CN217121082U - 一种清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗设备，包括第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽、第四槽为真空干燥槽；第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽均与第四槽为真空干燥槽之间有输入输出管道连接，每只槽的输入管道上串联阀门的液体驱动泵，真空干燥槽壁设有加热装置，每只槽的底部设有排污管和阀门；并设有真空系统、空压系统将真空管路和压力管路在上述槽的槽壁的上部通向上述槽内。该真空蒸馏清洗设备通过无水清洗工艺替代了传统溶剂，实现了无废水排放，解决了行业痛点。溶剂的循环使用可降低清洗成本，并行成更长的清洗寿命和更少的更换溶剂周期。

Description

一种清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种无水清洗装置，尤其是针对半导体芯片、电路板、系统封装、功率器件等产品清洗设备。

背景技术

电子和半导体领域，为了确保产品的性能和寿命，组装前一般会有一道清洗工艺，去除产品表面的助焊剂等污染物残留。

传统的工艺一般采用在线喷淋设备，配合水基清洗剂加大量去离子水漂洗，出现大量的清洗废水需要处理。或者采用低闪电的不环保溶剂清洗，存在安全隐患且对环境不造成污染。

随着国内高端电子/半导体行业的迅速发展，如何在有效完成产品清洗的情况下，最大限度的降低成本、减少环境污染、消除安全隐患、实现可循环利用，是行业面临的重要问题。

正溴丙烷，二氯甲烷等国家不允许使用的溶剂，部分溶剂作用于铜铝易变色。

202011485655一种适应复杂工况的液压驱动型光伏组件无水清洗装置，主要是机械式结构，包括卧式的龙骨，龙骨顶部具有顶板，前部具有前板，后部具有后板，一侧为马达侧安装支架，另一侧为无马达侧安转支架；马达侧安装支架与无马达侧安转支架之间具有可径向转动的中间滚筒，马达侧安装支架上具有驱动中间滚筒转动的毛刷液压马达，中间滚筒的表面分布有毛刷；顶板上设有吸尘管道，吸尘管道一端为风机。

实用新型内容

实用新型目的：为了上述技术问题，本实用新型提供一种清洗剂可循环使用的密闭蒸馏无水清洗设备，通过真空蒸馏，实现了漂洗液循环利用，从而解决了上述行业问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案为：一种清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗设备，包括第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽、第四槽为真空干燥槽；第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽均与第四槽为真空干燥槽之间有输入输出管道连接，每只槽的输入管道上串联阀门的液体驱动泵，真空干燥槽壁设有加热装置(导热媒体或电热)，每只槽的底部设有排污管和阀门；并设有真空系统、空压系统将真空管路和压力管路在槽壁的上部通向槽内。

以上四只清洗槽和真空干燥槽以及连接管和阀门装在一个机架上、

机架上可以装有门板、槽及超声波清洗装置、过滤循环系统、前三只槽可以是循环串联槽，第四槽为真空干燥槽，真空干燥槽的热源可以是蒸汽发生器或电热，并设真空干燥槽配套的冷凝再生系统，冷凝再生系统的输出通过管道接前三只槽的清洗液输入端口；，并设有真空系统、空压系统以及人机界面(PLC)和电气控制系统等组成。

第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽有相互的输入输出管道连接，使用同一种清洗或漂洗液时，第一槽洗过清洗液输出到第二槽、第二槽洗过清洗液输出到第三槽，第三槽洗过清洗液输出到真空干燥槽处理，处理完成后清洗液回用到前三槽之一；一槽换零件，第二槽新液洗过清洗液输出到第三槽，第三槽洗过清洗液输出一槽，一槽槽洗过清洗液输出到真空干燥槽处理，处理完成后清洗液回用到前三槽之一；二槽换零件后，第三槽新液洗过清洗液输出到第一槽，第一槽洗过清洗液输出二槽，二槽槽洗过清洗液输出到真空干燥槽处理，处理完成后清洗液回用到前三槽之一；如此循环。清洗液过肮时每只槽的底部设有排污管和阀门在施压时排出。

设备与专用清洗剂

M613和专用漂洗剂

M-Rinse14配合使用，在确保溶剂高闪电的情况下可以实现蒸馏再生。专用清洗剂和专用漂洗剂可以是同一产品，刚密闭超声波清洗槽与密闭超声波漂洗槽也是相同的产品。

流程也可以这种：第2槽中较脏的漂洗液会被自动抽取到蒸馏釜进行回收，回收得到的干净漂洗液再度回流到第3槽并自动溢流或泵送到第2槽。使槽内漂洗液始终保持在一个稳定的洁净度。清洗和漂洗液均可泵送到蒸馏槽分别蒸馏冷凝回用，由于采用高真空低温蒸馏方式，可以获得高纯度的再生清洗和漂洗液。

