CN218419730U - 清洁基站以及清洁设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于清洁技术领域，公开了一种清洁基站以及清洁设备。上述清洁基站包括清洗盘、架体、清水桶以及出水管，清洗盘包括本体部和设置在本体部上的储水部，储水部的外缘向上凸起形成第一储水槽；清水桶安装在架体上；出水管与架体连接，出水管与所述清水桶连通并设置在第一储水槽的上方。通过第一储水槽的设置，出水管的水从第一储水槽上方下落，在第一储水槽上形成一定量的水，刷地件伸入到第一储水槽，进而与清水充分接触，使得清水将刷地件上的脏污更好地洗掉，增加了清洁装置与清水的接触时间，提高水资源利用率同时提高清洁基站对清洁装置的清洗效果。清洁设备通过采用上述清洁基站，能够提高清洁装置的清洁效果，提高清水利用率。

Description

清洁基站以及清洁设备

技术领域

本实用新型涉及清洁技术领域，尤其涉及一种清洁基站以及清洁设备。

背景技术

市面上的清洁基站种类越来越多，清洁基站上设置有清洁盘，清洁装置在清洁地面一段时间后回到基站的清洗盘上进行清洗，但是在清水冲到清洁装置上时，清水经常未与清洁装置的拖地部分充分浸润就流走了。

这样一来，一方面，在预设时间内，清洁装置的清洗效果不够洁净，清洗过后再对地面进行清洁反而会对地面造成二次污染；另一方面，清水在清洁状态下流走，对水资源也是一种浪费。

因此，亟需设计一种清洁基站，以解决清洁基站清水浪费以及基站清洁效果不好的问题。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提供一种清洁基站，能够延长清水与清洁装置的接触时间，提高清洗效果，避免水资源浪费。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

清洁基站，用于对清洁装置进行处理，上述清洁基站包括：

架体；

清洗盘，与上述架体连接，上述清洗盘包括本体部和设置在上述本体部上的储水部，上述储水部的外缘向上凸起形成第一储水槽，上述本体部上开设有漏液孔；

清水桶，安装在上述架体上；以及

出水管，与上述架体连接，上述出水管与上述清水桶连通并设置在上述第一储水槽的上方。

可选地，上述清洁基站包括至少两个上述清洗盘，至少两个上述清洗盘沿预设方向间隔设置。

可选地，上述储水部由上述本体部的外缘延伸至上述本体部的中心。

可选地，上述第一储水槽的底板开设第二储水槽，上述第二储水槽的延伸方向与上述第一储水槽的延伸方向一致。

可选地，上述清洁基站还包括污水处理模块，上述污水处理模块包括：

污水桶，安装在上述架体上；以及

负压机构，一端与上述污水桶连通，上述负压机构被配置为将污水抽进上述污水桶中；

上述本体部上还开设有杂物孔，上述负压机构的另一端与上述杂物孔正对。

可选地，上述清洁基站还包括超声波模块，上述超声波模块设置在上述清洗盘下方并用于向上述清洗盘发出超声波。

可选地，上述超声波模块包括：

金属片，嵌合到上述架体上并设置在上述清洗盘的下方，上述金属片边缘与上述架体密封；以及

超声波换能片，设置在上述金属片背离上述清洗盘的一侧。

可选地，上述清洁基站还包括加热水模块，上述加热水模块设置于上述清水桶上，上述加热水模块被配置为对上述清水桶内的水进行加热。

可选地，上述架体开设清洁装置容置空间，上述清洁装置容置于上述清洁装置容置空间中，上述清洁基站还包括热风模块，上述热风模块包括：

风道，固定连接于上述架体上，上述风道的出风口朝向清洁装置容置空间；风扇，安装于上述风道的进风口处；以及

加热件，设置在上述风道内且设置在上述进风口与上述出风口之间。

本实用新型的另一个目的在于提供一种清洁设备，能够提高清洁装置的清洁效果，提高清水利用率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

