CN217289502U - 一种半导体激光器基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及半导体激光器基板清洗技术领域，且公开了一种半导体激光器基板清洗装置，包括清洗箱体，且清洗箱体内安装有清洗盒，清洗箱体内设有超声波发生组件，且超声波发生组件与清洗盒相连接，所述清洗盒的内侧壁上设有托板，且托板上具有放置腔，所述清洗箱体上设有冲洗单元，且冲洗单元包括喷液冲洗部和污水吸收部，所述喷液冲洗部包括与清洗箱体顶部相连接的至少一个第一竖管。该半导体激光器基板清洗装置能够通过设置的冲洗单元可以将将基板顶部含有大量污渍的清洗液冲走并回收净化掉，从而防止剥离下来的污渍再次沉降附着在基板上，保证了对基板清洗的质量和效果，并且节约了后续的冲洗工序，有效的提高了清洗的效率。

Description

一种半导体激光器基板清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体激光器基板清洗技术领域，具体为一种半导体激光器基板清洗装置。

背景技术

半导体激光器的核心部件是半导体芯片，而半导体芯片安装在基板上，由于半导体芯片是极为精密的部件，所以对于基板的洁净程度具有极高的要求，因此在将半导体芯片安装在基板上之前，需要对基板进行彻底的清洗，以最大程度提高基板的洁净程度。

现在清洗基板时大多使用超声波清洗器来对基板进行彻底地清洗，其清洗效果好且无死角，但是现在的超声波清洗器在对基板进行清洗时，基板被浸入清洗液中，然后超声波清洗器使得清洗液振动产生大量气泡以清除基板表面附着的污渍，但是这也导致清除下来的污渍依旧会停留在清洗液中，从而导致清洗完成后将基板取出时，基板极易再次被污渍附着，因此需要对基板进行二次冲洗，从而增加了清洗工序，严重降低了基板清洗工作的效率。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体激光器基板清洗装置，解决了上述背景中提到的问题。

本实用新型提供如下技术方案：一种半导体激光器基板清洗装置，包括清洗箱体，且清洗箱体内安装有清洗盒，清洗箱体内设有超声波发生组件，且超声波发生组件与清洗盒相连接，所述清洗盒的内侧壁上设有托板，且托板上具有放置腔，所述清洗箱体上设有冲洗单元，且冲洗单元包括喷液冲洗部和污水吸收部。

上述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述喷液冲洗部包括与清洗箱体顶部相连接的至少一个第一竖管，所述第一竖管喷液端延伸至清洗盒内部，且第一竖管喷液端底部与托板顶端相平齐，所述第一竖管连通有进液管，且进液管上安装有进液泵。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述污水吸收部包括与清洗箱体顶部相连接的至少一个第二竖管，所述第一竖管与第二竖管对称设置，且第二竖管的数量与第一竖管的数量相等且一一对齐，所述第二竖管吸水端延伸至清洗盒内部并连通有吸水罩，所述第二竖管连通有出液管，且出液管上安装有出液泵。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，还包括对称设在清洗箱体上的两个升降单元，且喷液冲洗部和污水吸收部分别通过两个升降单元与清洗箱体顶部相连接。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述升降单元包括对称设在清洗箱体顶部的两组电动推杆，两组所述电动推杆上对称连接有两个升降板，所述第一竖管转动连接在一个升降板底部，且第一竖管顶端贯穿升降板并延伸至升降板上侧，所述第二竖管固定插接在另一个升降板底部。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述冲洗单元还包括设在与喷液冲洗部相连接的升降板上的喷射角调节单元，所述喷射角调节单元包括连接在升降板顶部的气缸，所述气缸上连接有摩擦条，所述喷射角调节单元还包括固定套接在第一竖管外周面上的摩擦轮，且摩擦轮外周面与摩擦条侧面相抵触。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，还包括设在清洗箱体上的污水重复利用单元。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述污水重复利用单元包括设在清洗箱体内底壁上的储液箱，且污水重复利用单元还包括连接在清洗箱体顶部的污水净化器，且进液管远离第一竖管的一端贯穿清洗箱体顶部并与储液箱侧面相连通，所述出液管远离第二竖管的一端与污水净化器相连通，所述污水净化器底部连通有送水管，且送水管另一端贯穿清洗箱体顶部并与储液箱的侧面相连通。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述托板通过连接单元可拆卸地连接在清洗盒内侧壁上。

