CN217335708U - 摄像模组和电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开公开了一种摄像模组和电子设备。摄像模组包括支架，所述支架包括主体和接地部，所述接地部固定设置在所述主体上，至少所述主体围设形成具有开口的容纳腔；成像组件，所述成像组件位于所述容纳腔内；所述支架还包括隔磁层，所述隔磁层设置在所述主体上。

Description

摄像模组和电子设备

技术领域

本公开属于摄像模组技术领域，具体涉及一种摄像模组和电子设备。

背景技术

随着科技的进步，摄像模组在人们的生活中的应用越来越普遍。人们都会选择用摄像模组拍摄图像，以记录美好生活。但是摄像模组在使用过程中经常会受到磁场干扰，出现阻碍摄像模组正常工作的情况。尤其是集成在电子设备中的摄像模组，受到电子设备内其他部件形成的磁场干扰的可能性更大。

实用新型内容

本公开实施例的目的是提供一种摄像模组和电子设备，解决了摄像模组容易受磁场干扰的问题。

第一方面，本公开实施例提供了一种摄像模组，包括：

支架，所述支架包括主体和接地部，所述接地部固定设置在所述主体上，至少所述主体围设形成具有开口的容纳腔；

成像组件，所述成像组件位于所述容纳腔内；

所述支架还包括隔磁层，所述隔磁层设置在所述主体上。

第二方面，本公开实施例提供了一种电子设备，包括壳体、吸合磁铁和以上所述的摄像模组，所述吸合磁铁设置在所述壳体内，所述摄像模组设置在所述壳体内，所述主体上设置的所述隔磁层位于所述成像组件和所述吸合磁铁之间。

在本公开实施例中，通过在支架的主体上设置有隔磁层，能够阻隔支架外的磁场，使支架外的磁场不会进入摄像模组内部而影响摄像模组的正常工作，避免了摄像模组容易受磁场干扰的问题。

附图说明

图1是本公开电子设备的结构示意图；

图2是本公开的支架结构示意图；

图3是吸合磁铁形成磁场的示意图。

附图标记：

1、壳体；2、吸合磁铁；3、成像组件；4、支架；5、隔磁层；6、主体；7、接地部；8、异形弹片；9、第一侧壁；10、第二侧壁。

具体实施方式

下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚地描述，显然，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

本公开的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便本公开的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施，且“第一”、“第二”等所区分的对象通常为一类，并不限定对象的个数，例如第一对象可以是一个，也可以是多个。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

下面结合附图，通过具体的实施例及其应用场景对本公开实施例提供的摄像模组进行详细地说明。

第一方面，本申请实施例提供了一种摄像模组，如图1至图3所示，包括支架4和成像组件3。所述支架4包括主体6和接地部7，所述接地部7固定设置在所述主体6上，至少所述主体6围设形成具有开口的容纳腔。所述成像组件3位于所述容纳腔内。所述支架4还包括隔磁层5，所述隔磁层5设置在所述主体6上。

所述支架4为所述摄像模组外侧的部件，起到对摄像模组的保护和支撑作用。所述支架4包括主体6和接地部7。所述主体6为围设形成容纳腔的主要部分，起到主要的支撑和保护作用。所述接地部7固定设置在所述主体6上，所述接地部7能够与地电连接，使所述摄像模组接地，确保了摄像模组的工作质量。

至少所述主体6围设形成具有开口的容纳腔。也就是说，所述主体6可以单独围设形成容纳腔，所述主体6也可以与其连接的其他部件共同围设形成容纳腔。所述主体6围设形成的容纳腔可以为圆柱形，也可以为其他形状。

在一具体的实施方式中，所述主体6单独围设形成一侧具有开口的容纳腔，所述接地部7设置在所述主体6的表面，用于将摄像模组接地。

所述成像组件3设置在所述容纳腔内，用于采集外界的光线并传送给图像传感器。所述成像组件3可以包括驱动组件和镜头组件，所述镜头组件通过驱动组件安装在主体6围设形成的容纳腔内。所述驱动组件能够驱动所述镜头组件向靠近或者远离所述容纳腔的开口一侧运动，以调节摄像模组的焦距，使摄像模组的成像更加清晰。

