CN217371988U - 一种靶材喷砂遮蔽装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及靶材技术领域，公开了一种靶材喷砂遮蔽装置，包括容置件和盖盘，所述容置件上设有用于放置待喷砂靶材的容纳腔，所述盖盘同轴设置于所述容纳腔内，并置于所述靶材的溅射面上，所述盖盘的外壁与所述容纳腔的内壁之间形成与所述溅射面上待喷砂区域相对应的环形喷砂孔。本实用新型提供的靶材喷砂遮蔽装置，通过设置容置件，并将待喷砂的靶材置于容置件的容纳腔内，同时在靶材的溅射面上设置盖盘，从而使得靶材的溅射面上只有与喷砂孔相对应的待喷砂区域暴露在外，从而使得喷砂时有效保护了靶材的溅射区，避免了靶材的溅射区受到损伤，保证了喷砂后的靶材的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及靶材技术领域，特别是涉及一种靶材喷砂遮蔽装置。
背景技术
靶材的溅射面分为溅射区和非溅射区，其中，以一定能量的粒子轰击的是靶材的溅射区，非溅射区为能量粒子不能够轰击到的区域，或者不需要进行轰击的区域。在溅射过程中，高速粒子轰击靶材溅射区，溅射出的靶材材料除了会沉积在基底表面，也会沉积在沉积腔室内的其他表面上，其中就包括靶材的非溅射区。而由于等离子气氛的高能特性，重新沉积在靶材非溅射区的材料会再次溢出，而溢出的碎片会污染沉积在基底表面的薄膜。
在现有工艺中，对靶材进行喷砂处理时，通常采用胶带对非溅射区进行保护。为了保证所形成喷砂区和非喷砂区的尺寸精度，一般先进行过贴，使胶带超出非喷砂区，再用刀片割掉位于喷砂区的胶带，然后对靶材进行喷砂处理。现有的喷砂处理前胶带防护和刀片切割技术，只能形成具有明确界限或形状简单的喷砂区。而常用的溅射靶材，溅射面边缘一般是由斜面与多个圆弧组成，形状较为复杂，难以有效保证喷砂区与非喷砂区之间的界限。
另外，由于胶带自身强度的限制，在喷砂过程中会破损，导致不需要进行喷砂的溅射面受到损伤，使得该遮蔽措施无法保护靶材，最终导致喷砂后的靶材不达标而无法使用。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种靶材喷砂遮蔽装置，有效保护靶材的溅射区，避免靶材的溅射区受到损伤，保证靶材的质量。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种靶材喷砂遮蔽装置，包括容置件和盖盘，所述容置件上设有用于放置待喷砂靶材的容纳腔，所述盖盘同轴设置于所述容纳腔内，并置于所述靶材的溅射面上，所述盖盘的外壁与所述容纳腔的内壁之间形成与所述溅射面上待喷砂区域相对应的环形喷砂孔。
优选地，所述容置件包括相对设置的底盘和盖环，所述底盘与所述盖环可拆卸地连接。
优选地，所述底盘包括底盘主体，所述底盘主体的外侧凸设有第一连接部，所述第一连接部上设有第一连接件；
所述盖环包括盖环主体，所述盖环主体的外侧凸设有第二连接部，所述第二连接部上设有第二连接件，所述第一连接件与所述第二连接件可拆卸地连接。
优选地，所述第一连接件为卡槽，所述第二连接件为与所述卡槽相适配的凸起；
或所述第一连接件为凸起，所述第二连接件为与所述凸起相适配的卡槽。
优选地，所述底盘与所述盖环的连接处设有分离槽。
优选地，所述第一连接部远离所述底盘主体的一端的外侧设有第一倒角，所述第二连接部远离所述盖环主体的一端的外侧设有第二倒角，所述第一倒角与所述第二倒角拼接成所述分离槽。
优选地，所述盖环的内侧设有导引面，所述导引面与所述盖环的上表面相倾斜。
优选地，所述导引面与所述盖环的上表面之间的夹角为a，a的取值范围为40-50度。
优选地，所述盖盘包括盖盘主体，所述盖盘主体的边缘朝远离所述盖盘主体的方向依次同轴设有抵接环和卸料环，所述卸料环的内径大于所述抵接环的内径。
优选地，所述容置件及所述盖盘的材质均为PP板。
本实用新型实施例的一种靶材喷砂遮蔽装置，与现有技术相比，其有益效果在于：通过设置容置件，并将待喷砂的靶材置于容置件的容纳腔内，同时在靶材的溅射面上设置盖盘，从而使得靶材的溅射面上只有与喷砂孔相对应的待喷砂区域暴露在外，从而使得喷砂时有效保护了靶材的溅射区，避免了靶材的溅射区受到损伤，保证了喷砂后的靶材的质量。本实用新型结构简单，使用效果好，易于推广使用。
附图说明
