CN217579144U - 一种mocvd石墨盘均匀加热装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，包括箱体，所述箱体的外表面设置有转动环，所述转动环的上表面固定连接有滑动杆，所述滑动杆的外表面滑动连接有盖板，所述转动环的上表面且位于滑动杆的右侧固定连接有伸缩杆，所述盖板的上表面设置有降温装装置，所述降温装置的下表面固定连接有连接头。本实用新型，通过设计降温装置，实现在正常情况下不会对加热产生影响，当出现超温的情况下，可以在不打开盖子的情况下实现降温，增加降温的速度，通过设计可以升降的盖子与连接头，实现避免出现高温的盖子放置在桌面上导致误触的情况且可以通过盖子的升降控制石墨盘的高度，避免需要将手伸入箱体的内部拿取石墨盘，增加装置使用的便利性。

Description

一种MOCVD石墨盘均匀加热装置

技术领域

本实用新型涉及加热装置领域，尤其涉及一种MOCVD石墨盘均匀加热装置。

背景技术

MOCVD是1968年提出制备化合物单晶薄膜的一项新技术，到80年代初得以实用化。从定义上来看，MOCVD是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。在金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术中，反应气体在升高的温度下在反应器中结合以引起化学相互作用，将材料沉积在基板上。在MOCVD中，将超纯气体注入反应器中并精细计量以将非常薄的原子层沉积到半导体晶片上。含有所需化学元素的有机化合物或金属有机物和氢化物的表面反应为晶体生长创造条件，形成材料和化合物半导体的外延。进行MOCVD的反应器必须承受高温。反应室由反应器壁，衬管，基座，气体注入单元和温度控制单元组成。通常，反应器壁由不锈钢或石英制成。

如专利号为CN202989278U中介绍的一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置，圆环形凹槽改变了传统石墨基座单一的加热方式，根据电磁感应加热的特性，既有直接的热传导，又有辐射加热，提高了晶片温度分布的均匀性。对于大尺寸的晶片来说，不需要增加基座的高度，结构简单，加热效率高，更加适合在大尺寸的MOCVD反应室中使用。

现有的一些MOCVD石墨盘均匀加热装置有以下缺陷：

1、目前MOCVD石墨盘均匀加热装置无法快速的装置过热；

2、目前MOCVD石墨盘均匀加热装置隔热效果差，导致在拿取石墨盘时容易产生灼伤。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，包括箱体，所述箱体的外表面设置有转动环，所述转动环的上表面固定连接有滑动杆，所述滑动杆的外表面滑动连接有盖板，所述转动环的上表面且位于滑动杆的右侧固定连接有伸缩杆，所述盖板的上表面设置有降温装置；

所述降温装置的下表面固定连接有连接头，所述箱体的内部设置有第一保温层，所述盖板的下表面固定连接有第二保温层，所述箱体的底内壁固定连接有第一加热片，所述箱体的内侧壁固定连接有第二加热层，所述第二加热层的外表面固定连接有陶瓷层，所述箱体的底内壁固定连接有支撑杆，所述支撑杆的上表面设置有石墨盘，所述石墨盘的上表面设置有开孔。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述伸缩杆的输出端与盖板固定连接，所述连接头呈T型。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述降温装置包括水箱、水泵、金属导管、单向阀与降温板，所述水箱与盖板的上表面固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述水泵与水箱的内表面固定连接，所述水泵的输入端与金属导管固定连接，所述金属导管的数量为两个且左右分布。

作为上述技术方案的进一步描述：

右侧所述金属导管的内部与单向阀固定连接，所述金属导管的下表面与降温板固定连接，所述降温板的内表面形成空腔且与金属导管连通。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述陶瓷层与石墨盘滑动连接，所述支撑杆的数量为多个且环形分布。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述开孔的呈矩形。

本实用新型具有如下有益效果：

1、与现有技术相比，该MOCVD石墨盘均匀加热装置，通过设计降温装置，实现在正常情况下不会对加热产生影响，当出现超温的情况下，可以在不打开盖子的情况下实现降温，增加降温的速度。

2、与现有技术相比，该MOCVD石墨盘均匀加热装置，通过设计可以升降的盖子与连接头，实现避免出现高温的盖子放置在桌面上导致误触的情况且可以通过盖子的升降控制石墨盘的高度，避免需要将手伸入箱体的内部拿取石墨盘，增加装置使用的便利性。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置的内部结构示意图；

