CN218210813U - 一种硅片冷却装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片冷却装置，属于冷却装置技术领域，包括机架；风机组件，设置在所述机架的顶端；输送组件，设置在所述机架内，位于所述风机组件的下方；控制器，设置在所述机架上，与所述风机组件、输送组件相连；其中，所述输送组件的起始端设置有温度传感器，所述温度传感器与所述控制器相连。本实用新型提供了一种硅片冷却装置，硅片进入冷却装置，在输送组件起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度可以调节风机组件的风量和输送组件的输送速度，保证硅片能均匀稳定的降温，提高了冷却效率，冷却效果好。

Description

一种硅片冷却装置

技术领域

本实用新型涉及冷却装置技术领域，尤其涉及一种硅片冷却装置。

背景技术

硅片经过氧化工序后，需要将硅片的温度降低到规定范围。目前所使用的生产线，在硅片从氧化炉出来后，一般直接进入冷却装置，但是现有冷却装置不能根据硅片温度调节风机风量，导致冷却速率慢，冷却效果较差。

实用新型内容

基于此，本实用新型提供了一种硅片冷却装置，该装置设置有控制器，控制器与风机组件和输送组件相连，输送组件的起始端设置有温度传感器，温度传感器与控制器相连，硅片进入冷却装置，在输送组件起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度调节风机组件的风量和输送组件的输送速度，保证硅片能均匀稳定的降温，一定程度上提高了冷却效率且冷却效果较好。

本实用新型采用的技术方案是：

一种硅片冷却装置，包括：

机架；

风机组件，设置在所述机架的顶端；

输送组件，设置在所述机架内，位于所述风机组件的下方；

控制器，设置在所述机架上，与所述风机组件、输送组件相连；

其中，所述输送组件的起始端设置有温度传感器，所述温度传感器与所述控制器电性相连。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述风机组件具有多个冷却单元，多个所述冷却单元均匀分布在所述机架的顶端，所述冷却单元与所述控制器相连。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述冷却单元具有风机，所述风机的出风口朝向所述输送组件，其进风口朝向所述机架的上方。

在本申请公开的硅片冷却装置中，三个所述风机构成一个所述冷却单元。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述输送组件包括：

支撑架，设置在所述机架上；

输送辊，设置在所述支撑架上，位于所述风机组件的下方，与所述控制器相连。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述输送组件还包括升降机构，所述支撑架设置在所述升降机构上，所述升降机构与所述控制器相连。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述升降机构为气缸、液压油缸、电动升降机中的任意一种。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述机架上设置有风帘，所述风帘位于所述输送组件的起始端和终止端。

在本申请公开的硅片冷却装置中，所述机架的两侧还设置有挡板，所述挡板与所述风帘构成冷却空间。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型提供一种硅片冷却装置，该冷却装置设置有控制器，控制器与风机组件和输送组件相连，输送组件的起始端设置有温度传感器，温度传感器与控制器相连，硅片进入冷却装置，在输送组件起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度调节风机组件的风量和输送组件的输送速度，保证硅片能均匀稳定的降温，提高了冷却效率，冷却效果好。输送组件还包括升降机构，升降机构可以控制支撑架的升降进而控制输送辊的升降，控制器可以根据检测的硅片温度，调整输送辊上的硅片与风机组件的距离，保证硅片能均匀稳定的降温。机架上设置有风帘和挡板，挡板与风帘构成冷却空间，硅片在冷却空间内进行冷却，可以有效地隔绝冷却装置内气体与外部空气的流通，避免粉尘、水蒸气进入电池冷却装置后粘附在硅片上。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的硅片冷却装置的结构示意图；

图2为冷却单元的结构示意图。

附图标记：

1、机架；

2、风机组件；21、冷却单元；22、风机；23、进风口；

3、输送组件；31、支撑架；32、输送辊；

4、风帘；

5、挡板。

具体实施方式

在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本实用新型的不同结构。为了简化本实用新型的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本实用新型。此外，本实用新型可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本实用新型提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。

目前所使用的生产线，在硅片从氧化炉出来后，一般直接进入冷却装置，但是现有冷却装置不能根据硅片温度调节风机风量，导致冷却速率慢，冷却效果较差。

为了解决现有技术的问题，本实用新型实施例提供了一种硅片冷却装置，其结构如附图1~2所示，包括：

机架1，设置在氧化炉的出口处，对冷却装置起支撑作用。经氧化炉氧化后的硅片从其出口进入冷却装置进行冷却。

风机组件2，设置在机架1的顶端，其产生的冷却风可对硅片进行冷却。

输送组件3，设置在机架1内，位于风机组件2的下方。经氧化炉氧化后的硅片从其出口处进入冷却装置，由输送组件3进行输送，输送组件3上方的风机组件2对下方的硅片进行吹风冷却，冷却结束后由输送组件3输送出冷却装置。

控制器，设置在机架1上，与风机组件2、输送组件3电性连接。控制器为PLC控制器，可以实现自动化控制风机组件2和输送组件3。

其中，输送组件3的起始端设置有温度传感器，温度传感器与控制器相连。进入冷却装置的硅片在输送组件3的起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度调整风机组件2的风量和输送组件3的输送速度，保证硅片能均匀稳定的降温，提高了硅片的冷却效率，冷却效果好。

