CN218167269U - 一种氯化钾粉末加工用的研磨设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,涉及氯化钾研磨领域。该氯化钾粉末加工用的研磨设备包括设备底座和研磨座,所述研磨座设置在设备底座上,所述设备底座的顶部固定连接有立柱,所述立柱的顶部固定连接有顶板。该氯化钾粉末加工用的研磨设备在进行使用时,能够方便实现对少量需要加工的氯化钾粉末进行研磨,该装置整体体积小,结构紧凑,使用方便,对氯化钾粉末进行研磨加工时,通过滑台、升降组件、电机、抵紧组件和研磨头的设置,方便调节研磨压力,保证研磨头与研磨座之间贴合,使得研磨效果好,进而满足使用需求。
Description
技术领域
本实用新型涉及氯化钾研磨技术领域,具体为一种氯化钾粉末加工用的研磨设备。
背景技术
氯化钾是临床常用的电解质平衡调节药,临床疗效确切,广泛运用于临床各科。
在进行氯化钾粉末加工时,需要将氯化钾粉末进行研磨,从而使得氯化钾粉末后续与溶液混合充分,以便于临床使用,而目前的研磨设备体量大,结构复杂,当需要对少量的氯化钾粉末加工时,临床操作不够方便,而且在进行研磨时,研磨设备由研磨头和研磨座组成,在电机作用下带动研磨头旋转和研磨,研磨头和研磨座之间容易出现缝隙,使得氯化钾粉末研磨效果不好,针对现有技术的不足,本实用新型公开了一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,以解决上述问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型公开了一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,该装置在进行使用时,能够方便实现对少量需要加工的氯化钾粉末进行研磨,该装置整体体积小,结构紧凑,使用方便,对氯化钾粉末进行研磨加工时,通过滑台、升降组件、电机、抵紧组件和研磨头的设置,方便调节研磨压力,保证研磨头与研磨座之间贴合,使得研磨效果好,进而满足使用需求。
(二)技术方案
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,包括设备底座和研磨座,所述研磨座设置在设备底座上,所述设备底座的顶部固定连接有立柱,所述立柱的顶部固定连接有顶板;
所述立柱上滑动连接有滑台,所述滑台和顶板之间设有升降组件,所述升降组件包括导向柱、套管和定位杆;
所述滑台的底部设有电机,所述电机输出端设有抵紧组件,所述抵紧组件包括旋转盘、抵紧弹簧和限位杆;
所述抵紧弹簧上固定连接有研磨头。
优选的,所述导向柱固定连接在顶板上,所述套管固定连接在滑台上,所述导向柱上开设有多组定位孔,所述定位杆活动卡接在套管和定位孔内。
优选的,两组所述套管之间固定连接有固定柱,所述固定柱上滑动连接有两组滑块,两组所述滑块之间固定连接有卡位弹簧,所述定位杆固定连接在滑块上。
优选的,所述旋转盘固定连接在电机输出端,所述限位杆滑动连接在旋转盘上,所述限位杆固定连接在研磨头上,所述抵紧弹簧固定连接在旋转盘和研磨头之间。
优选的,所述旋转盘上开设有与限位杆相对应的圆孔。
优选的,所述滑台上开设有与立柱相对应的圆孔。
本实用新型公开了一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,其具备的有益效果如下:
1、该氯化钾粉末加工用的研磨设备,在进行使用时,能够方便实现对少量需要加工的氯化钾粉末进行研磨,该装置整体体积小,结构紧凑,使用方便,对氯化钾粉末进行研磨加工时,通过滑台、升降组件、电机、抵紧组件和研磨头的设置,方便调节研磨压力,保证研磨头与研磨座之间贴合,使得研磨效果好,进而满足使用需求。
2、该氯化钾粉末加工用的研磨设备,设置的固定柱提供两组滑块支撑限位,滑块提供定位杆支撑限位,通过弹簧的弹力作用,能够保证弹力施加在滑块和定位杆整体上,使得定位杆插入定位孔内部时插接稳定,保证对滑台的支撑限位稳定。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型导向柱的结构示意图;
图3为本实用新型抵紧组件的结构示意图;
图4为本实用新型滑块的拆解图。
图中:1、设备底座;2、立柱;3、顶板;4、滑台;5、升降组件;501、导向柱;5011、定位孔;502、套管;503、固定柱;504、滑块;505、卡位弹簧;506、定位杆;6、电机;7、抵紧组件;701、旋转盘;702、抵紧弹簧;703、限位杆;8、研磨头;9、研磨座。
具体实施方式
本实用新型实施例公开一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,如图1-4所示,包括设备底座1和研磨座9,研磨座9设置在设备底座1上,设备底座1的顶部固定连接有立柱2,立柱2的顶部固定连接有顶板3;
立柱2上滑动连接有滑台4,滑台4和顶板3之间设有升降组件5,升降组件5包括导向柱501、套管502和定位杆506;
滑台4的底部设有电机6,电机6输出端设有抵紧组件7,抵紧组件7包括旋转盘701、抵紧弹簧702和限位杆703;
抵紧弹簧702上固定连接有研磨头8。