清洁设备，包括清洁装置，上述清洁装置用于清洁地面，可选地，上述清洁设备还包括上述的清洁基站，上述清洁基站用于处理上述清洁装置。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型提供了一种清洁基站，通过第一储水槽的设置，出水管的水从第一储水槽上方下落，在第一储水槽上形成一定量的水，在清洁装置的刷地件等从第一储水槽经过时，刷地件伸入到第一储水槽并浸润到清水中，进而与清水充分接触，使得清水将刷地件上的脏污更好地洗掉，增加了清洁装置与清水的接触时间，同时清洁装置在刷地件转动的过程中带走脏污的水，清水再次流进第一储水槽中，形成清洁的良性循环，使得清水均得到充分的利用，提高水资源利用率同时提高清洁基站对清洁装置的清洗效果。

本使用新型还提供了一种清洁设备，通过采用上述清洁基站，能够提高清洁装置的清洁效果，提高清水利用率。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的清洁基站的结构示意图一；

图2是本实用新型实施例提供的清洁基站的结构示意图二；

图3是本实用新型实施例提供的清洁基站的爆炸图；

图4是本实用新型实施例提供的清洁基站的结构示意图三。

图中：

10、清洗盘；11、本体部；111、杂物孔；112、漏液孔；12、储水部；121、第一储水槽；1211、第二储水槽；13、刮泥部；

20、架体；21、上架体；22、下架体；23、托板；24、外壳；

30、清水桶；40、出水管；

50、污水处理模块；51、污水桶；52、负压机构；

60、超声波模块；61、金属片；62、超声波换能片；

70、加热水模块；

80、热风模块；81、风扇；82、风道；821、出风口；

90、清洁装置容置空间。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

本实施例公开一种清洁设备，包括清洁装置和清洁基站，清洁装置用于清洁地面，清洁基站用于对清洁装置进行处理。如图1所示，清洁基站包括架体20，架体20包括外壳24、上架体21、下架体22以及托板23，其中，外壳24是清洁基站的最外层，保护内部零件，外壳24一侧开设有供清洁装置通过的进口，上架体21、下架体22以及托板23从上至下依次布置，托板23上设置有阶梯斜面，方便清洁装置进入到清洁基站中。如图1和图2所示，清洁基站还包括清洗盘10，清洗盘10和架体20连接，具体而言，清洗盘10与下架体22连接并设置在托板23上方并与阶梯斜面衔接，上架体21、下架体22以及清洗盘10围成清洁装置容置空间90，清洁装置进入到清洁装置容置空间90后放置在清洗盘10上，清洁基站对清洁装置进行冲洗。为实现清洗功能，清洁基站还包括清水桶30和出水管40，清水桶30安装在架体20上，出水管40与清水桶30连通，出水管40与架体20连接并通向清洁装置容置空间90，使得水能够对清洁装置进行冲洗，清洁装置的刷地件一般会自行转动带动水流波动，刷地件一般为拖布或滚刷，但是在清水冲到清洁装置上时，清水经常未与清洁装置的拖地部分充分浸润就流走了。这样一来，一方面，在预设时间内，清洁装置的清洗效果不够洁净，清洗过后再对地面进行清洁反而会对地面造成二次污染；另一方面，清水在清洁状态下流走，对水资源也是一种浪费。

为了解决上述问题，本实施例提供一种清洁基站，能够延长清水与清洁装置的接触时间，提高清洗效果，避免水资源浪费。如图2所示，上述清洁基站的清洗盘10包括本体部11和设置在本体部11上的储水部12，储水部12的外缘向上凸起形成第一储水槽121，漏液孔112开设在本体部11上，上述清洁基站的出水管40设置在第一储水槽121的上方。

