有回流机构(12)，所述处理箱(11)的内壁栓接有隔板(13)和过滤网(14)，所述过滤网(14)与隔板(13)之间填充有活性炭(15)，所述处理箱(11)的内壁栓接有水泵(16)，所述水泵(16)的输出端连通有连接管(17)，且连接管(17)的另一端与箱体(1)的内壁连通。
2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于：所述清洗机构(10)包括换能器(18)，所述换能器(18)的表面与箱体(1)的内壁固定套接，所述箱体(1)的表面栓接有超声波发生器(19)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于：所述回流机构(12)包括回流管(20)，所述回流管(20)的一端与箱体(1)的内壁连通，且回流管(20)的另一端延伸至处理箱(11)的内部，所述回流管(20)的表面连通有阀门(21)。
4.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于：所述处理箱(11)的表面连通有排污阀(22)。
5.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于：所述箱体(1)的底部栓接有万向轮(23)。
6.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于：所述箱体(1)的内部设置有清洗篮(24)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202222014013.7U CN218498027U (zh) | 2022-08-01 | 2022-08-01 | 一种半导体清洗设备 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family
ID=85186706
Family Applications (1)
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| CN202222014013.7U Active CN218498027U (zh) | 2022-08-01 | 2022-08-01 | 一种半导体清洗设备 |
Country Status (1)
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2022
- 2022-08-01 CN CN202222014013.7U patent/CN218498027U/zh active Active
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