图1为本实用新型的靶材喷砂遮蔽装置的结构示意图。
图2为本实用新型的靶材喷砂遮蔽装置的爆炸图。
图3为本实用新型的靶材喷砂遮蔽装置的剖视图。
图4为图3中A的局部放大图。
图5为本实用新型的盖盘的剖视图。
其中：1-容置件，2-盖盘，21-盖盘主体，22-抵接环，23-卸料环，3-靶材，4-喷砂孔，5-底盘，51-底盘主体，52-第一连接部，6-盖环，61-盖环主体，62-第二连接部，63-导引面，7-分离槽，8-凸起，9-卡槽。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
如图1-3所示，本实用新型实施例优选实施例的一种靶材喷砂遮蔽装置，包括容置件1和盖盘2，容置件1及盖盘2的材质均为PP板。容置件1上设有用于放置待喷砂靶材3的容纳腔，盖盘2同轴设置于容纳腔内，并置于靶材3的溅射面上，盖盘2的外壁与容纳腔的内壁之间形成与溅射面上待喷砂区域相对应的环形喷砂孔4，喷砂时从喷砂孔4进行喷砂。
基于上述技术特征的靶材喷砂遮蔽装置，通过设置容置件1，并将待喷砂的靶材3置于容置件1的容纳腔内，同时在靶材3的溅射面上设置盖盘2，从而使得靶材3的溅射面上只有与喷砂孔4相对应的待喷砂区域暴露在外，从而使得喷砂时有效保护了靶材3的溅射区，避免了靶材3的溅射区受到损伤，保证了喷砂后的靶材3的质量。本实用新型结构简单，使用效果好，易于推广使用。
本实施例中，为方便将靶材3放置于容纳腔内，容置件1包括相对设置的底盘5和盖环6，底盘5与盖环6可拆卸地连接，需要放置靶材3时先将底盘5与盖环6相分离，待靶材3放置好后再合上即可，简化了操作。具体地，底盘5包括底盘主体51，底盘主体51的外侧凸设有第一连接部52，第一连接部52与底盘主体51之间形成第一槽体；盖环6包括盖环主体61，盖环主体61的外侧凸设有第二连接部62，盖环主体61与第二连接部62之间形成第二槽体，第一槽体与第二槽体围合成容纳腔。
请参阅附图3-4，同时，第一连接部52上设有第一连接件，第二连接部62上设有第二连接件，第一连接件与第二连接件可拆卸地连接，从而实现了底盘5与盖环6的可拆卸连接。具体设置时，可以是第一连接件为卡槽9，第二连接件为与卡槽9相适配的凸起8；也可以是第一连接件为凸起8，第二连接件为与所述凸起8相适配的卡槽9。实现了以榫卯结构(凹凸结合)的连接方式，不仅可起到固定的作用，而且不需要再添加卡扣、夹具等固定辅件。
本实施例中，底盘5与盖环6的连接处设有分离槽7，从而方便使用工具(如起子)将底盘5与盖环6分离，取出靶材3。具体地，第一连接部52远离底盘主体51的一端的外侧设有第一倒角，第二连接部62远离盖环主体61的一端的外侧设有第二倒角，第一倒角与第二倒角拼接成分离槽7。
本实施例中，盖环6的内侧设有导引面63，导引面63与盖环主体61的上表面相倾斜。从而不仅可以更好地保护不需要喷砂的区域，同时也可以引导砂子更好地喷落在靶材3上的待喷砂区域(含靶材侧边部分区域及背板端面喷砂区域)。具体设置时，若导引面63与盖环6的上表面之间的夹角为a，则a的取值范围为40-50度，如41度、42度、44度、46度等，不过优选45度。
请参阅附图5，本实施例中，盖盘2包括盖盘主体21，盖盘主体21的边缘朝远离盖盘主体21的方向依次同轴设有抵接环22和卸料环23，卸料环23的内径大于所述抵接环22的内径。当盖盘2置于靶材3的溅射面上后，抵接环22与靶材3的侧壁抵接，避免了盖盘2在喷砂过程中相对靶材3移动。同时，由于卸料环23的内径大于抵接环22的内径，从而卸料环23与靶材3的外壁之间有一定的间距，当喷砂完成后方便盖盘2与靶材3分离。
本实施例的靶材喷砂遮蔽装置的使用方法为：将待喷砂的靶材3的非喷砂区域先用胶带保护一层，防止靶材3与遮蔽装置摩擦出划痕。然后将靶材背板一面向下放在所述底盘5上，再将盖环6放在底盘5上，使盖环6与底盘5连接在一起，并用橡胶锤轻轻地敲打，将二者连接得更好，再将盖盘2放在靶材3端面上即可进行喷砂工序。
喷砂完成后，用气枪将外漏残余的沙粒吹尽，然后将所述盖盘取下，用一字型螺丝刀辅助轻轻插入分离槽7撬动，将底盘5与盖环6分离打开，就可以取出喷砂后的靶材3，喷砂区域很均匀，达到标准。
