CN217594452U - 一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及分散装置技术领域,尤其是一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,包括箱体,所述箱体的顶部及底部分别设置有进料口及出料口,所述箱体的顶部设置有电机,电机的轴端固定安装有延伸至箱体内侧的延伸管,延伸管的内侧开设有方孔,本实用新型通过设置的方杆在电机的驱动下转动,同时通过桶型凸轮抵接L型杆上下移动,使得方杆在带动搅拌叶转动时,能够上下移动进行多位置搅拌分散,分散的效果更好,同时本实用新型中通过设置的过滤盒能够对加入的原料进行过滤,从而避免原料中含有的异物影响分散效果的问题,本实用新型结构简单新颖,实用性较强,能够大大的提升企业的生产效率。

Description

一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置
技术领域
本实用新型涉及分散装置技术领域,尤其涉及一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置。
背景技术
分散机广泛应用于涂料、固体进行搅拌分散、溶解的高效设备,广泛应用涂料、油墨、颜料、胶粘剂等化工产品,该机由液压系统、主传动、搅拌系统、导向机构、电控箱五部分组成,各部分结构紧凑、合理。分散盘型式:平盘锯齿式、三义桨式、碟式、其它形式。
现有的金刚石抛光研磨液在加工时通常需要通过分散剂进行分散,但是现有的分散机的结构较为简单,分散效果不是很理想,因此严重影响分散后的成品质量。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在上述缺点,而提出的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
设计一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,包括箱体,所述箱体的顶部及底部分别设置有进料口及出料口,所述箱体的顶部设置有电机,电机的轴端固定安装有延伸至箱体内侧的延伸管,延伸管的内侧开设有方孔,且方孔的内侧活动插接有方杆,所述方杆的外侧间隔设置有搅拌叶,所述延伸管与方杆之间固定连接有弹簧,所述箱体的内侧底部固定安装有桶型凸轮,桶型凸轮的中部开设有用于放置方杆的通孔,所述方杆的底部外侧固定安装有L 型杆,所述L型杆的底部设置有与桶型凸轮上表面转动连接的滚轮。
优选的,所述箱体的侧壁开设有插孔,所述插孔的内侧活动插接有位于进料口下方的过滤盒,所述过滤盒的底部设置有过滤网,所述过滤盒与箱体之间设置有固定装置。
优选的,所述固定装置包括固定块,所述固定块的底部活动插接有定位杆,定位杆与固定块之间固定连接有拉簧,所述过滤盒的外侧固定安装有与定位杆插接配合的翼板。
优选的,所述箱体的底部四角均设置有支脚,所述支脚的底部设置有减震垫。
本实用新型提出的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,有益效果在于:本实用新型通过设置的方杆在电机的驱动下转动,同时通过桶型凸轮抵接L型杆上下移动,使得方杆在带动搅拌叶转动时,能够上下移动进行多位置搅拌分散,分散的效果更好,同时本实用新型中通过设置的过滤盒能够对加入的原料进行过滤,从而避免原料中含有的异物影响分散效果的问题,本实用新型结构简单新颖,实用性较强,能够大大的提升企业的生产效率。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置的A区放大结构示意图。
图中:1、箱体;2、进料口;3、电机;4、延伸管;5、方杆;6、搅拌叶; 7、弹簧;8、桶型凸轮;9、通孔;10、L型杆;11、滚轮;12、过滤盒;13、过滤网;14、固定块;15、定位杆;16、拉簧;17、翼板;18、支脚;19、减震垫。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-2,一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,包括箱体 1,箱体1的顶部及底部分别设置有进料口2及出料口,箱体1的顶部设置有电机3,电机3的轴端固定安装有延伸至箱体1内侧的延伸管4,延伸管4的内侧开设有方孔,且方孔的内侧活动插接有方杆5,方杆5的外侧间隔设置有搅拌叶 6,延伸管4与方杆5之间固定连接有弹簧7,箱体1的内侧底部固定安装有桶型凸轮8,桶型凸轮8的中部开设有用于放置方杆5的通孔9,方杆5的底部外侧固定安装有L型杆10,L型杆10的底部设置有与桶型凸轮8上表面转动连接的滚轮11。
更详细的是,箱体1的侧壁开设有插孔,插孔的内侧活动插接有位于进料口2下方的过滤盒12,过滤盒12的底部设置有过滤网13,过滤盒12与箱体1 之间设置有固定装置。
其中,固定装置包括固定块14,固定块14的底部活动插接有定位杆15,定位杆15与固定块14之间固定连接有拉簧16,过滤盒12的外侧固定安装有与定位杆15插接配合的翼板17。
需要说明的是,箱体1的底部四角均设置有支脚18,支脚18的底部设置有减震垫19。
本实用新型通过设置的方杆5在电机3的驱动下转动,同时通过桶型凸轮8 抵接L型杆10上下移动,使得方杆5在带动搅拌叶6转动时,能够上下移动进行多位置搅拌分散,分散的效果更好,同时本实用新型中通过设置的过滤盒12 能够对加入的原料进行过滤,从而避免原料中含有的异物影响分散效果的问题,本实用新型结构简单新颖,实用性较强,能够大大的提升企业的生产效率。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)的顶部及底部分别设置有进料口(2)及出料口,所述箱体(1)的顶部设置有电机(3),电机(3)的轴端固定安装有延伸至箱体(1)内侧的延伸管(4),延伸管(4)的内侧开设有方孔,且方孔的内侧活动插接有方杆(5),所述方杆(5)的外侧间隔设置有搅拌叶(6),所述延伸管(4)与方杆(5)之间固定连接有弹簧(7),所述箱体(1)的内侧底部固定安装有桶型凸轮(8),桶型凸轮(8)的中部开设有用于放置方杆(5)的通孔(9),所述方杆(5)的底部外侧固定安装有L型杆(10),所述L型杆(10)的底部设置有与桶型凸轮(8)上表面转动连接的滚轮(11)。
2.根据权利要求1所述的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,其特征在于:所述箱体(1)的侧壁开设有插孔,所述插孔的内侧活动插接有位于进料口(2)下方的过滤盒(12),所述过滤盒(12)的底部设置有过滤网(13),所述过滤盒(12)与箱体(1)之间设置有固定装置。
3.根据权利要求2所述的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,其特征在于:所述固定装置包括固定块(14),所述固定块(14)的底部活动插接有定位杆(15),定位杆(15)与固定块(14)之间固定连接有拉簧(16),所述过滤盒(12)的外侧固定安装有与定位杆(15)插接配合的翼板(17)。
4.根据权利要求1所述的一种提高化学金刚石抛光研磨液使用率的分散装置,其特征在于:所述箱体(1)的底部四角均设置有支脚(18),所述支脚(18)的底部设置有减震垫(19)。
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