前述的一种半导体激光器基板清洗装置中，所述连接单元包括对称设在清洗盒前后内壁上的两组伸缩杆，所述伸缩杆远离清洗盒内侧壁的一端均连接有止位板，所述止位板与清洗盒内侧壁之间连接有弹性件，所述止位板远离伸缩杆的侧面连接有插杆，所述连接单元还包括开设有托板前后侧面上的两组插孔，且两组插杆分别插入两组插孔内。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

1、该半导体激光器基板清洗装置，通过设置的喷液冲洗部和污水吸收部，可以在基板清洗过程中，间歇性地将被清洗的基板上侧的含有大量污渍的清洗液冲走，然后污水吸收部可以快速的将被冲走的污水从清洗盒内吸走，从而保证了清洗液的洁净，并且能够防止基板上侧的污渍再次沉降附着在基板表面上，如此即可保证基板清洗完成并取出后，其表面不会附着污渍，如此即可节省二次冲洗工序，从而极大地提高了基板清洗的效率，并且含有污渍的清洗液不断的被吸出，而新的清洗液会被喷入清洗盒内，可以使得被剥离清除下来的污渍逐渐的从清洗盒内被清除，从而保证了清洗的质量和效果。

2、该半导体激光器基板清洗装置，通过设置的污水重复利用单元，其中的污水净化器可以对被从清洗盒内部吸出的污水进行有效的净化，然后将净化完成的清洗液送水储液箱中，如此使得净化后的水可以再次被喷液冲洗部喷入清洗盒内，从而实现了清洗液的重复利用，极大地节约了资源并降低了清洗成本。

3、该半导体激光器基板清洗装置，通过设置的升降单元可以将第一竖管、第二竖管和吸水罩从清洗盒内抬升出来，如此便于工作人员对清洗盒进行清理维护，有效的提高了该装置的实用性和使用体验。

附图说明

图1为本实用新型第一结构示意图；

图2为本实用新型第二结构示意图；

图3为本实用新型正视剖视图；

图4为图3中A处的放大示意图；

图5为连接单元和托板连接示意图。

图中：1、清洗箱体；2、清洗盒；3、超声波发生组件；4、托板；5、冲洗单元；51、喷液冲洗部；511、第一竖管；512、进液管；513、进液泵；514、连接管；515、横管；52、污水吸收部；521、第二竖管；522、吸水罩；523、出液管；524、出液泵；525、送水管；6、升降单元；61、电动推杆；62、升降板；7、污水重复利用单元；71、储液箱；72、污水净化器；8、连接单元； 81、伸缩杆；82、止位板；83、弹性件；84、插杆；85、插孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-5，一种半导体激光器基板清洗装置，包括清洗箱体1，且清洗箱体1内安装有清洗盒2，清洗箱体1内设有超声波发生组件3，且超声波发生组件3与清洗盒2相连接，清洗盒2的内侧壁上设有托板4，且托板4上具有放置腔，托板4底部为镂空设计，保证对基板进行更加全面的清洗，托板4左右侧壁上对称开设有两组溢流槽41，从而使得含有污渍的清洗液更好地被从基板上冲洗掉，清洗箱体1上设有冲洗单元5，且冲洗单元5包括喷液冲洗部51和污水吸收部52。

其中，喷液冲洗部51包括与清洗箱体1顶部相连接的至少一个第一竖管 511，第一竖管511喷液端延伸至清洗盒2内部，且第一竖管511喷液端底部与托板4顶端相平齐，防止喷出的清洗液直接冲击基板，保证了基板的安全，第一竖管511连通有连接管514，连接管514连通有横管515，横管515连通有进液管512，且进液管512上安装有进液泵513，其中连接管514为软管，使得第一竖管511能够将清洗液喷向基板上侧，从而将基板上侧含有大量污渍的清洗液冲走，防止被清除下来的污渍二次附着在基板表面，保证了清洗的效果，且第一竖管511还连接有新液管，从而保证可以将新的清洗液注入清洗盒2内，保证了清洗盒2内的清洗液具有足够的浓度，从而保证了清洗的效果。