通过第一储水槽121的设置，出水管40的水从第一储水槽121上方下落，在第一储水槽121上形成一定量的水，在清洁装置的刷地件等从第一储水槽121经过时，刷地件伸入到第一储水槽121并浸润到清水中，进而与清水充分接触，使得清水将刷地件上的脏污更好地洗掉，增加了清洁装置与清水的接触时间，同时清洁装置在刷地件转动的过程中带走脏污的水，清水再次流进第一储水槽121中，形成清洁的良性循环，使得清水均得到充分的利用，提高水资源利用率同时提高清洁基站对清洁装置的清洗效果。

优选地，如图2所示，储水部12由本体部11的外缘延伸至本体部11的中心，使得清洁装置刷地件从旋转中心到边缘处均能充分与清水接触，提高对清洁装置清洁的均匀性。

优选地，第一储水槽121的底板上开设有第二储水槽1211，第二储水槽1211的延伸方向与第一储水槽121的延伸方向一致，通过第二储水槽1211的设置，进一步增加了储水部12的储水量，提高清洗刷地件的效果。

优选地，如图2所示，上述清洗盘10还包括刮泥部13，刮泥部13凸设在本体部11上，刮泥部13上凸设有多个凸包，能够增加刮泥部13的刮泥效果。本实施例中，本体部11上设置有两个刮泥部13以及一个储水部12，三者沿本体部11的周向依次排布。在其他实施例中，储水部12以及刮泥部13的个数可以根据实际情况进行调整，在此不作限定。需要说明的是，如储水部12的个数增加，出水管40的设置作相应调整即可，在此不作赘述。

优选地，本体部11从清洁装置进口到另一端向下倾斜设置，漏液孔112设置在本体部11的最低位，使得污水能够顺利流到漏液孔112处进而从漏液孔112处流出。

清洁装置一般包括两个或者多个刷地件以提高刷地效率，适应性地，上述清洁基站包括至少两个清洗盘10，至少两个清洗盘10沿X方向(预设方向)间隔设置。

清洗盘10在使用一段时间后，有必要将清洗盘10从架体20上取下对清洁基站进行彻底地清理，如图3和图4所示，清洁基站包括污水处理模块50，污水处理模块50包括污水桶51和负压机构52，污水桶51安装在架体20上，负压机构52一端与污水桶51连通，负压机构52用于将污水抽到污水桶51中，但是，杂物会残留到清洗盘10与下架体22之间的空隙中，当操作者取下清洗盘10后，杂物不好清理。

为了解决上述问题，本实施例中的本体部11上还设有杂物孔111，负压机构52的另一端与杂物孔111正对，使得杂物从杂物孔111中出去后，能够直接通过负压机构52进入到污水桶51中，避免杂物残留，使得清洁基站的清理更加容易。需要说明的是，负压机构52的连接管图中未显示，具体负压机构52的内部结构为现有技术，在此不作赘述。

可选地，杂物孔111尺寸大于漏液孔112的尺寸，杂物孔111与漏液孔112相邻设置，使得负压机构52与杂物孔111以及漏液孔112的距离都较近，同时提高吸取污水的效果。

优选地，如图3所示，清洁基站还包括超声波模块60，超声波模块60设置在清洗盘10的下方并用于向清洗盘10发出超声波，避免脏污物残留在清洗盘10上，延长了彻底清洗清洁基站的间隔时间。具体而言，超声波模块60包括金属片61和超声波换能片62，金属片61嵌入到架体20上并设置在清洗盘10的下方，金属片61边缘与架体20密封，超声波换能片62设置在金属片61背离清洗盘10的一侧，以实现对清洗盘10的超声波清洗。进一步地，金属片61为不锈钢片，防水性能好，延长金属片61的使用寿命。需要说明的是，超声波换能片62连接超声波发生装置发出超声波，具体连接方式以及超声发生装置的设置在此不作赘述。

