CN218383511U - 成像薄膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型揭示一种成像薄膜，其包括聚焦层和图文层。聚焦层包括多个微结构，图文层包括多个微图文，多个微图文与多个微结构相适配形成具放大效果的图像。微图文包括构成图文的光致变色材料块，光致变色材料块的厚度设为H，宽度设为W，则H/W≥2。微图文采用光致变色材料形成，且H/W≥2，则微图文的图文在一定波长和强度的光作用下会发生颜色改变，且这种改变是可逆的；形成的图像在某些特定的光线作用下颜色会发生变化，当没有特定光线作用时恢复初始的颜色或者透明不可见，成像效果酷炫且更具防伪性。

Description

成像薄膜

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种成像薄膜。

背景技术

各种3D成像技术在信息、显示、医疗、军事、防伪、装饰等领域受到越来越多的关注。利用微透镜技术实现三维成像，具有非常的潜力和前景。随着微透镜阵列制造工艺的发展和高分辨率印刷和图像传感器的普及，3D成像技术吸引了越来越多的关注，3D成像的各项性能，比如景深，视角等，也得到了较大的提升。

具有3D成像技术的成像薄膜通常包括图文层和聚焦层，其中，图文层具有若干微图文，而聚焦层通常包括若干微透镜，微透镜与图文层相互作用，形成具有放大效果的影像。这种传统的成像薄膜缺少个性化，应用于防伪时效果一般。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种成像薄膜的以解决上述的至少一个技术问题。

本实用新型的技术方案如下：

一种成像薄膜，其包括：

聚焦层，其包括多个微结构；

图文层，其包括多个微图文，多个所述微图文与多个所述微结构相适配形成具放大效果的图像；

其中，所述微图文包括构成图文的光致变色材料块；所述光致变色材料块的厚度设为H，宽度设为W，则H/W≥2。

在其中一实施例中，所述图文层包括具有沟槽的承载体及在所述沟槽内填充光致变色材料形成的所述微图文。

在其中一实施例中，所述沟槽的宽度设为h，深度设为d，则h/d≥4。

在其中一实施例中，所述沟槽内的光致变色材料的厚度大于、等于或小于所述沟槽的深度。

在其中一实施例中，所述沟槽的宽度范围为0.5μm≤h≤20μm。

在其中一实施例中，所述图文层为丝印层。

在其中一实施例中，所述光致变色材料块的宽度范围为20μm≤W≤1mm。

在其中一实施例中，所述聚焦层和所述图文层的交界处相融合，所述聚焦层和所述图文层一体设置。

在其中一实施例中，所述成像薄膜还包括基材层，所述聚焦层设置于所述基材层的一侧，所述图文层设置于所述基材层的另一侧。

在其中一实施例中，所述成像薄膜还包括反射层，所述反射层覆盖于所述聚焦层上。

本实用新型的有益效果：微图文采用光致变色材料形成，且H/W≥2，则微图文的图文在一定波长和强度的光作用下会发生颜色改变，且这种改变是可逆的；形成的图像在某些特定的光线作用下颜色会发生变化，当没有特定光线作用时恢复初始的颜色或者透明不可见，成像效果酷炫且更具防伪性。

附图说明

图1为本实用新型的成像薄膜的平面分布示意图；

图2为本实用新型的成像薄膜的结构示意图；

图3为本实用新型的成像薄膜的另一实施例的结构示意图；

图4为本实用新型的成像薄膜的另一实施例的结构示意图；

图5为本实用新型的成像薄膜的另一实施例的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本实用新型揭示一种成像薄膜，其包括聚焦层和图文层。聚焦层包括多个微结构，图文层包括多个微图文，多个微图文与多个微结构相适配形成具放大效果的图像。微图文包括构成图案的光致变色材料块，光致变色材料块的厚度设为H，宽度设为W，则H/W≥2。微图文采用光致变色材料形成，且H/W≥2，则微图文的图文在一定波长和强度的光作用下会发生颜色改变，且这种改变是可逆的；形成的图像在某些特定的光线作用下颜色会发生变化，当没有特定光线作用时恢复初始的颜色或者透明不可见，成像效果酷炫且更具防伪性。

在一个实施例中，图文层包括具有沟槽的承载体及在沟槽内填充光致变色材料形成的微图文，即光致变色材料块形成于沟槽内。一种方式中，承载体可为光固化胶或热固化胶，通过压印并固化的方式形成沟槽，再在沟槽内填充光致变色材料形成微图文。其他方式中还可以通过涂布光刻胶和曝光显影的方式形成沟槽。沟槽的宽度设为h，深度设为d，则h/d≥4，沟槽的宽度范围为0.5μm≤h≤20μm。光致变色材料可刚好填充满、未填充满或超出填充沟槽，即沟槽内的光致变色材料的厚度等于、小于或大于沟槽的深度，结构稳定，保证质量。

在一个实施例中，图文层为丝印层。微图文通过丝印的方式直接形成，工艺简单，同样结构稳定，质量保证。

在一个实施例中，光致变色材料块的宽度范围为20μm≤W≤1mm。也即微图文的宽度范围为20μm≤W≤1mm，又微图文的H/W≥2，如此，光致变色材料块形成的微图文通过微结构形成的图像在某些特定的光线作用下颜色会发生变化，当没有特定光线作用时恢复初始的颜色或者透明不可见，成像效果酷炫且更具防伪性。

