CN217334006U - 一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构,包括设备腔体,所述设备腔体内设有电极连接柱,并连接有功率电极和接地电极,所述设备腔体内壁镀有一层绝缘层,使腔体内壁绝缘。本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型在设备内部304不锈钢材质的腔体内壁表面镀一层水封后的阳极氧化层。其优点是:①使电场仅存在功率电极和接地电极之间,大大的提升了电场的均匀性;②电场方向仅存在电极之间,非常有效的提升了处理强度,减少能量损失;③阳极氧化层更为耐糙,且更加稳定,更容易进行保养,提升设备运行产能,也提升了工艺稳定性和产品良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子体灰化设备的工艺腔体,尤其涉及一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构。
背景技术
在晶圆制造的工艺中,等离子体灰化设备是整个生产工艺中不可或缺的设备,随着制造工艺要求的不断提高,对等离子体灰化工艺过程的稳定性要求越来越高。
对于工艺腔体内部的导电性,会影响等离子体整体电场的方向;在正常情况下,目前设备的配置如图2所示,其中,a为304不锈钢导电材质的腔体内壁,b为电极连接柱,c为接地电极,d为功率电极,e为电极插口,这种配置会导致电场方向向各个方向扩散,如图3所示,箭头方向即为电场方向,这导致了处理产品的均匀性比较差,影响产片良率。
针对现有设备的配置,腔体内部电极在进行放电时,会出现电场四处分布,不均匀且强度不够,导致处理效果不均匀,处理强度不够,影响产品的良率和工艺的稳定性。因此,如何控制腔体内部的电场方向,对于改善工艺的稳定性和提升处理强度是至关重要的。故,研发一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构,成为本领域技术人员亟待解决的问题。
实用新型内容
本实用新型是为了解决上述不足,提供了一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构。
本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现:一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构,包括设备腔体,所述设备腔体内设有电极连接柱,并连接有功率电极和接地电极,其特征在于:所述设备腔体内壁镀有一层绝缘层,使腔体内壁绝缘。
进一步地,所述绝缘层为水封后的阳极氧化层。
本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型在设备内部304不锈钢材质的腔体内壁表面镀一层水封后的阳极氧化层。其优点是:
①使电场仅存在功率电极和接地电极之间,大大的提升了电场的均匀性;
②电场方向仅存在电极之间,非常有效的提升了处理强度,减少能量损失;
③阳极氧化层更为耐糙,且更加稳定,更容易进行保养,提升设备运行产能,也提升了工艺稳定性和产品良率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是现有设备的结构示意图。
图3是现有设备的电场方向示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进一步详述。
如图1所示,一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构,包括设备腔体1,所述设备腔体1内设有电极连接柱2,并连接有功率电极3和接地电极4,所述设备腔体1内壁镀有一层绝缘层5,使腔体内壁绝缘。
进一步地,所述绝缘层5为水封后的阳极氧化层。
本实用新型在设备内部304不锈钢材质的腔体内壁表面镀一层水封后的阳极氧化层后,使电场仅存在功率电极和接地电极之间(如图1中箭头所示),大大的提升了电场的均匀性;电场方向仅存在电极之间,非常有效的提升了处理强度,减少能量损失;阳极氧化层更为耐糙,且更加稳定,更容易进行保养,提升设备运行产能,也提升了工艺稳定性和产品良率。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (2)
1.一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构,包括设备腔体,所述设备腔体内设有电极连接柱,并连接有功率电极和接地电极,其特征在于:所述设备腔体内壁镀有一层绝缘层,使腔体内壁绝缘。
2.根据权利要求1所述的一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构,其特征在于:所述绝缘层为水封后的阳极氧化层。
Priority Applications (1)
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CN202220986854.1U CN217334006U (zh) | 2022-04-27 | 2022-04-27 | 一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构 |
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CN217334006U true CN217334006U (zh) | 2022-08-30 |
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CN202220986854.1U Active CN217334006U (zh) | 2022-04-27 | 2022-04-27 | 一种改善电场均匀性的等离子体灰化设备的工艺腔体结构 |
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- 2022-04-27 CN CN202220986854.1U patent/CN217334006U/zh active Active
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