CN217465330U - 一种半导体镀膜石墨坩埚 - Google Patents

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李春辉
常飞
杜炳纯
张殿德
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Abstract

本实用新型涉及石墨坩埚技术领域,尤其是一种半导体镀膜石墨坩埚,包括坩埚本体,所述坩埚本体的内侧间隔设置有多组凸楞,多组所述凸楞水平设置且均呈三角形结构,所述坩埚本体的内侧顶部设置有一环轨,所述环轨的外侧滑动连接有U型架,所述U型架的开口内侧插接有刮板,所述刮板的端面上间隔开设有与凸楞结构相同的凹槽,本实用新型通过设置在坩埚本体内侧的凸楞,便于增加内部加热面积,从而增强坩埚本体的冶炼速度,同时,通过设置的刮板能够有效的对坩埚本体的内壁进行清理,避免了发生粘粘的情况,本实用新型中的刮板采用可拆卸方式,便于拆卸清理更换,设计较为合理,且实用性较强。

Description

一种半导体镀膜石墨坩埚
技术领域
本实用新型涉及半导体镀膜石墨坩埚技术领域,尤其涉及一种半导体镀膜石墨坩埚。
背景技术
石墨坩埚具有良好的热导性和耐高温性,在高温使用过程中,热膨胀系数小,对急热、急冷具有一定抗应变性能,对酸,碱性溶液的抗腐蚀性较强,具有优良的化学稳定性,在冶金、铸造、机械、化工等工业部门,被广泛用于半导体镀膜技术领域并有着较好的技术经济效果。
但是现有的石墨坩埚在使用时加热效果一般,同时极易发生在内壁粘粘的情况,因此实用性不强,值得改进。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在加热效果一般等缺点,而提出的一种半导体镀膜石墨坩埚。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
设计一种半导体镀膜石墨坩埚,包括坩埚本体,所述坩埚本体的内侧间隔设置有多组凸楞,多组所述凸楞水平设置且均呈三角形结构,所述坩埚本体的内侧顶部设置有一环轨,所述环轨的外侧滑动连接有U型架,所述U型架的开口内侧插接有刮板,所述刮板的端面上间隔开设有与凸楞结构相同的凹槽,所述凹槽与凸楞一一对应并套设,所述U型架的端面上活动插接有插杆,所述刮板的端面上开设有与插杆插接配合的插孔,所述插杆的外侧套设有弹簧,弹簧的两端分别与插杆及U型架相固定。
优选的,所述坩埚本体的内侧设置有隔热腔,所述隔热腔的内侧填充有陶瓷保温板。
优选的,所述插杆为方杆,所述插孔为方孔。
优选的,所述坩埚本体的开口侧设置有盖板,所述盖板的顶部设置有拉手。
本实用新型提出的一种半导体镀膜石墨坩埚,有益效果在于:本实用新型通过设置在坩埚本体内侧的凸楞,便于增加内部加热面积,从而增强坩埚本体的冶炼速度,同时,通过设置的刮板能够有效的对坩埚本体的内壁进行清理,避免了发生粘粘的情况,本实用新型中的刮板采用可拆卸方式,便于拆卸清理更换,设计较为合理,且实用性较强,具有一定的商业推广价值。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种半导体镀膜石墨坩埚的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种半导体镀膜石墨坩埚的刮板结构示意图。
图中:1、坩埚本体;2、凸楞;3、环轨;4、U型架;5、刮板;6、凹槽;7、插杆;8、插孔;9、弹簧;10、陶瓷保温板;11、盖板;12、拉手。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-2,一种半导体镀膜石墨坩埚,包括坩埚本体1,坩埚本体1的内侧间隔设置有多组凸楞2,多组凸楞2水平设置且均呈三角形结构,坩埚本体1的内侧顶部设置有一环轨3,环轨3的外侧滑动连接有U型架4,U型架4的开口内侧插接有刮板5,刮板5的端面上间隔开设有与凸楞2结构相同的凹槽6,凹槽6与凸楞2一一对应并套设,U型架4的端面上活动插接有插杆7,刮板5的端面上开设有与插杆7插接配合的插孔8,插杆7的外侧套设有弹簧9,弹簧9的两端分别与插杆7及U型架4相固定。
进一步来说,坩埚本体1的内侧设置有隔热腔,隔热腔的内侧填充有陶瓷保温板10,设置的陶瓷保温板10用于对坩埚本体1进行保温,增强了坩埚本体1的冶炼速度。
值得注意的是,插杆7为方杆,插孔8为方孔。
进一步来说,坩埚本体1的开口侧设置有盖板11,盖板11的顶部设置有拉手12,设置的拉手12便于将盖板11打开。
本实用新型通过设置在坩埚本体1内侧的凸楞2,便于增加内部加热面积,从而增强坩埚本体1的冶炼速度,同时,通过设置的刮板5能够有效的对坩埚本体1的内壁进行清理,避免了发生粘粘的情况,本实用新型中的刮板5采用可拆卸方式,便于拆卸清理更换,设计较为合理,且实用性较强,具有一定的商业推广价值。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种半导体镀膜石墨坩埚,包括坩埚本体(1),其特征在于:所述坩埚本体(1)的内侧间隔设置有多组凸楞(2),多组所述凸楞(2)水平设置且均呈三角形结构,所述坩埚本体(1)的内侧顶部设置有一环轨(3),所述环轨(3)的外侧滑动连接有U型架(4),所述U型架(4)的开口内侧插接有刮板(5),所述刮板(5)的端面上间隔开设有与凸楞(2)结构相同的凹槽(6),所述凹槽(6)与凸楞(2)一一对应并套设,所述U型架(4)的端面上活动插接有插杆(7),所述刮板(5)的端面上开设有与插杆(7)插接配合的插孔(8),所述插杆(7)的外侧套设有弹簧(9),弹簧(9)的两端分别与插杆(7)及U型架(4)相固定。
2.根据权利要求1所述的一种半导体镀膜石墨坩埚,其特征在于:所述坩埚本体(1)的内侧设置有隔热腔,所述隔热腔的内侧填充有陶瓷保温板(10)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体镀膜石墨坩埚,其特征在于:所述插杆(7)为方杆,所述插孔(8)为方孔。
4.根据权利要求1所述的一种半导体镀膜石墨坩埚,其特征在于:所述坩埚本体(1)的开口侧设置有盖板(11),所述盖板(11)的顶部设置有拉手(12)。
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