在一具体的实施方式中，所述驱动组件包括磁铁和线圈，所述磁铁设置在所述镜头组件的侧壁上，所述线圈设置在容纳腔的侧壁上，所述镜头组件位于所述容纳腔内，使所述磁铁和线圈相对设置。在给线圈通电时，所述磁铁在电磁力的驱动下带动镜头组件在容纳腔内运动。其中，本申请中磁场对摄像模组的影响就可以表现为磁场对驱动组件的干扰，使所述镜头组件不能在驱动组件的带动下可靠运动，进而影响摄像模组的对焦。当然，磁场对摄像模组的干扰也可以是本领域技术人员知晓的其他干扰。

所述支架4还包括隔磁层5，所述隔磁层5设置在所述主体6上。所述隔磁层5能够起到磁隔绝的作用。所述隔磁层5设置在主体6上，能够使容纳腔内安装的部件与外界磁场形成磁隔绝，避免摄像模组受外界磁场的干扰。

所述隔磁层5设置在所述主体6上。可以包括所述隔磁层5设置在主体6表面，也可以包括所述隔磁层5与所述主体6连接，使所述主体6和所述隔磁层5共同围设形成容纳腔，即，所述隔磁层5本身为围设形成容纳腔的部分侧壁。

本申请实施例通过在支架4的主体6上设置有隔磁层5，能够阻隔支架4外的磁场，使支架4外的磁场不会进入摄像模组内部而影响摄像模组的正常工作，避免了摄像模组容易受磁场干扰的问题，提升了摄像效果，优化了用户体验。

可选地，所述主体6具有安装外表面，所述隔磁层5固定设置在所述安装外表面上。

由于所述成像组件3等主要部件均设置在所述主体6围设形成的容纳腔内，因而所述主体6的外表面为空闲区域，几乎没有部件安装在主体6的外表面上。本申请实施例将隔磁层5设置在主体6的外表面上，充分利用了主体6上的空闲区域，不会额外占用摄像模组的空间，有利于摄像模组的小型化发展。且所述主体6的外表面具有足够的安装面积，能够使隔磁层5可靠的固定在所述主体6的外表面。

所述安装外表面为所述主体6上设置有所述隔磁层5的外表面。所述安装外表面可以为所述主体6的全部外表面，所述安装外表面也可以为所述主体6的部分外表面。

在一具体的实施方式中，所述隔磁层5设置在所述主体6的部分外表面。使所述隔磁层5位于所述主体6与较强的某一磁场之间，起到阻隔较强磁场的作用，减少了隔磁层5的用量，缩减了制造成本。

可选地，所述主体6具有第一缺口，所述隔磁层5固定设置在所述第一缺口内，所述隔磁层5和所述主体6围设形成所述容纳腔。进一步减少了隔磁层5占用的摄像模组的空间。所述隔磁层5的厚度可以与所述主体6的厚度相同，使所述隔磁层5和所述主体6一体化设置，避免了在所述主体6上形成有第一缺口而影响所述主体6的保护和支撑的作用。

可选地，所述主体6的材质为塑胶。能够减轻所述支架4的重量，起到减重的效果。且在所述主体6的材质为塑胶的情况下，所述主体6能够注塑成型，满足大批量生产的需求。

在一具体的实施方式中，所述主体6上具有第一缺口，所述隔磁层5位于所述主体6的第一缺口内。其中，所述主体6的材质为塑胶。

可选地，所述主体6具有第二缺口，所述接地部7设置在所述第二缺口内，所述隔磁层5、所述主体6和所述接地部7围设形成所述容纳腔。使所述隔磁层5、所述主体6和所述接地部7一体化设置，减小了所述支架4占用的空间，利于摄像模组的小型化设计。所述隔磁层5的厚度、所述主体6的厚度和所述接地部7的厚度相同，避免了在所述主体6上形成有第二缺口而影响所述支架4的保护和支撑的作用。