其中，污水吸收部52包括与清洗箱体1顶部相连接的至少一个第二竖管 521，第一竖管511与第二竖管521对称设置，且第二竖管521的数量与第一竖管511的数量相等且一一对齐，第二竖管521吸水端延伸至清洗盒2内部并连通有吸水罩522，第二竖管521连通有连接管514，连接管514连通有横管515，横管515连通有出液管523，且出液管523上安装有出液泵524，可以将被冲走的含有污渍的清洗液及时的从清洗盒2内吸走，从而保证了清洗液的洁净度，进而提高了对基板的清洗效果。

其中，还包括对称设在清洗箱体1上的两个升降单元6，且喷液冲洗部 51和污水吸收部52分别通过两个升降单元6与清洗箱体1顶部相连接，使得第一竖管511、第二竖管521和吸水罩522可以被从清洗盒2内抬升出来，从而便于工作人员清理维护清洗盒2，提高了该装置的可靠性。

其中，升降单元6包括对称设在清洗箱体1顶部的两组电动推杆61，两组电动推杆61上对称连接有两个升降板62，第一竖管511转动连接在一个升降板62底部，且第一竖管511顶端贯穿升降板62并延伸至升降板62上侧，第二竖管521固定插接在另一个升降板62底部。

其中，冲洗单元5还包括设在与喷液冲洗部51相连接的升降板62上的喷射角调节单元53，喷射角调节单元53包括连接在升降板62顶部的气缸531，气缸531上连接有摩擦条532，喷射角调节单元53还包括固定套接在第一竖管511外周面上的摩擦轮533，且摩擦轮533外周面与摩擦条532侧面相抵触，通过气缸531推动摩擦条532前后往复移动，摩擦条532带动摩擦轮533逆时针或顺时针往复转动，从而带动第一竖管511逆时针或顺时针往复转动，从而扩大了第一竖管511的冲洗范围，进一步提高了清洗的质量和效果。

其中，还包括设在清洗箱体1上的污水重复利用单元7，能够使得含有污渍的清洗液被净化后再次用于对基板的冲洗，如此能够极大的节约清洗液并降低了清洗成本。

其中，污水重复利用单元7包括设在清洗箱体1内底壁上的储液箱71，且污水重复利用单元7还包括连接在清洗箱体1顶部的污水净化器72，且进液管512远离第一竖管511的一端贯穿清洗箱体1顶部并与储液箱71侧面相连通，出液管523远离第二竖管521的一端与污水净化器72相连通，污水净化器72底部连通有送水管525，且送水管525另一端贯穿清洗箱体1顶部并与储液箱71的侧面相连通。

其中，托板4通过连接单元8可拆卸地连接在清洗盒2内侧壁上，使得工作人员可以便捷的将托板4取下来，从而便于托板4和清洗盒2的清洗维护，并且可以根据所要清洗的基板大小不同，来更换具有不同大小放置腔41 的托板4，提高了该装置的实用性。

其中，连接单元8包括对称设在清洗盒2前后内壁上的两组伸缩杆81，伸缩杆81远离清洗盒2内侧壁的一端均连接有止位板82，止位板82与清洗盒2内侧壁之间连接有弹性件83，止位板82远离伸缩杆81的侧面连接有插杆84，连接单元8还包括开设有托板4前后侧面上的两组插孔85，且两组插杆84分别插入两组插孔85内，能够保证托板4在清洗盒2内的连接稳固性，保证了清洗工作的顺利进行。

工作原理，工作时，工作人员将待清洗的基板放置到托板4上的放置腔内，然后启动超声波发生组件3配合清洗盒2内的清洗液对基板进行清洗，随着清洗的进行，基板表面的污渍被剥离清除下来并融入清洗液中，清洗一段时间后，启动进液泵513通过进液管512将储液箱71内清洗液通过第一竖管511喷向基板上侧，从而能够将基板上侧含有大量污渍的清洗液冲走，同时启动出液泵524配合吸水罩522、第二竖管521和出液管523将被冲走的含有污渍的清洗液吸入污水净化器72内，污水被净化后通过送水管525被送入储液箱71内，然后被净化的清洗液再次被第一竖管511喷入清洗盒2内，实现了对清洗液的重复利用，节约了清洗液和清洗成本。