优选地，如图3所示，上述清洁基站还包括热风模块80，热风模块80包括风道82、风扇81以及加热件，风道82固连与架体20上，风道82的出风口821朝向清洁装置容置空间90设置，风扇81安装于风道82的进风口处，加热件设置在风道82内且设置在进风口与出风口821之间。通过上述设置，使得清洁基站能向清洁装置吹热风，在清洗干净刷地件后对其进行吹干，使得清洁装置更快干，防止清洁装置受潮发霉，避免细菌滋生。可选地，加热件为PTC电阻加热器。优选地，出风口821设置有两个，两个出风口821分别设置在两个清洗盘10的上方，进风口位于进风通道的中部，以上设置使得一台风扇81能够同时对两个刷地件进行风干，提高风干效果。

优选地，如图4所示，清洁基站还包括加热水模块70，加热水模块70设置在清水桶30上，加热水模块用于对清水桶30内的水进行加热。使得清洁基站可以用热水对刷地件进行清洗，一方面，热水的清洗效果比常温水好，另一方面，热水可以起到杀菌的作用，再一个方面，使用者可以可选择性地在清水中放有杀菌酶，此种酶在热水中发挥的效果更好。具体怎样使水加热为本领域的常规设置，在此不作赘述。

本实施例还提供一种清洁设备，相比于现有的清洁设备，本实施例的清洁设备通过采用上述清洁基站，能够提高清洁装置的清洁效果，提高清水利用率。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.清洁基站，用于对清洁装置进行处理，其特征在于，所述清洁基站包括：

架体(20)；

清洗盘(10)，与所述架体(20)连接，所述清洗盘(10)包括本体部(11)和设置在所述本体部(11)上的储水部(12)，所述储水部(12)的外缘向上凸起形成第一储水槽(121)，所述本体部(11)上开设有漏液孔(112)；

清水桶(30)，安装在所述架体(20)上；以及

出水管(40)，与所述架体(20)连接，所述出水管(40)与所述清水桶(30)连通并设置在所述第一储水槽(121)的上方。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站包括至少两个所述清洗盘(10)，至少两个所述清洗盘(10)沿预设方向间隔设置。

3.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述储水部(12)由所述本体部(11)的外缘延伸至所述本体部(11)的中心。

4.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述第一储水槽(121)的底板开设第二储水槽(1211)，所述第二储水槽(1211)的延伸方向与所述第一储水槽(121)的延伸方向一致。

5.根据权利要求1-4任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括污水处理模块(50)，所述污水处理模块(50)包括：

污水桶(51)，安装在所述架体(20)上；以及

负压机构(52)，一端与所述污水桶(51)连通，所述负压机构(52)被配置为将污水抽进所述污水桶(51)中；

所述本体部(11)上还开设有杂物孔(111)，所述负压机构(52)的另一端与所述杂物孔(111)正对。

6.根据权利要求1-4任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括超声波模块(60)，所述超声波模块(60)设置在所述清洗盘(10)下方并用于向所述清洗盘(10)发出超声波。

7.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述超声波模块(60)包括：

金属片(61)，嵌合到所述架体(20)上并设置在所述清洗盘(10)的下方，所述金属片(61)边缘与所述架体(20)密封；以及

超声波换能片(62)，设置在所述金属片(61)背离所述清洗盘(10)的一侧。

8.根据权利要求1-4任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括加热水模块(70)，所述加热水模块(70)设置于所述清水桶(30)上，所述加热水模块(70)被配置为对所述清水桶(30)内的水进行加热。

9.根据权利要求1-4任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述架体(20)开设清洁装置容置空间(90)，所述清洁装置容置于所述清洁装置容置空间(90)中，所述清洁基站还包括热风模块(80)，所述热风模块(80)包括：

风道(82)，固定连接于所述架体(20)上，所述风道(82)的出风口(821)朝向清洁装置容置空间(90)；

风扇(81)，安装于所述风道(82)的进风口处；以及

加热件，设置在所述风道(82)内且设置在所述进风口与所述出风口(821)之间。

10.清洁设备，包括清洁装置，所述清洁装置用于清洁地面，其特征在于，所述清洁设备还包括如权利要求1-9任一项所述的清洁基站，所述清洁基站用于处理所述清洁装置。

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