CN218447842U - 一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，包括半导体反应腔室本体，所述半导体反应腔室本体的顶部固定安装有四个固定块，四个所述固定块呈环形分布，所述固定块上固定安装有两个对称分布的凸起，所述半导体反应腔室本体的上方设置有用于对半导体反应腔室本体的顶部进行防护的保护机构；本实用新型涉及半导体制造技术领域；该用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，通过设置的固定块搭配环形安装块使用能够方便对环形防护条进行更换，从而能够避免环形防护条长期使用后表面出现磨损，无法提供有效防护，能够更好的对半导体反应腔室提供防护。

Description

一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体是一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室。

背景技术

随着时代的不断发展，我国在半导体制造领域取得了飞速的发展，其中在对晶圆的制造与加工一般会在去耦等离子氮处理反应腔室中真空进行，在反应腔室顶部需要准备一块大概12公斤重的石英盖板来密封反应腔室，在安放和移除石英盖板时需要格外小心，确保位置的准确以及避免反应腔室边缘被石英盖板磕碰。

公开号为CN216698307U公布了一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，其中，半导体反应腔室包括腔室本体和一开口，在开口四周环绕有凸出部，防护条可拆卸的卡接于凸出部上。本实用新型通过将防护条可活动的卡接于凸出部上，避免了当盖板盖设于开口上时，盖板对凸出部的内侧磕碰的问题，但是该装置存以下不足，在对半导体反应腔室进行防护时，仅通过防护条在放置盖板时进行防护会使得防护条磨损严重，长期使用后会出现损坏影响使用效果，导致盖板会磕碰半导体反应腔室。

为此，本实用新型提供了一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，以解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，解决了上述问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，包括半导体反应腔室本体，所述半导体反应腔室本体的顶部固定安装有四个固定块，四个所述固定块呈环形分布，所述固定块上固定安装有两个对称分布的凸起，所述半导体反应腔室本体的上方设置有用于对半导体反应腔室本体的顶部进行防护的保护机构；

所述保护机构包括设置在半导体反应腔室本体上方的环形安装块，所述环形安装块的底部开设有四个更换槽，所述固定块的顶部滑动延伸至对应的更换槽内，所述更换槽的内壁开设有两个对称分布的凹口，所述凸起的一端延伸至对应的凹口内，所述环形安装块的顶部固定安装有环形防护条，所述环形防护条上开设有环形气囊，所述环形气囊内填充有惰性气体。

优选的，所述半导体反应腔室本体的上方设置有两个用于分散环形防护条所受冲击力的缓冲组件，所述缓冲组件包括三个固定安装在半导体反应腔室本体顶部的圆筒，所述圆筒的底部内壁固定安装有第一弹簧，所述第一弹簧的顶端固定安装有T形杆，所述T形杆的顶端滑动延伸至圆筒外，三个所述T形杆的顶端固定安装有同一个承受板，所述承受板的顶部固定安装有软垫，通过设置的缓冲组件能够在石英盖板压制环形防护条时分散环形防护条所承受的压力，从而增加环形防护条的使用寿命。

优选的，所述半导体反应腔室本体的顶部固定安装有多个对称分布的安装块，所述安装块的顶部开设有圆槽，所述圆槽内设置有圆杆，所述圆杆的顶端滑动延伸至圆槽外，所述圆杆的顶端固定安装有辅助块，所述辅助块的顶部活动镶嵌有滚珠，通过设置的辅助块能够协助分散石英盖板对环形防护条的冲击力。

优选的，所述安装块上开设有两个缓冲腔，所述辅助块的底部固定安装有两个T形滑杆，所述T形滑杆的底端滑动延伸至对应的缓冲腔内，通过设置的T形滑杆方便对辅助块进行连接，从而能够使得辅助块能够平缓升降。

优选的，所述T形滑杆上滑动套设有第二弹簧，所述第二弹簧的顶端与辅助块的底部固定连接，所述第二弹簧的底端与安装块的顶部固定连接，通过设置的第二弹簧能够提供向上的作用力，从而能够对辅助块提供缓冲作用，辅助分散石英盖板的冲击力。

优选的，所述圆杆上开设有两个对称分布的滑槽，所述圆槽的内壁固定安装有两个对称分布的挡杆，所述挡杆的一端延伸至对应的滑槽内，通过设置的滑槽和档杆搭配使用能够对圆杆进行限位，防止圆杆带动辅助块发生偏转影响使用效果。