在一个实施例中，聚焦层和图文层的交界处相融合，聚焦层和图文层一体设置。例如，聚焦层和图文层形成于不同的UV胶层，两层UV胶在交界处相融合，融合后的聚焦层和图文层没有明显的或不存在界面，从而光学效果优秀，降低薄膜的整体厚度，且机械性能差，易于裁切。

在一个实施例中，成像薄膜还包括基材层，聚焦层设置于基材层的一侧，图文层设置于基材层的另一侧。基材层包括PET层、PI层、CPI层、PMMA层、PC层等中的一层或多层复合。

在一个实施例中，成像薄膜还包括反射层，反射层覆盖于聚焦层上，形成反射式的成像薄膜，可加强成像效果，降低薄膜厚度。

以下，请参图示，举例描述一种成像薄膜。

请参图1和图2，本实用新型揭示一种成像薄膜100，其包括基材层1、聚焦层2和图文层3。基材层1包括相对设置的第一侧面11和第二侧面12，聚焦层2设置于第一侧面11上，图文层3设置于第二侧面12上。聚焦层2包括多个微结构21，图文层3包括多个微图文31，多个微图文31与多个微结构21相适配形成放大的图像。微图文31包括构成图案的光致变色材料块，光致变色材料块的厚度设为H，宽度设为W，则H/W≥2。比如，H/W＝3、4或5。则光致变色材料块形成的微图文31在一定波长和强度的光作用下会发生颜色改变，且这种改变是可逆的；形成的图像在特定的光线作用下颜色会发生变化，当没有特定光线作用时恢复初始的颜色或透明不可见。比如，无特定光线作用时，成像薄膜不呈现图像，当特定光线作用时，成像薄膜呈现红色、绿色、蓝色等颜色的图像；或者，无特定光线作用时，成像薄膜呈现一种颜色的图像比如为红色，当特定光线作用时，成像薄膜的红色图像变成绿色图像。如此，成像薄膜的成像效果酷炫且更具防伪性。

请继续参阅图1和图2，在一个实施方式中，成像薄膜100的基材层1为PET层，在基材层1的第一侧面11涂布UV胶，压印固化后形成聚焦层2并得到微结构21。在基材层1的第二侧面12涂布UV胶，压印固化后形成具有沟槽321的承载层32，在沟槽321内填充光致变色材料，以形成光致变色材料块，从而得到图文层3及微图文31。

请参图3，本实用新型揭示了另一种成像薄膜101，其成像薄膜101包括聚焦层2和图文层3，聚焦层2包括多个微结构21，图文层3包括具有多个沟槽321的承载层32，在沟槽321内填充光致变色材料，得到光致变色材料块以形成微图文31。聚焦层2和图文层3直接接触，且可无明显界面或不存在界面，聚焦层2和图文层3一体设置。相同的，沟槽321的深宽比h/d≥4，沟槽的宽度范围为0.5μm≤h≤20μm。光致变色材料块的H/W≥2，形成的图像可在特定光线下呈现特定的颜色，无特定光线时图像为原色或透明色，效果奇特，方位效果较好。不同的实施例中，为方便理解，相同结构采用了相同的标号，下同。

请参图4，本实用新型揭示了另一种成像薄膜103，与成像薄膜100相比，区别在于成像薄膜100的聚焦层2还包括反射层4。成像薄膜103同样包括基材层1、聚焦层2和图文层3，聚焦层2包括多个微结构21，图文层3包括多个微图文31，微结构21和微图文31对应设置且相适配形成具有放大效果的图像。具有反射层4的成像薄膜102为反射式成像薄膜，通过反射层4能加强成像效果的显示，还可减小微结构2的焦距，从而减小成像薄膜103的整体厚度。

请参图5，本实用新型揭示了另一种成像薄膜104，其包括基材层1、聚焦层2和图文层3。基材层1包括相对设置的第一侧面11和第二侧面12，聚焦层2包括多个微结构21，图文层3包括多个微图文31。聚焦层2通过在第一侧面11涂布UV胶并压印固化形成多个微结构21。其他实施例中，也可以通过涂布光刻胶并光刻形成微结构。图文层21通过在第二侧面12丝印形成微图文31。其他实施例中，还可通过其他印刷方式形成，比如激光打印的方式。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，上面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在上面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于上面描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受上面公开的具体实施例的限制。并且，以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种成像薄膜，其特征在于，其包括：

聚焦层，其包括多个微结构；

图文层，其包括多个微图文，多个所述微图文与多个所述微结构相适配形成具放大效果的图像；

其中，所述微图文包括构成图文的光致变色材料块；所述光致变色材料块的厚度设为H，宽度设为W，则H/W≥2。

2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文层包括具有沟槽的承载体及在所述沟槽内填充光致变色材料形成的所述微图文。

3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述沟槽的宽度设为h，深度设为d，则h/d≥4。

4.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述沟槽内的光致变色材料的厚度大于、等于或小于所述沟槽的深度。

5.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述沟槽的宽度范围为0.5μm≤h≤20μm。

6.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文层为丝印层。

7.根据权利要求6所述的成像薄膜，其特征在于，所述光致变色材料块的宽度范围为20μm≤W≤1mm。

8.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦层和所述图文层的交界处相融合，所述聚焦层和所述图文层一体设置。

9.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述成像薄膜还包括基材层，所述聚焦层设置于所述基材层的一侧，所述图文层设置于所述基材层的另一侧。

10.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述成像薄膜还包括反射层，所述反射层覆盖于所述聚焦层上。

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