CN217026066U - 一种雾化辅助cvd薄膜沉积装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，包括底座，所述底座的上侧壁对称固定连接有固定杆，两个所述固定杆的外壁均滑动套设有套筒，位于同一侧的所述套筒的内顶壁和固定杆的顶端之间均固定连接有弹簧，两个所述套筒的上顶壁共同固定连接有镀膜槽，两个所述套筒相对的一侧均转动连接有转杆。本实用新型通过转杆将部分振动能量传递至缓冲板，并通过阻尼液进行吸收振动能量，从而避免长期振动对设备造成损坏，而影响使用寿命，冷凝设备和弯曲的冷凝管的配合使用，可以快速对镀膜槽进行降温，从而提高冷凝效率，以及刮板向相反方向移动，移动的过程，刮板将镀膜槽底部的沉积物推挤到一块，从而完成对镀膜槽的清扫。

Description

一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置

技术领域

本实用新型涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置。

背景技术

薄膜材料具有广泛的用途，现有的镀膜方法主要有化学气相沉积法(简称CVD)和物理气相沉积法(简称PVD)这两大类，且每一类镀膜方法又因为材料特征等因素而细分出很多小类的镀膜方法。目前，常规的CVD沉积法前驱体为全气相物，输入到反应装置的反应区受热或受到其他物理场的激发后发生化学反应，并沉积在衬底表面，且CVD方法适合制备高质量的薄膜，但是成本高，薄膜沉积速度慢，大部分CVD工艺需要在真空环境下进行。衬底有多种结构，比如平面衬底和非平面衬底，目前平面衬底常常直接放置在反应区的底平面上。

另外，目前还有一种热解喷涂的方法用于在衬底上制备薄膜，这种方法一般先将前驱体物质配置为混合溶液，再置于雾化源中，雾化源雾化成气溶胶后再将液体气溶胶输入反应室后在反应区发生热解反应，进而在衬底表面镀膜。热解喷涂方法制备的薄膜质量一般，但成膜速度快、效率高、在常压下进行，成本低。

现有的雾化辅助CVD薄膜沉积装置中镀膜槽内部经常堆积大量的沉积物，采用人工清理，工作量大，而且效率低，此外镀膜槽不具备一定的减震功能，长期的振动，会影响设备的使用寿命。

为此，提出一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决背景技术中的问题，而提出的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，包括底座，所述底座的上侧壁对称固定连接有固定杆，两个所述固定杆的外壁均滑动套设有套筒，位于同一侧的所述套筒的内顶壁和固定杆的顶端之间均固定连接有弹簧，两个所述套筒的上顶壁共同固定连接有镀膜槽，两个所述套筒相对的一侧均转动连接有转杆，所述底座上设置有缓冲机构，所述底座的右端上侧壁固定连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端安装有冷凝设备，所述镀膜槽的外壁一周固定连接有冷凝管，所述冷凝设备的输入端和输出端均固定连接有连接管，两个所述连接管分别和冷凝管端部固定连接，所述镀膜槽的内壁转动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的外壁固定套设有蜗轮，所述镀膜槽的右侧内壁固定连接有电机，电机的驱动端固定连接有与蜗轮相啮合的蜗杆，所述螺纹杆的外壁对称螺纹连接有刮板。

优选地，所述缓冲机构包括固定连接在底座上侧壁的密封管，所述密封管的两端均滑动插设有延伸至密封管内部的插杆，两个所述插杆相对的一端均固定连接有与密封管内壁滑动连接的缓冲板，位于同一侧的所述插杆和转杆之间转动连接。

优选地，两个所述缓冲板上均匀开设有多个通孔。

优选地，所述密封管内填充有阻尼液。

优选地，所述镀膜槽的内壁固定嵌设有轴承，两个所述轴承的内圈均和螺纹杆的外壁固定连接。

与现有的技术相比，本一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置的优点在于：

1、设置缓冲机构、固定杆、套筒和弹簧，工作时，镀膜槽产生的振动，将通过套筒传递至弹簧和转杆，转杆将部分振动能量传递至缓冲板，并通过阻尼液进行吸收振动能量，从而避免长期振动对设备造成损坏，而影响使用寿命；

2、设置冷凝设备、连接管和冷凝管，冷凝设备和弯曲的冷凝管的配合使用，可以快速对镀膜槽进行降温，从而提高冷凝效率；

3、设置电机、蜗轮、蜗杆、螺纹杆和刮板，启动电机，电机的驱动端带动蜗杆顺时针转动，进而带动与之相啮合的蜗轮和螺纹杆顺时针转动，从而使刮板向相反方向移动，移动的过程，刮板将镀膜槽底部的沉积物推挤到一块，从而完成对镀膜槽的清扫；

综上所述，本实用新型通过转杆将部分振动能量传递至缓冲板，并通过阻尼液进行吸收振动能量，从而避免长期振动对设备造成损坏，而影响使用寿命，冷凝设备和弯曲的冷凝管的配合使用，可以快速对镀膜槽进行降温，从而提高冷凝效率，以及刮板向相反方向移动，移动的过程，刮板将镀膜槽底部的沉积物推挤到一块，从而完成对镀膜槽的清扫。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置中密封管的剖视图；