硅片在氧化炉氧化后由其出口处进入冷却装置，在输送组件3的起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度调整风机组件2的风量和输送组件3的输送速度，硅片在输送组件3上输送时，风机组件2产生的冷却风对下方输送的硅片进行冷却，冷却结束后由输送组件3将硅片输送出冷却装置。

在一个实施例中，风机组件2具有多个冷却单元21。多个冷却单元21均匀分布在机架1的顶端，冷却单元21与控制器相连。机架1的顶端均匀分布有多个冷却单元21，保证硅片的受冷均匀，提高冷却效果。

在一个实施例中，冷却单元21具有风机22，风机22的出风口朝向输送组件3，其进风口23朝向机架1的上方。硅片冷却时，空气从上方经进风口23进入风机22，风机22产生的冷却风从出风口处排出对下方的硅片进行冷却。

在一个实施例中，请参见图2所示，三个风机22构成一个冷却单元21。每个冷却单元21相互独立，便于风机组件2的安装。三个风机22沿输送组件3的输送方向进行排列，保证输送组件3上的硅片受冷均匀。

在一个实施例中，输送组件3包括支撑架31和输送辊32。支撑架31设置在机架1上。输送辊32设置在支撑架31上，位于风机组件2的下方。多个输送辊32设置在支撑架31上，实现硅片的输送。输送辊32与控制器相连，控制器可以控制输送辊32的转动速度，进而控制输送组件3的输送速度，保证硅片的冷却效果。

在一个实施例中，输送组件3还包括升降机构，支撑架31设置在升降机构上。升降机构可以控制支撑架31的升降进而控制输送辊32的升降，使得输送辊32上的硅片能够远离或靠近风机组件2。升降机构与控制器相连，控制器可以根据温度传感器检测的温度和风机组件2的风量，调整硅片与风机组件2的距离，保证硅片能稳定的降温，提高冷却效率和冷却效果。

进一步地，升降机构为气缸、液压油缸、电动升降机中的任意一种，可以实现输送组件3的升降即可。

在一个实施例中，机架1上设置有风帘4，风帘4位于输送组件3的起始端和终止端。风帘4可以有效地隔绝冷却风与外部空气的流通。

进一步地，机架1的两侧还设置有挡板5，挡板5与风帘4构成冷却空间。硅片在冷却空间内进行冷却，可以有效地隔绝冷却空间内气体与外部空气的流通，避免粉尘、水蒸气进入电池冷却装置后粘附在硅片上。

本实用新型的硅片冷却装置的工作方式：

工作时，硅片在氧化炉氧化后由出口处进入冷却装置，在输送组件3的起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度调整风机组件2的风量和输送组件3的输送速度以及高度，硅片在输送辊32上输送时，空气从上方经进风口23进入风机22，风机22产生的冷却风从出风口处排出对下方的硅片进行冷却，冷却结束后由输送辊32将硅片输送出冷却装置。

基于上述各实施例，本实用新型实施例的硅片冷却装置具有以下优点：该冷却装置的结构简单紧凑，使用方便，冷却效率高，冷却效果好。该冷却装置设置有控制器，控制器与风机组件2和输送组件3相连，输送组件3的起始端设置有温度传感器，温度传感器与控制器相连，硅片进入冷却装置，在输送组件3起始端经温度传感器检测温度，控制器根据检测的温度调节风机组件2的风量和输送组件3的输送速度，风机组件2产生的冷风对硅片进行冷却，提高了冷却效率，冷却效果好。输送组件3还包括升降机构，升降机构可以控制支撑架31的升降进而控制输送辊32的升降，控制器可以根据检测的硅片温度，调整输送辊32输送的硅片与风机组件2的距离，保证硅片的冷却效果。机架1上设置有风帘4和挡板5，挡板5与风帘4构成冷却空间，硅片在冷却空间内进行冷却，可以有效地隔绝冷却空间内气体与外部空气的流通，避免粉尘、水蒸气进入电池冷却装置后粘附在硅片上。

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种硅片冷却装置，其特征在于，包括：

机架；

风机组件，设置在所述机架的顶端；

输送组件，设置在所述机架内，位于所述风机组件的下方；

控制器，设置在所述机架上，与所述风机组件、输送组件电性相连；

其中，所述输送组件的起始端设置有温度传感器，所述温度传感器与所述控制器相连。

2.根据权利要求1所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述风机组件具有多个冷却单元，多个所述冷却单元均匀分布在所述机架的顶端，所述冷却单元与所述控制器相连。

3.根据权利要求2所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述冷却单元具有风机，所述风机的出风口朝向所述输送组件，其进风口朝向所述机架的上方。

4.根据权利要求3所述的硅片冷却装置，其特征在于，三个所述风机构成一个所述冷却单元。

5.根据权利要求1所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述输送组件包括：

支撑架，设置在所述机架上；

输送辊，设置在所述支撑架上，位于所述风机组件的下方，与所述控制器相连。

6.根据权利要求5所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述输送组件还包括升降机构，所述支撑架设置在所述升降机构上，所述升降机构与所述控制器相连。

7.根据权利要求6所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述升降机构为气缸、液压油缸、电动升降机中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述机架上设置有风帘，所述风帘位于所述输送组件的起始端和终止端。

9.根据权利要求8所述的硅片冷却装置，其特征在于，所述机架的两侧还设置有挡板，所述挡板与所述风帘构成冷却空间。

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