可选地，所述接地部7具有向远离所述主体6的方向延伸形成的凸出部，所述凸出部能够与地形成电连接，确保所述接地部7能够可靠地与地连接。

可选地，所述接地部7延伸出异形弹片8，所述异形弹片8的端部与地电连接。所述异形弹片8能够进一步确保所述摄像模组可靠地接地。

进一步地，所述异形弹片8可以具有延伸部和与所述延伸部连接的弹性支撑部，所述延伸部将所述弹性支撑部延伸至靠近接地端，所述弹性支撑部起到提供弹性和接地的作用，所述弹性支撑部提供的弹性能够使弹性支撑部可靠的与接地端接触。

可选地，所述接地部7具有向远离所述主体6的方向延伸形成的凸出部，所述凸出部延伸形成所述异形弹片8。

可选地，所述主体6包括第一侧壁9和第二侧壁10，所述第一侧壁9上具有第三缺口，所述第二侧壁10上具有的第四缺口，所述第三缺口和所述第四缺口连通，所述隔磁层5设置在连通的所述第三缺口和所述第四缺口内，所述第一侧壁9、所述隔磁层5和所述第二侧壁10围设形成所述容纳腔的部分侧壁。能够仅在需要的区域设置有隔磁层5，使隔磁层5能够阻隔来自某一预设方向上的磁场。

在一具体的实施方式中，如图2所示，所述主体6包括围设形成容纳腔的第一侧壁9、第二侧壁10、第三侧壁和第四侧壁。所述第一侧壁9靠近所述第二侧壁10的一侧具有第三缺口，所述第二侧壁10靠近所述第一侧壁9的一端具有第四缺口，使所述第三缺口和所述第四缺口处于所述第一侧壁9和第二侧壁10相交处。所述隔磁层5的一端的边缘与所述第三缺口的边缘连接，所述隔磁层5的另一端与所述第四缺口的边缘连接。所述隔磁层5具有弯折处，所述弯折处位于所述第一侧壁9和第二侧壁10的延长线相交处。

可选地，所述隔磁层5包括隔磁片或者隔磁膜。能够减小所述隔磁层5占用摄像模组的空间。

在一具体的实施方式中，所述主体6具有第一缺口，所述隔磁片设置在所述第一缺口内。

在另一具体的实施方式中，所述主体6具有安装外表面，所述隔磁膜粘接在所述主体6的安装外表面上。

可选地，所述隔磁层5粘接、焊接或者嵌设在所述支架4上。

在一具体的实施方式中，所述隔磁层5设置在所述主体6的安装外表面上时，所述隔磁层5粘接或者焊接在所述主体6上。

在另一具体的实施方式中，所述主体6上具有第一缺口，所述隔磁层5嵌设在所述第一缺口内。即，使所述第一缺口的边缘与对应的所述隔磁层5的边缘无缝连接。当然，所述隔磁层5也可以与所述主体6一体注塑成型。

第二方面，本申请实施例提供了一种电子设备，包括壳体1、吸合磁铁2和以上所述的摄像模组，所述吸合磁铁2设置在所述壳体1内，所述摄像模组设置在所述壳体1内，所述主体6上设置的所述隔磁层5位于所述成像组件3和所述吸合磁铁2之间。

本公开的电子设备可以为手机、平板电脑等摄像模组。本公开实施例中以电子设备为手机为例进行说明。

如图1所示，所述壳体1内设置有所述吸合磁铁2和摄像模组，所述支架4的主体6上设置的隔磁层5位于所述吸合磁铁2和所述成像组件3之间。能够使隔磁层5有效阻隔吸合磁铁2形成的磁场，避免所述吸合磁铁2形成的磁场对所述摄像模组造成影响。