并且在第一竖管511对基板进行冲洗时，启动气缸531带动摩擦条532 前后往复移动，摩擦条532带动摩擦轮533逆时针或顺时针往复转动，摩擦轮533带动第一竖管511逆时针或顺时针往复转动，从而增大了第一竖管511 的冲洗范围，进一步提高了清洗的效果和质量。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种半导体激光器基板清洗装置，包括清洗箱体(1)，且清洗箱体(1)内安装有清洗盒(2)，清洗箱体(1)内设有超声波发生组件(3)，且超声波发生组件(3)与清洗盒(2)相连接，其特征在于：所述清洗盒(2)的内侧壁上设有托板(4)，且托板(4)上具有放置腔，所述清洗箱体(1)上设有冲洗单元(5)，且冲洗单元(5)包括喷液冲洗部(51)和污水吸收部(52)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述喷液冲洗部(51)包括与清洗箱体(1)顶部相连接的至少一个第一竖管(511)，所述第一竖管(511)喷液端延伸至清洗盒(2)内部，且第一竖管(511)喷液端底部与托板(4)顶端相平齐，所述第一竖管(511)连通有进液管(512)，且进液管(512)上安装有进液泵(513)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述污水吸收部(52)包括与清洗箱体(1)顶部相连接的至少一个第二竖管(521)，所述第一竖管(511)与第二竖管(521)对称设置，且第二竖管(521)的数量与第一竖管(511)的数量相等且一一对齐，所述第二竖管(521)吸水端延伸至清洗盒(2)内部并连通有吸水罩(522)，所述第二竖管(521)连通有出液管(523)，且出液管(523)上安装有出液泵(524)。

4.根据权利要求3所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，还包括对称设在清洗箱体(1)上的两个升降单元(6)，且喷液冲洗部(51)和污水吸收部(52)分别通过两个升降单元(6)与清洗箱体(1)顶部相连接。

5.根据权利要求4所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述升降单元(6)包括对称设在清洗箱体(1)顶部的两组电动推杆(61)，两组所述电动推杆(61)上对称连接有两个升降板(62)，所述第一竖管(511)转动连接在一个升降板(62)底部，且第一竖管(511)顶端贯穿升降板(62)并延伸至升降板(62)上侧，所述第二竖管(521)固定插接在另一个升降板(62)底部。

6.根据权利要求5所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述冲洗单元(5)还包括设在与喷液冲洗部(51)相连接的升降板(62)上的喷射角调节单元(53)，所述喷射角调节单元(53)包括连接在升降板(62)顶部的气缸(531)，所述气缸(531)上连接有摩擦条(532)，所述喷射角调节单元(53)还包括固定套接在第一竖管(511)外周面上的摩擦轮(533)，且摩擦轮(533)外周面与摩擦条(532)侧面相抵触。

7.根据权利要求3所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，还包括设在清洗箱体(1)上的污水重复利用单元(7)。

8.根据权利要求7所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述污水重复利用单元(7)包括设在清洗箱体(1)内底壁上的储液箱(71)，且污水重复利用单元(7)还包括连接在清洗箱体(1)顶部的污水净化器(72)，且进液管(512)远离第一竖管(511)的一端贯穿清洗箱体(1)顶部并与储液箱(71)侧面相连通，所述出液管(523)远离第二竖管(521)的一端与污水净化器(72)相连通，所述污水净化器(72)底部连通有送水管(525)，且送水管(525)另一端贯穿清洗箱体(1)顶部并与储液箱(71)的侧面相连通。

9.根据权利要求1所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述托板(4)通过连接单元(8)可拆卸地连接在清洗盒(2)内侧壁上。

10.根据权利要求9所述的一种半导体激光器基板清洗装置，其特征在于，所述连接单元(8)包括对称设在清洗盒(2)前后内壁上的两组伸缩杆(81)，所述伸缩杆(81)远离清洗盒(2)内侧壁的一端均连接有止位板(82)，所述止位板(82)与清洗盒(2)内侧壁之间连接有弹性件(83)，所述止位板(82)远离伸缩杆(81)的侧面连接有插杆(84)，所述连接单元(8)还包括开设有托板(4)前后侧面上的两组插孔(85)，且两组插杆(84)分别插入两组插孔(85)内。

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