本实用新型装置简单，使用方便，易实现，成本低，通过本实用新型可以高效地达到喷砂效果，保护靶材3不需要进行喷砂的区域，实现对靶材3的喷砂区进行精确喷砂，使所形成的喷砂区位置准确，保证喷砂区的尺寸、精度符合要求。本发明的喷砂遮蔽装置可重复利用，减少了胶布的用量，大大地提高了工作效率，降低生产成本。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：包括容置件和盖盘，所述容置件上设有用于放置待喷砂靶材的容纳腔，所述盖盘同轴设置于所述容纳腔内，并置于所述靶材的溅射面上，所述盖盘的外壁与所述容纳腔的内壁之间形成与所述溅射面上待喷砂区域相对应的环形喷砂孔。
2.如权利要求1所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述容置件包括相对设置的底盘和盖环，所述底盘与所述盖环可拆卸地连接。
3.如权利要求2所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述底盘包括底盘主体，所述底盘主体的外侧凸设有第一连接部，所述第一连接部上设有第一连接件；
所述盖环包括盖环主体，所述盖环主体的外侧凸设有第二连接部，所述第二连接部上设有第二连接件，所述第一连接件与所述第二连接件可拆卸地连接。
4.如权利要求3所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述第一连接件为卡槽，所述第二连接件为与所述卡槽相适配的凸起；
或所述第一连接件为凸起，所述第二连接件为与所述凸起相适配的卡槽。
5.如权利要求3所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述底盘与所述盖环的连接处设有分离槽。
6.如权利要求5所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述第一连接部远离所述底盘主体的一端的外侧设有第一倒角，所述第二连接部远离所述盖环主体的一端的外侧设有第二倒角，所述第一倒角与所述第二倒角拼接成所述分离槽。
7.如权利要求2所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述盖环的内侧设有导引面，所述导引面与所述盖环的上表面相倾斜。
8.如权利要求7所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述导引面与所述盖环的上表面之间的夹角为a，a的取值范围为40-50度。
9.如权利要求1所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述盖盘包括盖盘主体，所述盖盘主体的边缘朝远离所述盖盘主体的方向依次同轴设有抵接环和卸料环，所述卸料环的内径大于所述抵接环的内径。
10.如权利要求1所述的靶材喷砂遮蔽装置，其特征在于：所述容置件及所述盖盘的材质均为PP板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN202220537752.1U CN217371988U (zh) | 2022-03-11 | 2022-03-11 | 一种靶材喷砂遮蔽装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202220537752.1U CN217371988U (zh) | 2022-03-11 | 2022-03-11 | 一种靶材喷砂遮蔽装置 |
Publications (1)
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| CN217371988U true CN217371988U (zh) | 2022-09-06 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
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| CN (1) | CN217371988U (zh) |
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2022
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