图2为图1中A处结构放大示意图；

图3为图1中B处结构放大示意图；

图4为本实用新型提出的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置的部分结构示意图。

图例说明：

1、箱体；2、转动环；3、滑动杆；4、伸缩杆；5、盖板；6、水箱；7、水泵；8、金属导管；9、第一加热片；10、支撑杆；11、陶瓷层；12、第一保温层；13、石墨盘；14、开孔；15、第二加热层；16、单向阀；17、第二保温层；18、连接头；19、降温板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参照图1-4，本实用新型提供的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置：包括箱体1，箱体1的外表面设置有转动环2，用于对盖板5与滑动杆3进行支撑，转动环2的上表面固定连接有滑动杆3，滑动杆3的外表面滑动连接有盖板5，用于对箱体1进行保温，转动环2的上表面且位于滑动杆3的右侧固定连接有伸缩杆4，用于控制盖板5的高度，伸缩杆4的输出端与盖板5固定连接，连接头18呈T型，用于与矩形的开孔14进行接触，并通过转动对石墨盘13进行固定，盖板5的上表面设置有降温装装置，用于在温度过高时对内部进行快速降温，降温装置包括水箱6、水泵7、金属导管8、单向阀16与降温板19，水箱6与盖板5的上表面固定连接，水泵7与水箱6的内表面固定连接，水泵7的输入端与金属导管8固定连接，金属导管8的数量为两个且左右分布，右侧金属导管8的内部与单向阀16固定连接，单向阀16用于在正常状态下避免降温板19的内部存有积水，金属导管8的下表面与降温板19固定连接，降温板19的内表面形成空腔且与金属导管8连通。

降温装置的下表面固定连接有连接头18，箱体1的内部设置有第一保温层12，盖板5的下表面固定连接有第二保温层17，用于避免热量的散失，箱体1的底内壁固定连接有第一加热片9，箱体1的内侧壁固定连接有第二加热层15，用于对石墨盘13进行加热，第二加热层15的外表面固定连接有陶瓷层11，用于使温度更加均匀，陶瓷层11与石墨盘13滑动连接，支撑杆10的数量为多个且环形分布，用于对石墨盘13进行支撑，箱体1的底内壁固定连接有支撑杆10，支撑杆10的上表面设置有石墨盘13，石墨盘13的上表面设置有开孔14，开孔14的呈矩形。

工作原理：将单向阀16打开，并通过水泵7将降温板19内部的水分抽干，将石墨盘13上的孔与连接头18对齐，并通过使石墨盘13与连接头18之间相对旋转90度，使石墨盘13与连接头18之间进行卡合，通过缩短伸缩杆4将石墨盘13放置入支撑杆10的上侧，并通过加热片进行加热，当内部的温度过高时，通过打开单向阀16，凉水瞬间进入降温板19对石墨盘13进行降温，将石墨盘13取出时，通过伸缩杆4伸长向上拉动石墨盘13，夹持石墨盘13的边缘将转动环2转动90度即可。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)的外表面设置有转动环(2)，所述转动环(2)的上表面固定连接有滑动杆(3)，所述滑动杆(3)的外表面滑动连接有盖板(5)，所述转动环(2)的上表面且位于滑动杆(3)的右侧固定连接有伸缩杆(4)，所述盖板(5)的上表面设置有降温装置；

所述降温装置的下表面固定连接有连接头(18)，所述箱体(1)的内部设置有第一保温层(12)，所述盖板(5)的下表面固定连接有第二保温层(17)，所述箱体(1)的底内壁固定连接有第一加热片(9)，所述箱体(1)的内侧壁固定连接有第二加热层(15)，所述第二加热层(15)的外表面固定连接有陶瓷层(11)，所述箱体(1)的底内壁固定连接有支撑杆(10)，所述支撑杆(10)的上表面设置有石墨盘(13)，所述石墨盘(13)的上表面设置有开孔(14)。

2.根据权利要求1所述的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，其特征在于：所述伸缩杆(4)的输出端与盖板(5)固定连接，所述连接头(18)呈T型。

3.根据权利要求1所述的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，其特征在于：所述降温装置包括水箱(6)、水泵(7)、金属导管(8)、单向阀(16)与降温板(19)，所述水箱(6)与盖板(5)的上表面固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，其特征在于：所述水泵(7)与水箱(6)的内表面固定连接，所述水泵(7)的输入端与金属导管(8)固定连接，所述金属导管(8)的数量为两个且左右分布。

5.根据权利要求3所述的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，其特征在于：右侧所述金属导管(8)的内部与单向阀(16)固定连接，所述金属导管(8)的下表面与降温板(19)固定连接，所述降温板(19)的内表面形成空腔且与金属导管(8)连通。

6.根据权利要求1所述的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，其特征在于：所述陶瓷层(11)与石墨盘(13)滑动连接，所述支撑杆(10)的数量为多个且环形分布。

7.根据权利要求1所述的一种MOCVD石墨盘均匀加热装置，其特征在于：所述开孔(14)的呈矩形。

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