CN217732746U - 一种导流基座 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种导流基座，所属化工设备技术领域，导流基座包括：第一基座、第二基座、排水沟和支撑组件；通过在第一基座上设置向上凸起的第二基座，并沿第二基座的周向在第一基座的顶面上设置排水沟，能够对液体进行导流，完全排空反渗透装置跑冒滴漏的水，避免水挥发后药剂结晶。通过设置支撑组件，减小了基座与反渗透装置底部的接触面积，对基座进行冲洗时，能够有效清理反渗透设备底部的污染物，使反渗透装置整洁干净；还能降低反渗透装置支撑架和预埋件的腐蚀程度，延长反渗透装置和支撑结构的使用年限，保证反渗透装置工作的连续性，从而确保工作效率。
Description
技术领域
本实用新型属于化工设备技术领域，具体涉及一种支撑基座。
背景技术
目前，反渗透膜法处理技术越来越广泛应用于水处理当中，其装置的安装流程主要包括先在制造厂进行反渗透装置设备集成，做成模块化的整体装置，再运抵现场摆放在土建基础上，连接好进出水口即可进行调试和运行。具有结构紧凑、占地小、安装便利，运维费用低等优点。
现有的反渗透装置安装在水平的混凝土基座上，安装难度大，当反渗透装置出现安装缺陷时，容易出现跑冒滴漏的情况，而水种加有还原剂等化学药剂，漏出的水在地面无法全部排空，水分挥发后在地面形成白色结晶，受作业空间限制不易清除。反渗透装置在使用一段时间后需要进行化学清洗，化学药剂一旦渗漏在反渗透装置底部，极难清理，即使用水冲洗也无法冲净，反而会形成大面积的地面结晶。同时，外界引入的污染物聚集在装置底部无法清理，既影响美观也容易引起反渗透装置支撑架和预埋件的腐蚀。
实用新型内容
为了解决上述现有技术中存在的当反渗透装置出现跑冒滴漏的情况漏出的水在地面无法全部排空，水分挥发后在地面形成白色结晶，不易清除，容易引起反渗透装置支撑架和预埋件的腐蚀等问题，本实用新型提供一种导流基座，通过在第一基座上设置向上凸起的第二基座，并沿第二基座的周向在第一基座的顶面上设置排水沟，能够对液体进行导流，完全排空反渗透装置跑冒滴漏的水，避免水挥发后药剂结晶，达到降低反渗透装置支撑架和预埋件的腐蚀程度的技术效果，延长反渗透装置和支撑结构的使用年限。其具体技术方案为：
一种导流基座，导流基座包括：第一基座、第二基座、排水沟和支撑组件；第二基座设置在第一基座的顶面上，且第二基座的顶部向背离第一基座的方向凸起；排水沟开设在第一基座的顶面上，且排水沟沿第二基座的周向环绕在第二基座的外侧；支撑组件设置在第二基座上，且支撑组件的顶面在同一水平面内。
另外，本实用新型提供的上述技术方案中的一种导流基座还可以具有如下附加技术特征：
可选的，第二基座的纵截面为三角形，以使第二基座的顶面形成两个斜面。
可选的，斜面与第一基座顶面的夹角不高于30度。
可选的，第二基座的纵截面为等腰钝角三角形。
可选的，导流基座还包括：排水口；排水口设置在第一基座的侧壁上，且排水口与排水沟相连通。
可选的，排水口的深度等于第一基座的高度。
可选的，支撑组件还包括：第一支撑件和第二支撑件；第一支撑件对称设置在第二基座的两个斜面上，且每个斜面上至少设置有四个第一支撑件；两个第二支撑件设置在两个斜面的交线处，且第二支撑件的顶面与第一支撑件的顶面在同一水平面内。
可选的，第一支撑件呈圆柱形。
可选的，第二支撑件呈圆柱形。
可选的，第一支撑件的横截面积大于第二支撑件的横截面积。
本实用新型的一种导流基座，与现有技术相比，有益效果为：