优选的，所述环形防护条采用聚丙烯材料制作而成，所述软垫采用橡胶材质制作而成，通过设置的聚丙烯材质的环形防护条具有较高的挠曲强度，光滑的表面，良好的抗疲劳性，并且防潮效果显著、吸水率低等优点。

优选的，一种半导体反应腔室包括上述实施例中任意一项所述的用于半导体反应腔室的防护条。

有益效果

本实用新型提供了一种用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室。与现有技术相比具备以下有益效果：

(1)、该用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，通过设置的固定块搭配环形安装块使用能够方便对环形防护条进行更换，从而能够避免环形防护条长期使用后表面出现磨损，无法提供有效防护，能够更好的对半导体反应腔室提供防护。

(2)、该用于半导体反应腔室的防护条及半导体反应腔室，通过设置的缓冲组件能够在石英盖板压制环形防护条时分散环形防护条所承受的压力，从而增加环形防护条的使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型的外部结构立体图；

图2是本实用新型的局部正视剖视结构示意图；

图3是本实用新型中缓冲组件的剖视结构立体图；

图4是本实用新型中固定块、凸起、环形安装块、更换槽、凹口、环形防护条和环形气囊的装配图；

图5是本实用新型中环形安装块、更换槽和凹口的装配图。

图中：1、半导体反应腔室本体；2、固定块；3、凸起；4、环形安装块；5、更换槽；6、凹口；7、环形防护条；8、环形气囊；9、圆筒；10、第一弹簧；11、T形杆；12、承受板；13、软垫；14、安装块；15、圆槽；16、圆杆；17、辅助块；18、滚珠；19、缓冲腔；20、T形滑杆；21、第二弹簧；22、滑槽；23、挡杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例一：

请参阅图1、图4和图5，一种用于半导体反应腔室的防护条，包括半导体反应腔室本体1，半导体反应腔室本体1的顶部固定安装有四个固定块2，四个固定块2呈环形分布，固定块2上固定安装有两个对称分布的凸起3，半导体反应腔室本体1的上方设置有用于对半导体反应腔室本体1的顶部进行防护的保护机构；

保护机构包括设置在半导体反应腔室本体1上方的环形安装块4，环形安装块4的底部开设有四个更换槽5，固定块2的顶部滑动延伸至对应的更换槽5内，更换槽5的内壁开设有两个对称分布的凹口6，凸起3的一端延伸至对应的凹口6内，环形安装块4的顶部固定安装有环形防护条7，环形防护条7上开设有环形气囊8，环形气囊8内填充有惰性气体。

实施例二：

请参阅图1至图5，本实施例在实施例一的基础上提供了一种技术方案：半导体反应腔室本体1的上方设置有两个用于分散环形防护条7所受冲击力的缓冲组件，缓冲组件包括三个固定安装在半导体反应腔室本体1顶部的圆筒9，圆筒9的底部内壁固定安装有第一弹簧10，第一弹簧10的顶端固定安装有T形杆11，T形杆11的顶端滑动延伸至圆筒9外，三个T形杆11的顶端固定安装有同一个承受板12，承受板12的顶部固定安装有软垫13；

半导体反应腔室本体1的顶部固定安装有多个对称分布的安装块14，安装块14的顶部开设有圆槽15，圆槽15内设置有圆杆16，圆杆16的顶端滑动延伸至圆槽15外，圆杆16的顶端固定安装有辅助块17，辅助块17的顶部活动镶嵌有滚珠18；

