CN216964020U - 一种半导体新材料加工专用油雾收集器 - Google Patents

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曹小荣
许晓靖
曹凌峰
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Quzhou Teos Semiconductor Equipment Manufacturing Co ltd
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Hangzhou Teos Semiconductor Equipment Manufacturing Co ltd
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Abstract

本实用新型涉及半导体相关技术领域,特别是一种半导体新材料加工专用油雾收集器,包括箱体,所述箱体内从上至下设有导流腔、过滤腔、沉淀腔,所述过滤腔内设有过滤装置,两两之间设有过滤网,所述过滤腔设有闭合门,所述导流腔连接有集风斗,所述箱体的侧壁连接有导向斗,所述导向斗位于所述过滤腔下方;本实用新型通过设置导流腔和过滤腔,使过滤和进风分隔开,并在腔体之间设有过滤网,防止收集的油雾随意渗透,于过滤腔处设有闭合门,可通过闭合门打开过滤腔,从而只进行对过滤装置的拆卸工作,从而减轻清理工作的负担,提升效率。

Description

一种半导体新材料加工专用油雾收集器
技术领域
本实用新型涉及半导体相关技术领域,特别是一种半导体新材料加工专用油雾收集器。
背景技术
半导体是常温下导电性能介于绝缘体和导体之间的材料,半导体应用广泛,因此也有越来越多的新材料加入使用。半导体新材料在多次加工处理后才能更好的进行使用,数控机床在对半导体加工时通常采用切削油作为冷却液,但在加工过程中,切削油在进行切割的过程中会高温雾化,形成油雾,容易影响机器使用。现有的油雾收集器一般为一体化的处理,通过组装在一起的一套设备进行过滤,过滤设备包裹在机体内部,清洗时需要将机体完全拆开,较为繁琐。
实用新型内容
为了解决背景技术中提到的至少一个技术问题,本实用新型的目的在于提供一种半导体新材料加工专用油雾收集器,解决过滤装置清洗不便的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半导体新材料加工专用油雾收集器,包括箱体,所述箱体内从上至下设有导流腔、过滤腔、沉淀腔,所述过滤腔内设有过滤装置,两两之间设有过滤网,所述过滤腔设有闭合门,所述导流腔连接有集风斗,所述箱体的侧壁连接有导向斗,所述导向斗位于所述过滤腔下方。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过设置导流腔和过滤腔,使过滤和进风分隔开,并在腔体之间设有过滤网,防止收集的油雾随意渗透,于过滤腔处设有闭合门,可通过闭合门打开过滤腔,从而只进行对过滤装置的拆卸工作,从而减轻清理工作的负担,提升效率。
进一步,所述过滤腔包括一级过滤腔和二级过滤腔,所述过滤装置包括有二级过滤器和叶轮,所述二级过滤器位于所述二级过滤腔内,所述叶轮,所述一级过滤腔连接有第一密封门,所述二级过滤腔连接有第二密封门。
进一步,所述一级过滤腔和所述二级过滤腔之间设有隔离网,所述一级过滤腔的侧壁连接有电机,所述电机的输出轴伸入所述隔离网,所述叶轮于所述隔离网内和所述电机的输出轴连接。
进一步,所述导流腔和所述二级过滤腔之间设有一级过滤网,所述箱体于所述二级过滤腔下侧设有沉淀腔,所述沉淀腔和所述二级过滤腔之间设有三级过滤网。
进一步,所述沉淀腔的侧壁和所述导向斗连接,所述导向斗上连接有烟管,所述沉淀腔的侧壁设有用于辅助进风的通风口,所述导向斗和所述通风口镜像设置。
进一步,所述沉淀腔的底壁连接有排油阀。
进一步,所述集风斗的上侧连接有防护网。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的整体结构示意图;
图2为本实用新型一实施例的剖面结构示意图;
图3为图2中A处放大结构示意图。
图中:11、防护网;12、箱体;13、烟管;14、通风口;15、导向斗;21、二级过滤器;22、拉进螺杆;23、叶轮;24、电机;25、一级过滤网;26、三级过滤网;31、导流腔;32、一级过滤腔;33、二级过滤腔;34、沉淀腔;41、集风斗;42、排油阀。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例:
请参阅图1,本实用新型提供一种半导体新材料加工专用油雾收集器,包括箱体12,所述箱体12呈长方体,竖直设置,所述箱体12内从上至下设有导流腔31、过滤腔、沉淀腔34,两两腔体之间设有过滤网,通过过滤网进行分隔工作。
所述导流腔31位于所述箱体12的最上方,所述导流腔31的顶壁设有开口,所述导流腔31于开口处连接有集风斗41,用于引流烟气进入箱体12内部的烟气流通,所述箱体12于开口处设有防护网11,所述从而防止杂物落入箱体12的内部,影响过滤工作,如图2所示。
所述过滤腔包括一级过滤腔32和二级过滤腔33,所述一级过滤腔32位于所述二级过滤腔33的上方,所述一级过滤腔32和所述二级过滤腔33之间设有防护网27,所述防护网27同样具有过滤油雾的效果,所述一级过滤腔32内设有电机24,所述电机24和所述一级过滤腔32的侧壁连接,所述电机24的下端设有输出轴,输出轴伸入所述防护网27连接有叶轮23,通过所述电机24驱动所述叶轮23转动,从而使箱体12内的空气流通,进而使油雾向下移动,如图3所示,所述二级过滤腔32内设有二级过滤器21,所述二级过滤器21为圆柱形的过滤结构,由多层滤网组合而成,多层滤网呈圆周阵列设置,并相互连接,所述二级过滤器21包括有拉进螺杆22,所述二级过滤器21通过拉进螺杆22和所述过二级过滤腔32的顶壁连接。
所述一级过滤腔32连接有第一密封门52,所述二级过滤腔33连接有第二密封门53,所述导流腔31连接有第三密封门51,所述箱体12将内部分为若干腔体,将过滤组件分别放在不同的腔体内,从而方便进行单独的清理维护,能提高工作效率,所述一级过滤腔32和所述引流腔31之间设有一级过滤网25,所述二级过滤腔33和所述沉淀腔34之间设有三级过滤网26,通过一级过滤网25、三级过滤网26将过滤腔和引流腔31、沉淀腔34连通,不影响正常的过滤工作。
所述箱体12上连接有导向斗15,所述导向斗15上连接有烟管13,通过所述沉淀腔34的侧壁和所述导向斗15连接,所述沉淀腔34的侧壁设有通风口14,所述通风口14可根据需要进行密封和打开,从而配合进行进出风的效果,所述沉淀腔34的底壁连接有排油阀42,沉淀的油污可从排油阀42处排出。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (7)