1.通过在第一基座上设置向上凸起的第二基座，并沿第二基座的周向在第一基座的顶面上设置排水沟，能够对液体进行导流，完全排空反渗透装置跑冒滴漏的水，避免水挥发后药剂结晶。
2.通过设置支撑组件，减小了基座与反渗透装置底部的接触面积，对基座进行冲洗时，能够有效清理反渗透设备底部的污染物，使反渗透装置整洁干净；还能降低反渗透装置支撑架和预埋件的腐蚀程度，延长反渗透装置和支撑结构的使用年限，保证反渗透装置工作的连续性，从而确保工作效率。
3.通过使斜面的倾角不高于30度，使第二基座与反渗透装置具有足够大的重合面积，同时确保了支撑组件连接的稳定性，提高了对反渗透装置支撑的稳定性。
4.通过使第二基座的纵截面为等腰三角形，便于支撑装置制作、安装方便，支撑组件受力均匀，不易损坏，延长了基座的使用年限。
附图说明
图1为本实用新型实施例的一种导流基座的结构示意图；
其中，图1中的附图标记与部件名称之间的对应关系为：
1、第一基座；2、第二基座；3、排水沟；4、支撑组件；401、第一支撑件；402、第二支撑件；5、排水口。
具体实施方式
下面结合具体实施案例和附图1对本实用新型作进一步说明，但本实用新型并不局限于这些实施例。
结合参见图1所示，根据本申请的实施例，一种导流基座，导流基座包括：第一基座1、第二基座2、排水沟3和支撑组件4；第二基座2设置在第一基座1的顶面上，且第二基座2的顶部向背离第一基座1的方向凸起；排水沟3开设在第一基座1的顶面上，且排水沟3沿第二基座2的周向环绕在第二基座2的外侧；支撑组件4设置在第二基座2上，且支撑组件4的顶面在同一水平面内。通过将第二基座2设置在第一基座1的上方，并使第二基座2的顶部向上凸起，确保当产生跑冒滴漏水的情况时，液体能够经过第二基座2导流后流入排水沟3中，将液体完全排空，防止反渗透装置底部有液体残留，避免结晶，减少对预埋件的腐蚀。
进一步的，第一基座1被排水沟3分割成支撑部和阻挡部，第二基座2安装在支撑部上，且所述第二基座2的边缘与支撑部的边缘重合，以防止第二基座2与第一基座1形成阶梯，保证液体能够完全流入排水沟3内，减少积留和结晶，保证防腐蚀效果。
进一步的，排水沟3开设时设置有倒角，从而避免第一基座1产生死角，便于清理，防止结晶的效果更好。
具体的，倒角为圆角，保证排水沟3与第一基座1光滑过渡，无死角。
作为一种本实施例，第二基座2的纵截面为三角形，以使第二基座2的顶面形成两个斜面。通过使第二基座2的纵截面为三角形，即第二基座2为三棱柱体，两个斜面便于安装支撑组件4，并能保证支撑组件4安装后的牢固性，结构可靠，确保对反渗透装置的稳定性。
斜面与第一基座1顶面的夹角不高于30度。通过使斜面的倾角不高于30度，增大第二基座2与反渗透装置重合的面积，同时能确保支撑组件4连接的稳定性，从而确保对反渗透装置支撑的稳定性。
第二基座2的纵截面为等腰钝角三角形。通过使第二基座2的纵截面为等腰三角形，便于支撑装置制作、安装方便，支撑组件4受力均匀，不易损坏，延长了基座的使用年限。
排水口5设置在第一基座1的侧壁上，且排水口5与排水沟3相连通。通过使排水口5与排水沟3连通，使排水沟3中的液体能够及时通过排水沟3排出，防止液体溢出，避免水挥发后药剂结晶，有效防止反渗透装置支撑架和预埋件腐蚀。
排水口5的深度等于第一基座1的高度。通过使排水口5的深度等于第一基座1的高度，能够快速、及时的将排水沟3中的液体排出，减少排水沟3内的液体残留，从而避免排水沟3内产生结晶现象，阻碍液体排出，保证排水效率。