安装块14上开设有两个缓冲腔19，辅助块17的底部固定安装有两个T形滑杆20，T形滑杆20的底端滑动延伸至对应的缓冲腔19内；

T形滑杆20上滑动套设有第二弹簧21，第二弹簧21的顶端与辅助块17的底部固定连接，第二弹簧21的底端与安装块14的顶部固定连接；

圆杆16上开设有两个对称分布的滑槽22，圆槽15的内壁固定安装有两个对称分布的挡杆23，挡杆23的一端延伸至对应的滑槽22内；

环形防护条7采用聚丙烯材料制作而成，软垫13采用橡胶材质制作而成。

本申请的实施例还提供一种半导体反应腔室包括上述实施例中任意一项的用于半导体反应腔室的防护条。

同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。

工作原理：半导体反应腔室本体1的顶部设置有开口，当石英盖板放置在半导体反应腔室本体1顶部开口的上方时，其会先接触软垫13和滚珠18，软垫13和滚珠18受力后会分别带动T形杆11挤压第一弹簧10和T形滑杆20挤压第二弹簧21，然后石英盖板才会接触到环形防护条7，环形防护条7受力后，其内部环形气囊8能够为其提供支撑力，通过软垫13和滚珠18分散石英盖板的压力能够减缓环形防护条7所受压力，从而能够提高环形防护条7的使用寿命，当环形防护条7长期使用后，只需要向上提拉环形防护条7，使得环形安装块4与固定块2分离，凹口6与凸起3脱离，即可将环形防护条7取下，如需安装反向操作即可。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种用于半导体反应腔室的防护条，包括半导体反应腔室本体(1)，其特征在于：所述半导体反应腔室本体(1)的顶部固定安装有四个固定块(2)，四个所述固定块(2)呈环形分布，所述固定块(2)上固定安装有两个对称分布的凸起(3)，所述半导体反应腔室本体(1)的上方设置有用于对半导体反应腔室本体(1)的顶部进行防护的保护机构；

所述保护机构包括设置在半导体反应腔室本体(1)上方的环形安装块(4)，所述环形安装块(4)的底部开设有四个更换槽(5)，所述固定块(2)的顶部滑动延伸至对应的更换槽(5)内，所述更换槽(5)的内壁开设有两个对称分布的凹口(6)，所述凸起(3)的一端延伸至对应的凹口(6)内，所述环形安装块(4)的顶部固定安装有环形防护条(7)，所述环形防护条(7)上开设有环形气囊(8)，所述环形气囊(8)内填充有惰性气体。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体反应腔室的防护条，其特征在于：所述半导体反应腔室本体(1)的上方设置有两个用于分散环形防护条(7)所受冲击力的缓冲组件，所述缓冲组件包括三个固定安装在半导体反应腔室本体(1)顶部的圆筒(9)，所述圆筒(9)的底部内壁固定安装有第一弹簧(10)，所述第一弹簧(10)的顶端固定安装有T形杆(11)，所述T形杆(11)的顶端滑动延伸至圆筒(9)外，三个所述T形杆(11)的顶端固定安装有同一个承受板(12)，所述承受板(12)的顶部固定安装有软垫(13)。

3.根据权利要求2所述的一种用于半导体反应腔室的防护条，其特征在于：所述半导体反应腔室本体(1)的顶部固定安装有多个对称分布的安装块(14)，所述安装块(14)的顶部开设有圆槽(15)，所述圆槽(15)内设置有圆杆(16)，所述圆杆(16)的顶端滑动延伸至圆槽(15)外，所述圆杆(16)的顶端固定安装有辅助块(17)，所述辅助块(17)的顶部活动镶嵌有滚珠(18)。

4.根据权利要求3所述的一种用于半导体反应腔室的防护条，其特征在于：所述安装块(14)上开设有两个缓冲腔(19)，所述辅助块(17)的底部固定安装有两个T形滑杆(20)，所述T形滑杆(20)的底端滑动延伸至对应的缓冲腔(19)内。

5.根据权利要求4所述的一种用于半导体反应腔室的防护条，其特征在于：所述T形滑杆(20)上滑动套设有第二弹簧(21)，所述第二弹簧(21)的顶端与辅助块(17)的底部固定连接，所述第二弹簧(21)的底端与安装块(14)的顶部固定连接。

6.根据权利要求3所述的一种用于半导体反应腔室的防护条，其特征在于：所述圆杆(16)上开设有两个对称分布的滑槽(22)，所述圆槽(15)的内壁固定安装有两个对称分布的挡杆(23)，所述挡杆(23)的一端延伸至对应的滑槽(22)内。

7.根据权利要求2所述的一种用于半导体反应腔室的防护条，其特征在于：所述环形防护条(7)采用聚丙烯材料制作而成，所述软垫(13)采用橡胶材质制作而成。

8.一种半导体反应腔室，其特征在于：包括权利要求1-7中任意一项所述的用于半导体反应腔室的防护条。

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