导向柱501固定连接在顶板3上,套管502固定连接在滑台4上,导向柱501上开设有多组定位孔5011,定位杆506活动卡接在套管502和定位孔5011内,设置的套管502套接在导向柱501上,在套管502上开设有与定位杆506相对应的圆孔。
两组套管502之间固定连接有固定柱503,固定柱503上滑动连接有两组滑块504,两组滑块504之间固定连接有卡位弹簧505,定位杆506固定连接在滑块504上,设置的固定柱503提供两组滑块504支撑限位,滑块504提供定位杆506支撑限位,通过卡位弹簧505的弹力作用,能够保证弹力施加在滑块504和定位杆506整体上,使得定位杆506插入定位孔5011内部时插接稳定,保证对滑台4的支撑限位稳定。
旋转盘701固定连接在电机6输出端,限位杆703滑动连接在旋转盘701上,限位杆703固定连接在研磨头8上,抵紧弹簧702固定连接在旋转盘701和研磨头8之间,设置的抵紧组件7的整体构造简单,限位杆703的设置能够使得研磨头8受到侧向支撑,保证研磨头8的受力稳定。
旋转盘701上开设有与限位杆703相对应的圆孔,设置的限位杆703滑动连接在旋转盘701的圆孔内。
滑台4上开设有与立柱2相对应的圆孔,设置的滑台4受到立柱2的侧向支撑,受力稳定。
工作原理:该氯化钾粉末加工用的研磨设备在进行使用时,首先将需要加工的氯化钾粉末放置在研磨座9的内部,然后通过升降组件5来调整滑台4的高度,使得滑台4带动电机6、抵紧组件7和研磨头8运动,在电机6工作时,带动研磨头8旋转并进行研磨;
升降组件5在进行调节时,首先拉动两组滑块504,使得滑块504带动卡位弹簧505挤压,并同时带动定位杆506横向滑动脱离定位孔5011,此时将滑台4沿着导向柱501和立柱2进行滑动,调节滑台4的高度,当调节至目标高度时,松手滑块504,卡位弹簧505拉伸并推动滑块504和定位杆506运动,使得定位杆506插入位置较低的定位孔5011内;
设置的抵紧组件7能够保证研磨头8与研磨座9贴合,因此在进行研磨时,保证研磨效果好,在向下调节滑台4的高度时,滑台4会带动滑台4带动电机6、抵紧组件7和研磨头8整体向下运动,当研磨头8和研磨座9挤压时,挤压抵紧弹簧702,抵紧弹簧702的压缩量越大,其反作用于研磨头8和研磨座9之间的弹力就越大,从而保证研磨压力越大;
该装置在进行使用时,能够方便实现对少量需要加工的氯化钾粉末进行研磨,该装置整体体积小,结构紧凑,使用方便,对氯化钾粉末进行研磨加工时,通过滑台4、升降组件5、电机6、抵紧组件7和研磨头8的设置,方便调节研磨压力,保证研磨头8与研磨座9之间贴合,使得研磨效果好,进而满足使用需求。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,包括设备底座(1)和研磨座(9),所述研磨座(9)设置在设备底座(1)上,其特征在于:
所述设备底座(1)的顶部固定连接有立柱(2),所述立柱(2)的顶部固定连接有顶板(3);
所述立柱(2)上滑动连接有滑台(4),所述滑台(4)和顶板(3)之间设有升降组件(5),所述升降组件(5)包括导向柱(501)、套管(502)和定位杆(506);
所述滑台(4)的底部设有电机(6),所述电机(6)输出端设有抵紧组件(7),所述抵紧组件(7)包括旋转盘(701)、抵紧弹簧(702)和限位杆(703);
所述抵紧弹簧(702)上固定连接有研磨头(8)。
2.根据权利要求1所述的一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,其特征在于:所述导向柱(501)固定连接在顶板(3)上,所述套管(502)固定连接在滑台(4)上,所述导向柱(501)上开设有多组定位孔(5011),所述定位杆(506)活动卡接在套管(502)和定位孔(5011)内。
3.根据权利要求2所述的一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,其特征在于:两组所述套管(502)之间固定连接有固定柱(503),所述固定柱(503)上滑动连接有两组滑块(504),两组所述滑块(504)之间固定连接有卡位弹簧(505),所述定位杆(506)固定连接在滑块(504)上。
4.根据权利要求1所述的一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,其特征在于:所述旋转盘(701)固定连接在电机(6)输出端,所述限位杆(703)滑动连接在旋转盘(701)上,所述限位杆(703)固定连接在研磨头(8)上,所述抵紧弹簧(702)固定连接在旋转盘(701)和研磨头(8)之间。
5.根据权利要求4所述的一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,其特征在于:所述旋转盘(701)上开设有与限位杆(703)相对应的圆孔。
6.根据权利要求1所述的一种氯化钾粉末加工用的研磨设备,其特征在于:所述滑台(4)上开设有与立柱(2)相对应的圆孔。
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