第一支撑件401对称设置在第二基座2的两个斜面上，且每个斜面上至少设置有四个第一支撑件401；两个第二支撑件402设置在两个斜面的交线处，且第二支撑件402的顶面与第一支撑件401的顶面在同一水平面内。通过使第一支撑件401和第二支撑件402的顶面位于同一水平面内，能够保证反渗透装置与第一支撑件401和第二支撑件402都能够接触，增多支撑点位，并能使反渗透装置竖直安装，从而保证对反渗透装置支撑的稳定性。
具体的，第一支撑件401设置有四个，既能保证足够的支撑力，又能节省安装时间。
第一支撑件401呈圆柱形；第二支撑件402呈圆柱形。通过使第一支撑件401和第二支撑件402都为圆柱体，加工简单方便，生产高效；且第一支撑件401和第二支撑件402的侧壁呈光滑斜面，受力均匀，不易损坏，使用寿命更长。
第一支撑件401的横截面积大于第二支撑件402的横截面积，横截面积更大支撑力也更强，能够防止反渗透装置侧倾，保证对反渗透装置支撑的稳定性。
Claims (10)
1.一种导流基座，其特征在于，所述导流基座包括：
第一基座(1)；
第二基座(2)，所述第二基座(2)设置在所述第一基座(1)的顶面上，且所述第二基座(2)的顶部向背离所述第一基座(1)的方向凸起；
排水沟(3)，所述排水沟(3)开设在所述第一基座(1)的顶面上，且所述排水沟(3)沿所述第二基座(2)的周向环绕在所述第二基座(2)的外侧；
支撑组件(4)，所述支撑组件(4)设置在所述第二基座(2)上，且所述支撑组件(4)的顶面在同一水平面内。
2.根据权利要求1所述的一种导流基座，其特征在于：
所述第二基座(2)的纵截面为三角形，以使所述第二基座(2)的顶面形成两个斜面。
3.根据权利要求2所述的一种导流基座，其特征在于：
所述斜面与所述第一基座(1)顶面的夹角不高于30度。
4.根据权利要求2所述的一种导流基座，其特征在于：
所述第二基座(2)的纵截面为等腰钝角三角形。
5.根据权利要求1所述的一种导流基座，其特征在于，所述导流基座还包括：
排水口(5)，所述排水口(5)设置在所述第一基座(1)的侧壁上，且所述排水口(5)与所述排水沟(3)相连通。
6.根据权利要求5所述的一种导流基座，其特征在于：
所述排水口(5)的深度等于所述第一基座(1)的高度。
7.根据权利要求2所述的一种导流基座，其特征在于，所述支撑组件(4)还包括：
第一支撑件(401)，所述第一支撑件(401)对称设置在所述第二基座(2)的两个所述斜面上，且每个所述斜面上至少设置有四个所述第一支撑件(401)；
第二支撑件(402)，两个所述第二支撑件(402)设置在两个所述斜面的交线处，且所述第二支撑件(402)的顶面与所述第一支撑件(401)的顶面在同一水平面内。
8.根据权利要求7所述的一种导流基座，其特征在于：
所述第一支撑件(401)呈圆柱形。
9.根据权利要求7所述的一种导流基座，其特征在于：
所述第二支撑件(402)呈圆柱形。
10.根据权利要求7所述的一种导流基座，其特征在于：
所述第一支撑件(401)的横截面积大于所述第二支撑件(402)的横截面积。
Priority Applications (1)
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2022
- 2022-06-10 CN CN202221453527.6U patent/CN217732746U/zh active Active
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