同时，将支架4的主体6上设置有隔磁层5的摄像模组设置在壳体1内，能够不使所述隔磁层5干涉其他部件，甚至造成该其他部件的损坏。比如，所述摄像模组延伸出的电连接部件会在临近摄像模组的位置与电路板连接。如果将隔磁层5设置在靠近摄像组件的位置处，会使所述隔磁层5与连接摄像模组和电路板的电连接部件之间形成干涉，进一步地，如果在安装摄像模组和隔磁层5时没有处理好隔磁层5和电连接部件之间的干涉关系，会造隔磁层5损坏电连接部件的风险。同时，将隔磁层5固定设置在支架4的主体6上，直接在壳体1内安装摄像模组即可，避免了在壳体1内安装隔磁层5的工序，便于安装。

在一具体的实施方式中，电子设备为折叠屏电子设备。如图1或者图3所示，在壳体1侧边的拐角处设置有安装槽，所述吸合磁铁2固定设置在所述安装槽内。当电子设备折叠时，吸合磁铁2能够吸合翻折并靠近吸合磁铁2的另一部分电子设备，使电子设备保持折叠状态。当然，所述吸合磁铁2也可以为设置在电子设备内，用于吸合手写笔、键盘等部件。

需要说明的是，也可以通过其他方式避免吸合磁铁2形成的磁场对摄像模组造成的干扰。比如可以通过减小所述吸合磁铁2的尺寸，削弱吸合磁铁2形成的磁场；也可以增加所述吸合磁铁2对与摄像模组之间的间距，削弱对摄像模组的磁干扰。但是，上述方式均带来了不利因素。具体地，减小所述吸合磁铁2的尺寸，会导致磁吸效果变差，影响用户的使用体验；而增加所述吸合磁铁2对与摄像模组之间的间距，会导致电子设备内部空间增大，使壳体1外凸以容纳吸合磁铁2，影响电子设备的外观表现力。本公开的发明人在综合考虑了上述解决方法后，对现有技术进行创造性改进，得到了本公开的实施例。

上面结合附图对本公开的实施例进行了描述，但是本公开并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本公开的启示下，在不脱离本公开宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本公开的保护之内。

Claims (10)

1.一种摄像模组，其特征在于，包括：

支架，所述支架包括主体和接地部，所述接地部固定设置在所述主体上，至少所述主体围设形成具有开口的容纳腔；

成像组件，所述成像组件位于所述容纳腔内；

所述支架还包括隔磁层，所述隔磁层设置在所述主体上。

2.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述主体具有安装外表面，所述隔磁层固定设置在所述安装外表面上。

3.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述主体具有第一缺口，所述隔磁层固定设置在所述第一缺口内，所述隔磁层和所述主体围设形成所述容纳腔。

4.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述主体的材质为塑胶。

5.根据权利要求3所述的一种摄像模组，其特征在于，所述主体具有第二缺口，所述接地部设置在所述第二缺口内，所述隔磁层、所述主体和所述接地部围设形成所述容纳腔。

6.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述接地部延伸出异形弹片，所述异形弹片的端部与地电连接。

7.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述主体包括第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁上具有第三缺口，所述第二侧壁上具有第四缺口，所述第三缺口和所述第四缺口连通，所述隔磁层设置在连通的所述第三缺口和所述第四缺口内，所述第一侧壁、所述隔磁层和所述第二侧壁围设形成所述容纳腔的部分侧壁。

8.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述隔磁层包括隔磁片或者隔磁膜。

9.根据权利要求1所述的一种摄像模组，其特征在于，所述隔磁层粘接、焊接或者嵌设在所述支架上。

10.一种电子设备，其特征在于，包括壳体、吸合磁铁和权利要求1-9任一项所述的摄像模组，所述吸合磁铁设置在所述壳体内，所述摄像模组设置在所述壳体内，所述主体上设置的所述隔磁层位于所述成像组件和所述吸合磁铁之间。

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