图3为本实用新型提出的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置中镀膜槽的俯视图。

图中：1底座、2固定杆、3套筒、4密封管、5转杆、6插杆、7缓冲板、8阻尼液、9镀膜槽、10支撑杆、11冷凝设备、12连接管、13冷凝管、14螺纹杆、15蜗轮、16电机、17蜗杆、18刮板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-3，一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，包括底座1，底座1的上侧壁对称固定连接有固定杆2，两个固定杆2的外壁均滑动套设有套筒3，位于同一侧的套筒3的内顶壁和固定杆2的顶端之间均固定连接有弹簧，两个套筒3的上顶壁共同固定连接有镀膜槽9，两个套筒3相对的一侧均转动连接有转杆5，底座1上设置有缓冲机构，缓冲机构包括固定连接在底座1上侧壁的密封管4，密封管4的两端均滑动插设有延伸至密封管4内部的插杆6，两个插杆6相对的一端均固定连接有与密封管4内壁滑动连接的缓冲板7，两个缓冲板7上均匀开设有多个通孔；

位于同一侧的插杆6和转杆5之间转动连接，密封管4内填充有阻尼液8，镀膜槽9产生的振动，将通过套筒3传递至弹簧和转杆5，转杆5将部分振动能量传递至缓冲板7，并通过阻尼液8进行吸收振动能量，从而避免长期振动对设备造成损坏，而影响使用寿命，底座1的右端上侧壁固定连接有支撑杆10，支撑杆10的顶端安装有冷凝设备11，镀膜槽9的外壁一周固定连接有冷凝管13，冷凝设备11的输入端和输出端均固定连接有连接管12，两个连接管12分别和冷凝管13端部固定连接，冷凝设备11和弯曲的冷凝管13的配合使用，可以快速对镀膜槽9进行降温，从而提高冷凝效率，镀膜槽9的内壁转动连接有螺纹杆14，镀膜槽9的内壁固定嵌设有轴承；

两个轴承的内圈均和螺纹杆14的外壁固定连接，螺纹杆14的外壁固定套设有蜗轮15，镀膜槽9的右侧内壁固定连接有电机16，电机16的驱动端固定连接有与蜗轮15相啮合的蜗杆17，螺纹杆14的外壁对称螺纹连接有刮板18，电机16的驱动端带动蜗杆17顺时针转动，进而带动与之相啮合的蜗轮15和螺纹杆14顺时针转动，从而使刮板18向相反方向移动，移动的过程，刮板18将镀膜槽9底部的沉积物推挤到一块，从而完成对镀膜槽9的清扫。

进一步说明，上述固定连接，除非另有明确的规定和限定，否则应做广义理解，例如，可以是焊接，也可以是胶合，或者一体成型设置等本领域技术人员熟知的惯用手段。

现对本实用新型的操作原理作如下阐述：

工作时，镀膜槽9产生的振动，将通过套筒3传递至弹簧和转杆5，转杆5将部分振动能量传递至缓冲板7，并通过阻尼液8进行吸收振动能量，从而避免长期振动对设备造成损坏，而影响使用寿命，冷凝设备11和弯曲的冷凝管13的配合使用，可以快速对镀膜槽9进行降温，从而提高冷凝效率，启动电机16，电机16的驱动端带动蜗杆17顺时针转动，进而带动与之相啮合的蜗轮15和螺纹杆14顺时针转动，从而使刮板18向相反方向移动，移动的过程，刮板18将镀膜槽9底部的沉积物推挤到一块，从而完成对镀膜槽9的清扫。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)的上侧壁对称固定连接有固定杆(2)，两个所述固定杆(2)的外壁均滑动套设有套筒(3)，位于同一侧的所述套筒(3)的内顶壁和固定杆(2)的顶端之间均固定连接有弹簧，两个所述套筒(3)的上顶壁共同固定连接有镀膜槽(9)，两个所述套筒(3)相对的一侧均转动连接有转杆(5)，所述底座(1)上设置有缓冲机构，所述底座(1)的右端上侧壁固定连接有支撑杆(10)，所述支撑杆(10)的顶端安装有冷凝设备(11)，所述镀膜槽(9)的外壁一周固定连接有冷凝管(13)，所述冷凝设备(11)的输入端和输出端均固定连接有连接管(12)，两个所述连接管(12)分别和冷凝管(13)端部固定连接，所述镀膜槽(9)的内壁转动连接有螺纹杆(14)，所述螺纹杆(14)的外壁固定套设有蜗轮(15)，所述镀膜槽(9)的右侧内壁固定连接有电机(16)，电机(16)的驱动端固定连接有与蜗轮(15)相啮合的蜗杆(17)，所述螺纹杆(14)的外壁对称螺纹连接有刮板(18)。

2.根据权利要求1所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于，所述缓冲机构包括固定连接在底座(1)上侧壁的密封管(4)，所述密封管(4)的两端均滑动插设有延伸至密封管(4)内部的插杆(6)，两个所述插杆(6)相对的一端均固定连接有与密封管(4)内壁滑动连接的缓冲板(7)，位于同一侧的所述插杆(6)和转杆(5)之间转动连接。

3.根据权利要求2所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于，两个所述缓冲板(7)上均匀开设有多个通孔。

4.根据权利要求2所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于，所述密封管(4)内填充有阻尼液(8)。

5.根据权利要求1所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于，所述镀膜槽(9)的内壁固定嵌设有轴承，两个所述轴承的内圈均和螺纹杆(14)的外壁固定连接。

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