1.一种半导体新材料加工专用油雾收集器,包括箱体(12),其特征在于:所述箱体(12)内从上至下设有导流腔(31)、过滤腔、沉淀腔(34),所述过滤腔内设有过滤装置,两两腔体之间设有过滤网,所述过滤腔设有闭合门,所述导流腔(31)连接有集风斗(41),所述箱体(12)的侧壁连接有导向斗(15),所述导向斗(15)位于所述过滤腔下方。
2.根据权利要求1所述的一种半导体新材料加工专用油雾收集器,其特征在于:所述过滤腔包括一级过滤腔(32)和二级过滤腔(33),所述过滤装置包括有二级过滤器(21)和叶轮(23),所述二级过滤器(21)安装于所述二级过滤腔(33)内,所述叶轮(23),所述一级过滤腔(32)连接有第一密封门(52),所述二级过滤腔(33)连接有第二密封门(53)。
3.根据权利要求2所述的一种半导体新材料加工专用油雾收集器,其特征在于:所述一级过滤腔(32)和所述二级过滤腔(33)之间设有隔离网(27),所述一级过滤腔(32)的侧壁连接有电机(24),所述电机(24)的输出轴伸入所述隔离网(27),所述叶轮(23)于所述隔离网(27)内和所述电机(24)的输出轴连接。
4.根据权利要求2所述的一种半导体新材料加工专用油雾收集器,其特征在于:所述导流腔(31)和所述二级过滤腔(33)之间设有一级过滤网(25),所述沉淀腔(34)和所述二级过滤腔(33)之间设有三级过滤网(26)。
5.根据权利要求4所述的一种半导体新材料加工专用油雾收集器,其特征在于:所述沉淀腔(34)的侧壁和所述导向斗(15)连接,所述导向斗(15)上连接有烟管(13),所述沉淀腔(34)的侧壁设有用于辅助进风的通风口(14),所述导向斗(15)和所述通风口(14)镜像设置。
6.根据权利要求4所述的一种半导体新材料加工专用油雾收集器,其特征在于:所述沉淀腔(34)的底壁连接有排油阀(42)。
7.根据权利要求1所述的一种半导体新材料加工专用油雾收集器,其特征在于:所述集风斗(41)的上侧连接有防护网(11)。
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