1、其性能方面：各类泵体、(电动)阀门、管路均严格接地。各类控制阀门采用气动控制，提高设备的安全性与可靠性。采用蒸汽加热的间接加热方式，加热安全易控。精确的温度控制，超出设定警戒温度时设备报警并停机。采用光电式液面传感器，多重液位检测，确保可靠。

2、耗电量低,是同类水洗设备耗电量的一半以下。与水溶性清洗液不同，转悠清洗液对于各类不同材质的产品都具有广泛的适用性，且管理成本极低。

3、专用清洗剂

M613和专用漂洗剂

M-Rinse14的极性、亲水性、表面张力等许多性质可通过结构设计而加以调控，使其具有更强的清洗效果和效率的同时，更加绿色环保。

有益效果：本发明提供的一种清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗解决方案，相对于现有清洗工艺，具有以下优点：

1、应用于无水清洗工艺，完全兼容铜，铝等金属。完全安全替换过去客户使用的正溴丙烷，二氯甲烷等国家不允许使用的溶剂。完全无需担心铜框架(基板)变色的前提条件下，更有效的清洗和漂洗。真空干燥，为下一步工艺打下更“干净”的基础。

2、无废水排放，消除客户废水环评的痛苦，大幅降低因排放造成的高清洗成本。完全使用环保溶剂清洗和漂洗，和业内水洗相比，完全没有废水排放，产能增加也只需要增加设备而已，完全无需申请废水排放扩容。不需要去修建废水处理站或者增加任何废水处理设备。

3、溶剂循环使用，减少浪费，降低成本。超长的清洗寿命，减少客户溶剂更换周期，降低成本。完善体贴的工艺设计，直接放在magazine中清洗，减少工艺流转数倍提高产能。

4、

M613是一款适用于真空蒸馏清洗设备的专业电子及半导体产品清洗溶剂有效去除免洗和松香型助焊剂残留物。安全环保、操作方便、使用寿命长，与真空蒸馏设备搭配使用可以取得最佳清洗效果。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作更进一步的说明。如图所示，第一槽真空超声波清洗槽T1、第二槽真空超声波漂洗槽T2、第三槽真空超声波漂洗槽T3、第四槽真空干燥T4。

该设备方案实施过程中，还需调节预热时间、清洗速度、液位位置、阀体角度、超声频率等，确保清洗效果和蒸馏效果。

清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗设备，以上设备的应用包括：真空蒸馏清洗设备本申请人命名为HYSHION VDC-ECO，与专用清洗剂

M613和专用漂洗剂

M-Rinse14配合使用。清洗流程为：进料→清洗剂超声清洗→漂洗剂超声漂洗→漂洗剂超声漂洗→真空干燥→手动出料。(详见图1)。在确保溶剂高闪电的情况下可以实现蒸馏再生。漂洗剂的蒸馏再生，就是利用漂洗剂与污染物之间的沸点差，将溶有污染物的漂洗剂加热到它的沸点以上并控制在污染物的沸点以下，使漂洗剂汽化，而污染物还是在液体状态，然后通过冷凝装置使气化的漂洗剂重新凝结成纯净的液体状态，从而实现了持续的漂洗剂循环再生。

其包括：串联的三个槽：T1、T2、T3及超声波清洗装置、过滤循环系统、蒸汽发生器和蒸馏再生系统、蒸汽系统、真空系统、空压系统、连接管道和控制阀门；另可包括人机界面(PLC)和电气控制系统等组成。还包括机架、门板、构成的整体设备申请人命名为HYSHIONVDC-ECO；实施例中，三个清洗槽中的T1为清洗槽、T2、T3均为漂洗槽；

三个槽T1、T2、T3也可均为清洗槽，清洗槽用的清洗剂漂洗槽用的漂洗剂只是略有配方的不同。可以参考本申请人的网站配方介绍并选择使用。

进一步，在于第2槽中较脏的清洗或漂洗液会被自动抽取到蒸馏釜进行回收，回收得到的干净清洗液或漂洗液再度回流到第3槽并自动溢流到第2槽。使槽内清洗液始终保持在一个稳定的洁净度。由于第四槽真空干燥T4，采用高真空低温蒸馏方式，可以获得高纯度的再生漂洗液(清洗液)。

1、其性能方面：各类泵体、管路均严格接地。各类控制阀体采用气动控制，提高设备的安全性与可靠性。采用蒸汽加热的间接加热方式，加热安全易控。精确的温度控制，超出设定警戒温度时设备报警并停机。采用光电式液面传感器，多重液位检测，确保可靠。

2、耗电量低,是同类水洗设备耗电量的一半以下。与水溶性清洗液不同，转悠清洗液对于各类不同材质的产品都具有广泛的适用性，且管理成本极低。

3、专用清洗剂

M613和专用漂洗剂

M-Rinse14的极性、亲水性、表面张力等许多性质可通过结构设计而加以调控，使其具有更强的清洗效果和效率的同时，更加绿色环保。

第2槽T2中较脏的清洗剂会被自动抽取到蒸馏釜进行回收，回收得到的干净清洗液再度回流到第3槽T3并自动溢流到第2槽T2。使槽内清洗液始终保持在一个稳定的洁净度。由于采用高真空低温蒸馏方式，可以获得高纯度的再生清洗液。

漂洗剂(清洗剂)的蒸馏再生，就是利用漂洗剂与污染物之间的沸点差，将溶有污染物的漂洗剂加热到它的沸点以上并控制在污染物的沸点以下，使漂洗剂汽化，而污染物还是在液体状态，然后通过冷凝装置使气化的漂洗剂重新凝结成纯净的液体状态，从而实现了持续的漂洗剂循环再生

本申请人可以提供配套的溶剂，如I-LiquidM613清洗溶剂，这是一款适用于真空蒸馏清洗设备的专业电子及半导体产品清洗溶剂有效去除免洗和松香型助焊剂残留物。安全环保、操作方便、使用寿命长，与真空蒸馏设备搭配使用可以取得最佳清洗效果。专用漂洗剂

M-Rinse14的效果也很好。

本实用新型用于无水清洗工艺，完全兼容铜，铝等金属，完全安全替换过去客户使用的正溴丙烷，二氯甲烷等国家不允许使用的对环境损害极大的溶剂，完全无需担心铜框架(基板)变色的前提条件下，更有效的清洗和漂洗真空干燥，为相关客户下一步工艺打下更“干净”的基础；无废水排放，消除客户废水环评的痛苦，大幅降低因排放造成的高清洗成本，完全使用环保溶剂清洗和(无水)漂洗，和业内水洗相比，完全没有废水排放，产能增加也只需要增加设备而已，完全无需申请废水排放扩容不需要去修建废水处理站或者增加任何废水处理设备。所有装置可以集中安装在一个平台或箱体。包括控制设备、连接管道、温度压力传感设备、泵、阀门及与第四槽配套的真空及加热设备。P为泵，F为过滤器，T1、T2或/和T3的出口配有串联的循环泵和过滤器，洗后的清洗或漂洗剂脏的固体物质可以过滤掉。过滤器是粗过滤器。本实用新型是一种紧凑而关联的重要设备，在使零件不变色的前提条件下，更有效的清洗和漂洗真空干燥，超声清洗的功率和频率可调。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置，其特征是，包括第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽、第四槽为真空干燥槽；第一槽密闭超声波清洗槽、第二槽密闭超声波漂洗槽、第三槽密闭超声波漂洗槽均与第四槽为真空干燥槽之间有输入输出管道连接，每只槽的输入管道上串联阀门的液体驱动泵，真空干燥槽壁设有加热装置，每只槽的底部设有排污管和阀门；并设有真空系统、空压系统将真空管路和压力管路在上述槽的槽壁的上部通向上述槽内。

2.根据权利要求1所述的清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置，其特征是，以上四只清洗槽和真空干燥槽以及连接管和阀门装在一个机架上、机架上装有门板、槽及超声波清洗装置。

3.根据权利要求1所述的清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置，其特征是，前三只槽中的槽的出口配有串联的循环泵和过滤器。

4.根据权利要求1所述的清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置，其特征是，真空干燥槽的热源是蒸汽发生器或电热，并设真空干燥槽配套的冷凝再生系统，冷凝再生系统的输出通过管道接前三只槽的清洗液输入端口。

5.根据权利要求1所述的清洗剂可循环使用的真空蒸馏无水清洗装置，其特征是，前三只槽是循环串联槽，第四槽为真空干燥槽。

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